• Title/Summary/Keyword: 세정 공정

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Design of Counter current Extraction Process for the Separation of [Pr, Nd, Sm]/[La] using Cyanex 572 (Cyanex 572를 사용하여 [Pr, Nd, Sm]/[La]분리에 대한 향류추출공정 설계)

  • Lee, Joo-eun;So, Hong-Il;Jang, In-Hwan;Ahn, Jae-Woo;Kim, Hong-in;Lee, Jin-young
    • Resources Recycling
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    • v.27 no.4
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    • pp.50-56
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    • 2018
  • For the purpose of optimizing the counter current extraction process for separation of [Pr, Nd, Sm] group and [La] in mixed solution using Cyanex 572 as an extractant, the theory of Xu Guangxian was derived for calculating the optimized extraction factors. From the basic batch test result, the separation factor was 16.80 at extraction process and 21.48 at scrubbing process, and the loading capacity of 1.0 M Cyanex 572 was 0.12 M of rare earth element. The process parameters such as the stage number at extraction and scrubbing process, the flow rate ratio of feed and solvent solution can be calculated using an equation of optimum extraction ratio proposed by Xu Guangxian. From the result of calculation, 7 extraction stages and 4 scrubbing stages were required for rare earth separation, and the flow rate ratio of feed solution, solvent solution, scrubbing solution was 25 : 5.67 : 12.27.

A Study on the Dry Cleaning of Aluminium Surfaces by Low Temperature Plasma Process (저온 플라스마 공정을 이용한 알루미늄 표면의 건식 세정에 관한 연구)

  • Lim, Gyeong-Taek;Kim, Kyung Hwan;Kim, Kyung Seok;Li, Hui Jie;Song, Sun Jung;Shon, Hokyong;Cho, Dong Lyun
    • Applied Chemistry for Engineering
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    • v.19 no.6
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    • pp.640-644
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    • 2008
  • Lubricating oil on aluminium surfaces was cleaned by a low temperature plasma process. Oxygen plasma mixed with argon was used, and process parameters were the mixing ratio of argon in oxygen, discharge power, and negative DC potential. The aluminium surfaces were analyzed with FTIR and EDX after the cleaning. It was found that almost all of the oil was eliminated in 20 min. if the oil was pure. Elimination efficiency was highly dependent on operational conditions of the process. The highest efficiency was obtained when treated at 300 W with oxygen plasma mixed with 30% argon applying negative potential more than -500 V on the aluminium surfaces. However, efficiency higher that 60% cannot be obtained at any condition if the oil contained inorganic materials.

A Study on the Removal of LPP CMP Induced Defect (LPP(Landing Plug Poly) CMP Induced Defect 제거에 관한 연구)

  • Oh, Pyeong-Won;Choi, Jea-Gon;Choi, Yong-Soo;Choi, Geun-Min;Song, Yong-Wook
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.07a
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    • pp.235-238
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    • 2004
  • 본 연구는 반도체소자 제조공정에 적용되는 CMP공정 중 LPP(Landing Plug Poly) Contact간의 소자 분리를 위해 진행되는 LPP CMP의 후 세정 과정에서 유발되는 방사형 Defect 제거에 관한 내용이다. 방사형 Defect은 LPP CMP 후에 노출되는 BPSG, Poly, Nitride Film과 연마재로 사용되는SiO2 입자, 후 세정과정에서 적용되는 SC-1, DHF, $NH_4OH$ Chemical과 Brush와의 상호작용에 의해 발생되며, Cleaning시의 산성 분위기 하에서 각 물질간의 pH와 Zeta Potential의 차이에서 기인한다. 이 Defect을 제거하기 위해 LPP CMP후에 Film 표면에 노출되는 각 물질의 표면 특성과 CMP 후 오염입자의 흡착과 재 흡착에 영향을 미치는 Electrostatic force와 Van der Waals force, PVA Brush에 의한 Mechanical force의 상호작용을 고려하여 최적 후 세정 조건을 제시 하였다.

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Study on the efficiency of cleaning Process for Screen printing cleaning (스크린 인쇄 세정에 대한 세정공정 효율 연구)

  • 최성용
    • Journal of the Korean Graphic Arts Communication Society
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    • v.15 no.1
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    • pp.85-96
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    • 1997
  • The color difference between original and printed copy is affected mainly by ink trapping and optical properties of overprinted ink layer. Since the general expression itself about ink trapping is affected also by the optical properties, the analysis of color difference using the ink trapping only cannot be certain. This study will show a new approaching method for optical analysis of spectral reflectance and the effect of printing sequence on color difference in multi-color overprints under the condition of excluding completely the ink trapping problems by means of using transparent film as a substrate.

