• Title/Summary/Keyword: 사진공정

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펄스 직류 $BCl_3$ 플라즈마를 이용한 GaAs와 AlGaAs의 건식식각

  • Lee, Seong-Hyeon;Park, Dong-Gyun;Park, Ju-Hong;Choe, Gyeong-Hun;Song, Han-Jeong;Lee, Je-Won
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.220-220
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    • 2010
  • 펄스 직류 $BCl_3$ 플라즈마를 이용하여 GaAs와 AlGaAs의 건식식각을 연구하였다. 공정의 주요 변수는 펄스 직류 전압(350~550V), 펄스 직류 시간($0.4{\sim}1.2{\mu}sec$.), 펄스 직류 주파수(100~250kHz)이었다. 식각 실험 후 샘플의 식각률, 식각 선택도, 표면 형상을 비교, 분석하였다. 또한, 광학 발광 분석기(Optical Emission Spectroscopy)를 이용하여 식각하는 동안 플라즈마 방전 특성을 분석하였다. 표면 단차 측정기(Alpha-step IQ, Tencor)로 식각 깊이를 측정해 식각률을 계산하였다. 표면 거칠기 또한 단차 측정기의 표면 거칠기 프로그램을 이용하여 분석하였다. 식각 벽면과 표면 상태는 주사전자현미경(Field-emission scanning electron microscopy)을 이용하여 관찰하였다. 분석 결과는 1) 펄스 직류의 전압이 증가하면 전극에 걸리는 파워가 올라가고 GaAs와 AlGaAs의 식각률도 증가하였다. 2) 76 mTorr 공정 압력, $0.7{\mu}sec$. 펄스 직류 시간과 200 kHz 주파수 일 때 10 sccm $BCl_3$ 펄스 직류 플라즈마에서 GaAs와 AlGaAs 둘 다 약 $0.4{\mu}m/min$ 이상의 식각 속도를 보여주었다. 3) 식각 선택도는 펄스 직류의 전압이 높아지면 증가하였고, 펄스 직류 주파수의 증가도 공정 파워와 GaAs와 AlGaAs의 식각률을 증가시켰다. 4) 그러나 펄스 직류 주파수가 150kHz 이하일 때에는 GaAs와 AlGaAs가 거의 식각되지 않았다. 5) 표면 거칠기는 펄스 직류 주파수가 증가하면 미세하게 좋아졌고 플라즈마는 펄스 직류 주파수가 100~250kHz 일 때 생성되었다. 6) 펄스 직류 시간의 증가는 공정 파워, 식각률, 식각 선택도 모두의 증가를 가져왔다. 7) 광학발광분석기(OES) 데이타는 $BCl_3$ 플라즈마에서 넓은 범위(450~700nm)에서의 염소(Cl) 분자 피크를 나타내었다. 8) 전자 현미경 사진은 펄스 직류 전압이 400 V보다 550 V 일 때보다 더 이방성(Anisotropic)측면과 부드러운 표면을 나타냈지만, 조금의 홈(Trench)이 발견되었다. 결론적으로 펄스 직류 $BCl_3$ 플라즈마는 GaAs와 AlGaAs의 건식식각에서 우수한 결과를 나타냈었다.

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Octanethiol 산화 방지 처리된 구리 나노분말의 분산 용액 제조

