• 제목/요약/키워드: 스트리퍼폐액

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LCD 제조공정에서의 폐용매 분리처리를 위한 공정 설계 (Design of Waste Solvent Treatment Process from LCD Manufacturing Process)

  • 윤문규;이문용
    • 청정기술
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    • 제14권4호
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    • pp.275-280
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    • 2008
  • 연구에서는 LCD 제조 공정에서 배출되는 스트리퍼와 디벨로퍼 혼합 폐액(SD폐액)과 스트리퍼 폐수의 효과적 분리 및 처리를 위한 가능한 기술로서 추출공정과 증류공정의 기술적/경제적 타당성을 검토하였다. SD폐액과 스트리퍼 폐수의 추출분리를 위한 용매로 $CHCl_3$가 여러 가지 관점에서 가장 적절한 용매로 확인되었다. 또한 SD폐액 분리 회수를 위한 공정으로서 추출공정과 증류공정의 두 가지 공정에 대하여 정밀 전산모사를 수행한 결과 $CHCl_3$를 이용한 추출분리공정이 단순증류공정보다 6배 정도 에너지 소요비용이 적게 소요됨을 확인할 수 있었다.

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특허(特許)로 본 스트리핑 공정(工程) 재활용(再活用) 기술(技術) 동향(動向) (Trend on the Recycling Technologies for the waste stripper solution by the Patent Analysis)

  • 박명준;이호경;구기갑;강경석;한혜정
    • 자원리싸이클링
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    • 제18권1호
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    • pp.58-67
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    • 2009
  • 국내 포토레지스트 스트리퍼의 연간 소요량은 약 1000억원 규모(50, 000톤)로 대부분 전량 수입에 의존하고 있으나, 폐스트리퍼에는 각종 불순물이 함유되어 있어, 소각 또는 낮은 수준으로 재활용되어 오는데 그치고 있다. 최근 경제적 측면과 효율성 측면에서 스트리퍼 폐액의 재활용 기술이 폭넓게 연구되고 있다. 본 논문에서는 스트리퍼 폐액의 재활용에 관한 특허 기술을 분석하였다. 분석범위는 2007 9월까지 미국, 유럽연합, 일본과 한국에서 출원 및 공개된 특허로 제한하였다. 특허들은 전체적으로 검색어를 사용하여 수집되었고, 기준 기술 이외의 것을 여과하였다. 특허기술의 경향은 년도와 국가별, 기업 및 관련기술 분야별로 분석되었다.

포토레지스트 스트리퍼 폐액으로부터 고순도 유기용제 회수 (Reclamation of High Purity Organic Solvents from Waste Photoresist Stripper)

  • 김대진;오한상;김재경;박명준;이문용;구기갑
    • 청정기술
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    • 제13권4호
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    • pp.257-265
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    • 2007
  • 반도체 공정에서 배출되는 폐 포토레지스트 스트리퍼(photoresist stripper)의 주성분인 NMP (N-methy-pyrrolodione)와 BDG (Butyldiglyrcol)를 회수하여 재활용할 목적으로 나선형 스핀밴드시스템(spinning band stem)이 장착되어 있는 진공증류장치를 이용하여 실험실적 규모의 증류실험을 수행하였다. 정제된 NMP와 BDG의 순도는 포토레지스트 스트리퍼용 용제 기준 물성치인 순도 99.5% 이상이었고, 수분 1000 ppm 이하, 색도(APHA) 50 이하, 나트륨 성분을 제외한 대부분의 금속성분은 1 ppb 이하로 반도체용 스트리퍼 용액 제조에 재활용할 수 있는 수준임을 확인하였다. NMP와 BDG의 회수을은 PR스트리퍼 폐액 A 타입의 경우 NMP 96%, BDG 53%, B 타입의 경우 NMP 93%, BDG 57%이었다.

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