• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2010년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.6-6
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• 2010

The $Sr_{0.7}Bi_{2.3}Nb_2O_9$(SBN) thin films are deposited on Pt-coated electrode (Pt/Ti/$SiO_2$/Si) using RF sputtering method at various deposition temperature. The crystallinity of SBN thin films were increased with increase of deposition temperature in the temperature range of 100~400[$^{\circ}C$]. The surface roughness of deposition temperature($300^{\circ}C$) showed about 4.33[nm]. The grain and crystallinity of SBN thin films were increased with the increase of annealing temperature.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
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• pp.269-269
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• 2010

고주파 마그네트론 동시 스퍼터링법을 이용하여 $TiO_2$ 박막에 탄소를 도핑한 C/$TiO_2$ 박막을 제작하고, 박막의 두께와 탄소 도핑량에 따른 물리적, 광학적 특성을 조사하였다. 스테인레스강을 기판으로 사용하였으며, $TiO_2$ 박막과 기판의 열팽창계수 차이에 의한 크랙을 방지하기 위하여 Ti 박막을 DC 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 기판위에 증착시킨 후 실험을 진행하였다. EMP(Essential Macleod Program) 시뮬레이션을 이용하여 막의 층상구조, 두께, 물질변화를 통한 다양한 색상의 칼라를 구현하고 투과율, 반사율 등을 포함한 다양한 광학 특성을 사전 예측하였다. 제작된 박막은 투께 및 밀도에 따라 다양한 색상을 구현하였으며, 박막내의 흡수와 산란효과에 의해 굴절률이 감소하였다. 또한 순수 $TiO_2$ 박막보다 접합력 및 경도가 증가함을 알 수 있었다.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제22권8호
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• pp.671-676
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• 2009

The $Sr_{0.7}Bi_{2.3}Nb_2O_9$(SBN) thin films are deposited on Pt-coated electrode(Pt/Ti/$SiO_2$/Si) using RF sputtering method at various deposition conditions. We investigated the effect of deposition condition on the surface morphology and dielectric properties of SBN thin films. The optimum of the rougness showed about 4.33 nm in 70/30 of Ar/$O_2$ ratio. The crystallinity and rougness of SBN thin films were increased with the increase of rf power. Also, Deposition rate of SBN thin films was about 4.17 nm/min in 70 W of rf power. The capacitance of SBN thin films were increased with the increase of Ar/$O_2$ ratio, rf power and deposition temperature respectively.

• 한국환경과학회:학술대회논문집
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• 한국환경과학회 2005년도 봄 학술발표회지 제14권(제1호)
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• pp.279-280
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• 2005

TiO$_{2}$ 와 TiO-N 박막의 결정성은 전부 아나타제이고, 박막표현 거칠기는 방전전압이 높은 TiO-N 박막의 TiO$_{2}$ 박막보다 크다. 또한 박막의 광흡수스펙트럼을 측정한 결과 아주 약간의 red-shift를 보였고 이는 가시광영역에서도 광촉매 활용이 가능할 것이라는 결론을 내릴 수 있었다. 향후 이러한 박막 특성을 바탕으로 실제 염료 또는 VOCs 물질을 제거하는 적용성 테스트를 통해 광촉매 실용화에 더 나아갈 수 있을 것이라 사료되어진다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1996년도 하계학술대회 논문집 C
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• pp.1648-1650
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• 1996

In present paper, Cu films $4{\mu}m$, thick were fabricated by dual deposition methods using RF magnetron sputtering on Si wafer. The dependence of the electrical resistivity, adherence, and reflection in Cu films [$Cu_{4-x}$(low resistivity) / $Cu_x$(high adherence) / Si- wafer] on the x thickness have been investigated. Cu films of $4{\mu}m$ thickness formed with dual deposition methods had the low electrical resistivity of about $2.6{\mu}{\Omega}{\cdot}cm$ and high adherence of about 700g/cm. In conclusion, it is possible for these films to be used for micro-devices.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제33권2호
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• pp.114-117
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• 2020

In this study, we performed the deposition of Al thin film using a DC magnetron sputtering method. To evaluate electrical and structural properties, the growth conditions were changed in terms of two functions, namely, sputtering power ranging from 41.6 to 216 W and film growth rate ranging from 5.35 to 26.39 nm/min. The growth rate and the microstructure were characterized by a scanning electron microscopy and X-ray diffraction analysis. The plane of crystalline growth showed that the preferential (111) direction and defects due to the grain boundary increased with DC power. The resistivity of the Al film over 50 nm showed a constant value by horizontal grain growth. Our results can be applicable for the preparation of nano-templates for anodic aluminum oxide.

• Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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• 제24권6호
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• pp.139-146
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• 2000

The development of high performance materials is very important subject in order to enhance the properties of bearings whose role is to transfer energy harmoniously by reducing the problem of friction and wear down, etc. between the interacting solid surfaces in relative motion under high loads in comply with mechanical operating mechanism of engines. In this study, several (100-x)Al-xSn coating films (where x=85, 75, 65 atomic % at Al) on substrates which are abt. 2mm thickenss of Kelmet layer sintered back steel were prepared by using RF sputtering system. These coating films were observed the morphology by SEM(Scanning Electron Microscope) and investigated the crystal structure by XRD(X-ray Diffractor) for their properties. And friction coefficient of these films was measured by ball-on-disc tester for their tribological properties. From the experimental results, it was shown that high performance properties of bearing can be improved greatly by controlling the composition and morphology of material surface with effective use of the plasma-assisted sputtering process.

• E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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• 제10권9호
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• pp.869-875
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• 1997

Bi based superconducting thin films were fabricated by 4-target RF magnetron sputtering using the method of controlling the on-off time. These thin films showed better crystal structures. The ratio of Cu/Bi decreased but the critical temperature increased with increasing the temperature of the substrate. High temperature phase low temperature of the substrate. High temperature phase low temperature phase and semiconducting phase can be formed by controlling the on-off time of the shutter respectively.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.104-104
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• 2009

최근 국내외 휴대용 IT 관련 산업에서는 제품의 소형화에 경량화에 따른 기술 개발과 더불어 다양한 색상의 구현을 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 휴대용 전자 부품에 있어서 PVD 코팅은 고경도 박막을 금속 판재 및 플라스틱 기판 상에 증착하여 표면경도를 증대시켜 내구성 향상에 활용되고 있으며, 질화물 계열을 통하여 Yellow, Blue, Black, Red계 등의 색상 구현이 가능하여 현재 가장 큰 구매력의 원천으로 평가되고 있는 제품 디자인 분야에 응용이 되고 있다. 본 연구에서는 아크이온 플레이팅법과 스퍼터링법을 이용하여 고경질, 고내식 표면층 형성방법 및 다양한 칼라를 구현하는 방법에대한 연구를 수행하였다.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.226-226
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• 2009

일반적으로 알루미늄이나 아연 등과 같은 이온화 경향이 큰 금속들은 그 자체의 활성적인 특성으로 인해 강재와 같은 이온화 경향이 낮은 금속재의 표면에 도금 또는 코팅함으로서 사용 환경 중 자체 내식성 보유와 더불어 손상 결함시 희생양극적인 역할 등의 잇점으로 많이 사용되고 있다. 본 연구에서는 DC 스퍼터링법에 의해 표면조직이 치밀한 여러 가지의 Zn-Mg 합금박막을 제작하였다. 이들 박막은 종래의 Zn도금에 비해 부식환경 중 장기간 갈바닉쌍을 형성하여 모재 금속에 대한 보호막 기능을 우수하게 하는 것으로 나타났다.