  • Kim, Dong-Gwon;Gwon, Jin-Hyeong;Jo, Dong-Guk;Kim, Yeong-Seok;Lee, Seon-Yeong
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.11a
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    • pp.48.2-48.2
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    • 2009
  • 구리 나노분말은 우수한 전기전도도와 상대적으로 저렴한 가격으로 주목을 받고 있어이를 이용한 다양한 기술들이 개발 중에 있다. 이들 중 잉크젯 프린팅용 구리 나노잉크는 기존의 포토리소그래피방식의 복잡한 공정단계와 이로 인한 단가 인상을 해결할 수 있는 공정으로 기대되는 잉크젯 프린팅에 구리를 사용할 수 있게 해주어 광범위한 응용이가능할 것으로 기대되어 많은 연구가 진행되고 있는 분야이다. 실제로 구리 나노분말의 이용하게 될 때에있어서 어려운 점 중 하나가 바로 빠른 표면 산화의 문제이다. 이를 막기 위해 본 연구에서는 건식 분말코팅 방법을 이용해 octanethiol 자기조립박막을 구리 표면에 부착한 분말을 사용하여 구리 나노분말용액을 제조하는 실험을 수행하였다. 건식 분말 코팅에 의해 산화 방지막이 부착된 분말을 표면 활성제인 Diethanolamine을 이용해 안정적으로 분산시켜 잉크로 사용이 가능한 용액을 제조해 보고, 분산된 용액의 안정도를 확인하기 위해 zetapotential analyzer를이용하여 분산도를 분석하였다. 또한 분산된 용액의 활용 실험을 위해 유리 기판에 바른 용액을 질소 분위기의튜브로에서 $250^{\circ}C$, $300^{\circ}C$, $400^{\circ}C$의 온도에서 30분간 소결을 진행한 후 probe-station을 이용하여 전기 전도도를 측정하였다. 이렇게제작된 샘플은 Scanning Electronic Microscope 를 이용하여 소결된 상태의 표면의 사진을 찍어 서로 비교해보았다. $300^{\circ}C$에서 소결한 시편부터 소결이 시작되어 $400^{\circ}C$에서 소결한 시편은 다량의 소결목이 형성되었다.

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나노 임프린팅 공정을 이용한 Ag Nano Rod 제조 및 박막 태양전지 적용

  • Kim, Min-Jin;Sin, Jang-Gyu;Kim, Yang-Du;Go, Bit-Na;Kim, Ga-Hyeon;Lee, Jeong-Cheol;Kim, Dong-Seok
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.414-414
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    • 2014
  • 박막 태양전지의 광흡수를 증가시키기 위한 방법으로 나노 사이즈의 구조체를 이용하는 방법들이 주목받고 있다. 나노 구조체로 인한 광 산란 효과는 광 흡수층에서 빛의 흡수를 높여 태양전지의 변환효율을 높일 수 있다. 3차원 구조체를 제작하는 기존의 방법들은 대면적 기판에 적용이 어렵고, 비용적 측면 등의 문제점들이 있다. 본 연구에서는 대면적화가 가능한 나노 임프린트 리소그래피 방법을 이용하여 Ag nano rod 패턴을 제작하였다. 임프린트 공정 중 UV 조사시간, 가해지는 하중, 기판온도 등의 변수들과, 건식 이온 식각 시 변수들을 조절하여 최적화된 3차원 rod 패턴을 형성할 수 있었다. 그림 1은 형성된 Ag rod 패턴의 SEM 측정 사진이다. 전극 폭 300 nm, 간격 300 nm로 제조된 rod는 Ag의 두께를 조절함으로써 전기, 광학적 특성을 조절할 수 있었다. 3차원 Ag nano rod를 박막 태양전지의 전, 후면 전극으로 사용하여 태양전지의 특성변화를 분석하였다.

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Process Control of Titanium Silicide Formation Using RTP (RTP를 사용한 타이타늄 실리사이드 형성의 공정 조절)

  • 이용재
    • The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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    • v.15 no.5
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    • pp.399-405
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    • 1990
  • Rapid Thermal Process(RTP) has been used to precisely control and study the reaction rate for the formation of refractory titanuium silicide. Samples were prepared by sputtering deposition layer of titanium on n-type, poly-deposit silicon wafers. The process were then sujected to a matrix of rapid time-temperature profile under nitrgen, argon gas ambient to precisely control the silicide formation. Reacted films were analyzed by the sheet resistance measursrement, SEM, ASR and X-ray diffraction. Results were shown that the resistivity of the silicide films are below 20u-cm and the thickness of silicide films are about two times than that of as-deposited titanium films. Silicidation ambient was likely to happen at the same tamperature-time condition for argon and nitrogen gas.