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역삼투법 해수담수화 시스템의 최적설계 (먹는물을 생산하기 위한 시설을 중심으로)

  • 김충환
    • Proceedings of the Membrane Society of Korea Conference
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    • 1997.04a
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    • pp.131-153
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    • 1997
  • 먹는물 생산용 역삼투법 해수담수화 시설의 도입에서 시설은 원수의 수질에 대하여 먹는물 수질기준을 충분히 달성할 수 있는 능력을 가져야 하고, 또한 시설의 배치, 유지관리 및 경제성을 고려한 최적공정이 선정되어야 한다. 역삼투법에 의한 먹는물 생산용 담수화시스템의 설비는 기본적으로 막의 성능을 안정적으로 유지하기 위한 전처리설비, 역삼투막모듈로 원수를 공급하기 위한 고압펌프 및 용존염의 제거하기 위한 역삼투막모듈 등의 세부분으로 구성되지만, 실용화 장치에서는 원수를 공급하기 위한 취수설비, 막으로 처리된 생산수를 먹는물로 급수하기 위한 후처리설비, 기타 세정설비 및 세정배수처리설비 등으로 구성된다.

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막분리공정을 이용한 폐수재활용 설비 기술

  • 김동우;허명수
    • Proceedings of the Membrane Society of Korea Conference
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    • 1999.04b
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    • pp.13-24
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    • 1999
  • 폐수 재활용방법은 반도체업계나 도금, 기타 산업에서 주로 2차 세정수를 회수하여 저급수로 직접 사용하는 방법 또는 간단한 전처리를 거쳐 원수에 혼합하여 정수처리하는 RECLAM SYSTEM과 1차 세정폐수를 분리하여 전처리와 RO 등을 거쳐 용수로써 재활용하는 PROCESS RECYCLE SYSTEM, 종합 폐수처리 후 방류수를 재활용하는 방류수 재활용설비로 구분할 수 있다. 막분리를 사용한 폐수 재활용기술에서는 방류수 재활용(종합폐수 재활용)와 원폐수 재활용(성상변 분리 재활용)만을 다루고져 한다.

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A Circulating Fluidized Bed Scrubbing Technology for Dry Removal of the SOx and NOx of Coal Combustion Gases (석탄연소가스내의 SOx/NOx 동시처리를 위한 순환유동식 건식세정기술)

  • 이상권;조경민
    • Proceedings of the Korea Society for Energy Engineering kosee Conference
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    • 1999.05a
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    • pp.69-74
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    • 1999
  • 각종 산업체의 공정에서 혹은 석탄 혹은 석유를 사용하는 화력발전설비에서 다량 발생되는 질소산화물(NOx), 황산화물(SOx)의 배출규제가 점점 강화되어 감에 따라 배출량 절감이 절실히 요구된다. 기존의 배기가스 정화장치는 처리대상에 따라 다양한 방법들이 사용되는데 황산화물의 경우 습식, 반건식, 건식세정법에 의해, 질소산화물은 선택적 촉매환원법(Selective Catalytic Reduction)과 선택적 무촉매환원법(Selective Non Catalytic Reduction)이 널리 이용되고 있다.(중략)

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Scouring and washing technology using electrolytic water (전해수를 이용한 정련 및 수세)

  • 최용철;홍영기;손영아;배기서
    • Proceedings of the Korean Fiber Society Conference
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    • 2002.04a
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    • pp.127-130
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    • 2002
  • 섬유공업에서 섬유원료단계의 세정을 출발로 실 및 직물제조 단계를 거쳐 제조된 직물의 가호, 탈호, 정련ㆍ표백, 염색ㆍ가공 공정 등의 모든 공정에 수세공정이 포함되어 있다. 이러한 공정에는 많은 양의 물이 사용될 뿐만 아니라 환경 오염의 원인이 되는 약제들 또한 다량 사용되므로, 섬유공업의 발전 초기단계부터 부수적으로 발생되는 환경 폐수를 줄이거나, 오염 물질의 발생을 유발하지 않는 방법에 대하여 활발한 연구가 이루어져 왔으나 현재까지도 크게 실효를 거두지 못하고 있다. (중략)

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A Study on the Development of Vapor Phase Cleaning Equipment for Semiconductor Processing (반도체 공정에서의 기상 세정장비 개발에 관한 연구)

  • 박헌휘;이춘수;최승우;함승주
    • Proceedings of the KAIS Fall Conference
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    • 2001.05a
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    • pp.79-81
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    • 2001
  • 저압 기상 영역에서 Anhydrous HF 가스와 Methanol vapor를 사용하는 산화막 식각공정을 수행하기 위하여 (1) 반응기 부피의 최소화, (B) 공정압력의 최소화, (3) 고순도 알루미나 Reactor 적용, (4) Cluster화의 개념을 적용한 VPC 장치를 제작하였다. Wafer의 온도, HF의 분압 및 Working Pressure 등의 공정변수에 따른 Oxide Wafer의 식각특성의 변화를 확인하였다. 또한 Etch Uniformity를 향상시키기 위하여 Shower Head 구조를 변경시켜서 실험하였으며, CFD Simulation을 이용하여 Reactor내에서의 HF gas 및 Methanol vapor의 분율을 예측하였다.