• Title/Summary/Keyword: 백 플레인

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Electrical performance and improvement of stability in ultra thin amorphous IGZO TFT on flexible substrate of surface roughness (Flexible한 기판 표면 거칠기에 따른 초박형 비정질 IGZO TFT의 전기적 특성 및 안정성 개선)

  • Sin, Dae-Yeong;Jeong, Seong-Hyeon;Jo, Hyeong-Gyun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2018.06a
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    • pp.126-126
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    • 2018
  • 최근 차세대 디스플레이인 flexible 하고 transparent 한 디스플레이 개발이 진행 중 이며, 이러한 디스플레이가 개발 되기 위해 백 플레인으로 사용되는 Thin Film Transistor (TFT) 또한 차세대 디스플레이 못지 않게 연구가 진행 되고 있다. 기존의 무기물을 기반으로 하고 Rigid한 TFT는 현재 많은 곳에 적용이 되어 사람들이 사용 하고 있다. 하지만 이미 시장은 포화상태이며 차세대 디스플레이 컨셉인 flexible 하고 투명한 것과 맞지 않는다. 그래서 유연하며 투명한 특성을 가진 TFT에 대한 연구가 활발히 진행 되고 있으며 많은 성과를 이루었다. 이러한 소자를 이용하여 훗날 Electronic-skin(e-skin)이라 부르는 전자 피부를 활용하여 실시간 모니터링 할 수 있는 헬스 케어 분야 등에 활용 가치 또한 높다. 현재 유연하며 투명한 기판 및 물질 개발에 많은 연구 개발이 진행 되고 있다. 하지만 유연한 기판을 사용하여 TFT를 제작한 후 stress나 bending에 대한 내구성과 안정성, 신뢰성 등이 무기물을 기반으로 한 TFT에 비해 좋지 않은 실정이다. 따라서 유연하며 투명한 기판을 사용한 TFT에 대한 안정성, 신뢰성 등을 확보하여야 한다. 본 연구 에서는 유연한 기판을 사용하여 TFT를 제작 한 후, TFT특성과 안정성을 확보하는 것을 목표로 실험을 진행하였다. 우리는 Mo전극과 Parylene 기판을 사용하여 유연한 TFT소자를 탑 게이트 구조로 제작 하였고 Rigid한 Glass기판 위에 Floating Process를 진행하기 위해 PVA층을 코팅 후 그 위에 Parylene을 CVD로 증착 하고 IGZO를 Sputter를 사용해 증착했다. Parylene은 DI Water 70도에서 Floating 공정을 통해 Rigid 기판에서 탈착 시켰다. 유연한 기판 위에 TFT를 제작 후 bending에 대한 특성 변화 및 안정성에 대한 측정을 실시하였다. Bending에 대한 특성 변화는 우수한 결과가 나왔지만 안정성 측정 중 Negative Bias Stress(NBS) 상에서 비정상적인 On Current Drop 현상이 발생 되었다. Parylene과 Channel층 사이 interface roughness로 인해 charge trap이 되고 이로 인해 On Current Drop 이라는 현상으로 나타났다. 그래서 우리는 Parylene 기판과 Channel 층간의 surface roughness를 개선하기 위한 방법으로 UV Treatment를 사용하였고 시간을 다르게 하여 surface 개선을 진행했다. Treatment 시간을 증가 시킴에 따라 Surface roughness가 많이 좋아 졌으며, Surface를 개선하고자 비정상적인 On Current Drop 현상이 없어졌으며 위 실험으로 Polymer의 surface roughness에 따라 TFT에 대한 안정성에 대한 신뢰성이 확보 될 수 있는 것을 확인 하였다.

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Technology Trend of Printed Electronics (인쇄전자 기술 및 동향)