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카메라 모듈용 적외선 차단 필터 설계 및 코팅 실험 연구

  • Sin, Gwang-Su;Han, Myeong-Su;Park, Chang-Mo;Gi, Hyeon-Cheol;Kim, Du-Geun;Kim, Hyo-Jin;Go, Hang-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.251-251
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    • 2010
  • 카메라 모듈에서 사용되어지는 적외선 차단 필터는 적외선 영역을 차단시킴으로써 보다 선명한 영상을 획득할 수 있는 매우 중요한 부품으로 각광을 받고 있다. 가시광선과 적외선 영역에서 주로 사용되어지는 광학 박막 물질로는 고 굴절률을 가지는 $TiO_2$와 저 굴절률을 가지는 $SiO_2$가 일반적으로 쓰인다. 본 실험에서는 카메라 모듈용으로 사용되어지는 적외선 차단 필터를 설계하고 이온빔 증착 장비를 이용하여 코팅 공정을 한 후에 각각의 특성들을 평가하였다. Macleod 프로그램을 사용하여 640nm 및 650nm 차단 필터를 설계하였으며, 설계된 데이터를 이용하여 Ion-Assisted Deposition 장비를 사용, $TiO_2/SiO_2$ 유전층을 다층 박막으로 증착하였다. 코팅되어진 차단 필터의 특성을 관찰하고자 Spectrophotometer를 이용하여 투과도를 측정하였고, SEM 사진 단면 관찰로 다층 박막의 두께를 알 수 있었으며, AFM 측정으로 표면의 거칠기 정도를 알 수 있었다. 이러한 결과로부터 필터의 파장을 조절하여 박막을 증착하였다. 640nm 및 650nm 차단 필터는 설계 곡선과 각각 6nm와 2nm 이내에서 일치하였으며, 400~600nm에서 80% 이상의 투과도를 보였고, 근적외선 영역인 700nm이상에서는 1%이하의 투과도를 보였다. 이러한 결과는 wafer level packaging 을 이용한 카메라 모듈 조립 공정에 응용할 수 있으며, 본 실험에서 제작된 적외선 차단 필터를 이용, 8인치 차단 필터를 제작하는데 기초데이터로 사용할 수 있을 것이다.

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Characteristic Change of PVDF-$SiO_2$ Composite Nanofibers with Different Thermal Treatment Temperature (열처리 온도에 따른 PVDF-$SiO_2$ 복합나노섬유의 특성 변화)

  • Kim, Young-Jin
    • Polymer(Korea)
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    • v.35 no.6
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    • pp.605-609
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    • 2011
  • Composite nanofibers were prepared by electrospinning and thermal treatment from poly (vinylidene fluoride) (PVDF)-$SiO_2$ blend solution. The nanofibers were stacked on layers to produce fully interconnected pores. TEM micrographs and EDX spectra confirmed the presence of $SiO_2$ in the composite nanofibers. The porosity of nanofibers was effectively enhanced by the introduction of electrospinning technique. ATR-FTIR and XRD results revealed that PVDF in the composite nanofibers exhibited the mixture crystal structure of ${\alpha}$-phase and ${\beta}$-phase. The crystal structure of ${\alpha}$-phase and crystallinity increased by the thermal treatment. In addition, the mechanical properties, thermal stability and hydrophobicity were markedly amplified by the thermal treatment.

Development of Irreversible Micro-size Ferromagnetic Structures by Hydrogenation and Electron-beam Lithography (수소화 및 전자빔 사진식각 기술에 의한 비가역적 마이크로 크기의 강자성 구조체 개발)

  • Yun Eui-Jung
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.43 no.1 s.343
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    • pp.7-12
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    • 2006
  • In this study, we developed irreversible and stable micro-size ferromagnetic structures utilizing hydrogenation and electron-beam lithography processes. The compositionally modulated (CM) Fe-Zr thin films that had average compositions $Fe_XZr_{100-x}$ with $x=65-85\%$ modulation periods of similar to 1 nm, and total thicknesses of similar to 100 m were prepared. The magnetic properties of CM Fe-Zr thin films were measured using a SQUID magnetometer, VSM and B-H loop tracer. After hydrogenation, the CM films exhibited larger magnetic moment increases than similar homogeneous alloy films for all compositions and かey showed largest increase in $Fe_{80}Zr_{20}$ composition. After aging in air at $300^{\circ}K$ the hydrogenated $Fe_{80}Zr_{20}$ CM films showed much larger magnetic moment increases, indicating that they relax to a stable, irreversible, soft magnetic state. The selective hydrogenation through electron-beam lithographed windows were performed after the circle shaped windows were prepared on $Fe_{80}Zr_{20}$ CM films by electron beam lithography. The hydrogenation through electron-beam resist and W lithographic techniques give a $49\%$ magnetic moment increase. This method can be applied to nano scale structures.