  • Yang, Y.S.;You, I.K.;Yun, H.K.;Hong, S.H.;Park, J.H.;Jang, M.K.;Lee, J.H.
    • Electronics and Telecommunications Trends
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    • v.28 no.5
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    • pp.111-121
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    • 2013
  • 인쇄전자(printed electronics) 기술은 인쇄가 가능한 기능성 전자 잉크 소재를 이용하여 초저가격의 프린팅 공정을 통해서 다양한 전자소자를 제작하는 기술로써, 차세대 ICT 기기의 제작에 적합한 전자제품을 생산하는데 적합한 공정기술로 잘 알려져 있다. 현재 인쇄전자의 기술수준은 일부 요소 부품들을 제작하고 간단한 전자회로를 구현하는 수준에 머무르고 있으나, 도체, 반도체, 절연체의 여러 잉크 소재 및 다양한 초미세 인쇄공정 기술의 개발이 진행됨에 따라 향후 폭넓은 분야에 적용될 것으로 기대된다. 이러한 인쇄전자의 관련 기술 중에서 최근 삼차원(3D) 프린팅 기술이 부상하고 있는데, 지난해 Economist에서는 3D 프린팅을 제3차 산업혁명을 가져올 기술 중 하나로 소개했으며, 세계경제포럼(WEF: World Economic Forum)에서는 2013년 10대 유망 기술 중 하나로 선정했다. 올해 초, 미국의 오바마 대통령은 국정연설에서 거의 모든 제품의 생산 방식을 바꿀 수 있는 잠재력을 가진 기술로 3D 프린팅을 언급했고, Optomec에서는 전자소자용 3D 프린팅 기술을 선보였다. 본 논문에서는 최근에 많이 연구되는 모바일용 무선통신소자나 차세대 디스플레이 백플레인용의 인쇄전자 기술과 상품의 모형인 목업(Mock-up)을 제작할때뿐 만 아니라 전자소자 제작에도 적용이 가능한 3D 프린팅 기술에 대하여 논하고자 한다.

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Thermal Annealing Effects of Amorphous Ga-In-Zn-O Metal Point Contact Field Effect Transistor for Display Application

  • Lee, Se-Won;Jeong, Hong-Bae;Lee, Yeong-Hui;Jo, Won-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.252-252
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    • 2011
  • 최근 주목받고 있는 amorphous gallium-indium-zinc-oxide (a-GIZO) thin film transistors (TFTs)는 수소가 첨가된 비정질 실리콘 TFT에 비해 높은 이동도와 뛰어난 전기적, 광학적 특성에 의해 큰 주목을 받고 있다. 또한 넓은 밴드갭을 가지므로 가시광 영역에서 투명한 특성을 보이고, 플라스틱 기판 위에서 구부러지는 성질에 의해 플랫 패널 디스플레이나 능동 유기 발광소자 (AM-OLED), 투명 디스플레이에 응용되고 있다. 뿐만 아니라, 일반적인 Poly-Si TFT는 자체적으로 가지는 결정성에 의해 대면적화 시 균일성이 좋지 못하지만 GIZO는 비정질상 이기 때문에 백플레인의 대면적화에 유리하다는 장점이 있다. 이러한 TFT를 제작하기 전, 전기적 특성에 대한 정보를 얻거나 예측하는 것이 중요한데, 이에 따라 고안된 구조가 바로 metal point contact FET (pseudo FET)이다. pseudo FET은 소스/드레인 전극을 따로 증착할 필요 없이 채널을 증착한 후, 프로브 탐침을 채널의 표면에 적당한 압력으로 접촉시켜 전하를 공급하는 소스와 드레인처럼 동작시킬 수 있다. 따라서 소스/드레인을 증착하거나 lithography와 같은 추가적인 공정을 요구하지 않아 소자의 특성을 보다 간단하고 수월하게 분석할 수 있다는 장점이 있다. 본 연구에서는 p-type 기판위에 100nm의 oxidation SiO2를 게이트 절연막으로 사용하는 a-GIZO pseudo FET를 제작하였다. 소자 제작 후, 열처리 온도에 따른 전기적 특성을 분석하였고, 열처리 조건은 30분간 N2 분위기에서 실시하였다. 열처리 후 전기적 특성 분성 결과, 450oC에서 가장 낮은 subthreshold swing 값과 게이트 전압의 더블 스윕 후 문턱 전압의 변화가 거의 없음을 확인하였다.

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산화물 반도체 TFT를 이용한 투명 디스플레이 기술

  • Hwang, Chi-Seon;Park, Sang-Hui;Jeong, U-Seok;Byeon, Chun-Won;Yu, Min-Gi;Jeong, Seung-Muk;Jo, Du-Hui;Yun, Seong-Min;Yang, Sin-Hyeok;Jo, Gyeong-Ik
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.48-48
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    • 2010
  • 산화물 반도체를 이용한 TFT는 비교적 우수한 특성과 더불어 간단한 구조와 공정으로 양산성 확보에 유리한 측면 때문에 많은 주목을 받고 있다. TFT-LCD의 경우에는 기존에 사용되고 있는 a-Si;H TFT에 비하여 10배이상 우수한 이동도를 가진 산화물 TFT를 이용하여 고속동작 패널을 구현할 수 있을 것으로 보이며, AMOLED의 경우에는 poly-Si TFT에 비하여 대면적 공정에서 유리한 측면이 있을 수 있다. 이러한 산화물 반도체 TFT를 상용 디스플레이 패널에 적용하기 위해서는 소자 안정성을 좀더 확보해야 하는 숙제가 남아있다. 한편, 산화물 반도체 TFT는 가시광선 영역에서 투명한 특성이 가지고 있기 때문에 이를 이용하여 투명 디스플레이(투명 AMOLED)를 개발하는 경우 투과도를 크게 증가시킬 수 있는 장점을 가지고 있다. 기존의 투명 디스플레이는 주로 투사방법을 이용하여 구현되었지만, 최근 AMOLED를 이용한 투명 디스플레이 시제품이 시연되고 있다. 투명한 AMOLED를 구성하기 위해서는 OLED뿐만 아니라 백플레인에서의 투과도 증대를 위하여 해결해야할 여러 가지 문제가 발생하게 된다. 본 발표에서는 산화물 TFT에서의 최근 이슈에 대해 살펴보고, 투명 디스플레이에의 적용에 있어서 해결해야 할 문제점에 대해서도 살펴보고자 한다.