An Integrated Mach-Zehnder Interferometric Sensor based on Rib Waveguides (Rib 도파로 기반 집적 마흐젠더 간섭계 센서)

  • Choo, Sung-Joong;Park, Jung-Ho;Shin, Hyun-Joon
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.47 no.4
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    • pp.20-25
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    • 2010
  • An integrated Mach-Zehnder interferometric sensor operating at 632.8 nm was designed and fabricated by the technology of planar rib waveguides. Rib waveguide based on silica system ($SiO_2-SiO_xN_y-SiO_2$) was geometrically designed to have single mode operation and high sensitivity. It was structured by semiconductor fabrication processes such as thin film deposition, photolithography, and RIE (Reactive Ion Etching). With the power observation, propagation loss measurement by cut-back method showed about 4.82 dB/cm for rib waveguides. Additionally the chromium mask process for an etch stop was employed to solve the core damaging problem in patterning the sensing zone on the chip. Refractive index measurement of water/ethanol mixture with this device finally showed a sensitivity of about $\pi$/($4.04{\times}10^{-3}$).

Study on Rear Door Fixed Glass Weather-strip for Automobiles Using EPDM/Polypropylene Blend (I) (자동차용 Rear Door Fixed Glass Weather-strip 성형을 위한 EPDM과 Polypropylene의 Blend에 관한 연구 (I))

  • Park, Jong-Yun;Hwang, Sung-Hyuk;Kim, Jin-Kuk
    • Elastomers and Composites
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    • v.35 no.2
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    • pp.115-121
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    • 2000
  • In comparison with thermosetting rubber, thermoplastic elastomer (TPE) has various advantages such as simple processing, short cycle time and recycling of scrap. These advantages can lead to development of the high value-added rubber products due to reduction of the waste material, manufacturing cost and the defected product. This article involves a dynamic vulcanization method for EPDM/polypropylene blend, and the manufacturing of a fixed glass weather-strip by glass insert molding method using the blend. In order to investigate mechanical properties of the product, tensile strength, elongation, hardness and specific gravity were measured. Also morphological study was carried out using SEM. Developments of an efficient system of production and automatic process by molding of TPE and glass simultaneously are expected.

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Ohmic Characteristics of Ni/3C-SiC Interface (Ni/3C-SiC 계면의Ohmic 특성)

  • Kim, In-Hui;Jeong, Jae-Gyeong;Jeong, Jae-Gyeong;Sin, Mu-Hwan
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.7 no.11
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    • pp.1018-1023
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    • 1997
  • 본 연구에서는 3C-SiC의 ohmic 접합에 대하여 그 전기적 특성과 미세구조의 상관관계에 대하여 분석하였다. 표준사진식각 공정을 통하여 ohmic접합 금속으로서 Ni을 진공증착시켜 일련의 TLM패턴으로 열처리에 따르는 전류-전압 특성을 조사하였고 TEM, SEM, AES, EDS를 사용하여 Ni/SiC 계면에 대한 미세구조, 화학적 특성을 분석하였다. 열처리 온도와 시간을 통한 thermal budget이 증가함에 따라서 접촉저항이 감소되었으며 그 값은 $10^{-2}$-$10^{-4}$$\textrm{cm}^2$의 범위에 속하였다. EDS와 AES를 통하여 7$50^{\circ}C$이상의 열처리 후 silicide(NiSi$_{2}$)의 주변에 carbon층이 형성되는 것을 확인하였으며, 열처리 온도가 증가함에 따라서 island형 silicide의 크기가 조밀해지며 SiC와의 접착성이 향상됨을 알 수 있었다. Ni/3C-SiC ohmic 접합의 전기적 특성은 계면에 생성되는 silicide와 carbon의 형성거동에 의하여 결정되는 것으로 믿어진다.

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