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Occurrence and Chemical Composition of Carbonate Mineral from Wallrock Alteration Zone of Janggun Pb-Zn Deposit (장군 연-아연 광상의 모암변질대내 탄산염 광물의 산상 및 화학조성)

  • Bong Chul Yoo
    • Korean Journal of Mineralogy and Petrology
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    • v.36 no.3
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    • pp.167-183
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    • 2023
  • The Janggun Pb-Zn deposit consists of Mn orebody, Pb-Zn orebody and Fe orebody. The Mn orebody composed of manganese carbonate orebody and manganese oxide orebody on the basis of their mineralogy and genesis. The geology of this deposit consists of Precambrian Weonnam formation, Yulri group, Paleozoic Jangsan formation, Dueumri formation, Janggum limestone formation, Dongsugok formation, Jaesan formation and Mesozoic Dongwhachi formation and Chungyang granite. This manganese carbonate orebody is hydrothermal replacement orebody formed by reaction of lead and zinc-bearing hydrothermal fluid and Paleozoic Janggum limestone formation. The wallrock alteration that is remarkably recognized with Pb-Zn mineralization at this hydrothermal replacement orebody consists of mainly rhodochrositization with minor of dolomitization, pyritization, sericitization and chloritization. Carbonates formed during wallrock alteration on the basis of paragenetic sequence are as followed : Ca-dolomite (Co type, wallrock) → ankerite and Ferroan ankerite (C1 type, early stage) → ankerite (C2 type) → sideroplesite (C3 type) → sideroplesite and pistomesite (C4 type, late stage). This means that Fe and Mn elements were enriched during evolution of hydrothermal fluid. Therefore, The substitution of elements during wallrock alteration beween dolomitic marble (Mg, Ca) and lead and zinc-bearing hydrothermal fluid (Fe, Mn) with paragenetic sequence is as followed : 1)Fe ↔ Mn and Mn ↔ Mg, Ca, Fe elements substitution (ankerite and Ferroan ankerite, C1 type, early stage), 2)Fe ↔ Mn, Mn ↔ Mg, Ca and Mg ↔ Ca elements substitution (ankerite, C2 type), 3)Fe ↔ Mn, Fe ↔ Ca and Mn ↔ Mg, Ca elements substitution (sideroplesite, C3 type), and 4)Fe ↔ Mg, Fe ↔ Mn and Mn ↔ Mg, Ca elements substitution (sideroplesite and pistomesite, C4 type, late stage)

Propagation Characteristics and Tolerance Analysis of Optical Wires in Flexible Optical PCB by Ray Tracing (연성 광 PCB용 광 배선의 손실특성 및 제작 공차 분석)

  • Yeom, Jun-Cheol;Park, Dae-Seo;Kim, Young-Seok;Kim, Dae-Chan;Park, Se-Geun;O, Beom-Hoan;Lee, El-Hang;Lee, Seung-Gol;Jeon, Keum-Soo
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.19 no.4
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    • pp.255-261
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    • 2008
  • In this study, the propagation characteristics and the fabrication tolerance of an optical wire in a flexible optical PCB were analyzed by using a ray-tracing method. It is found from the analysis that the sidewall angle of a core should be controlled within $1^{\circ}$ in order to maintain the propagation loss to less than -1 dB/mm, and that the bending radius of the optical wire should be larger than 5 mm in order to suppress the bending loss below -1 dB. In addition, it is confirmed that the lateral misalignment of ${\pm}15\;{\mu}m$, and the angular tilting of VCSEL of $6^{\circ}$ are allowable for the coupling loss of -1 dB.

Co-specification for control and dataflow based on the codesign backplane (백플레인에 기반한 제어 부분과 데이터 처리 부분의 통합적 명세)

  • Kim, Do-Hyung;Ha, Soon-Hoi
    • Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics C
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    • v.36C no.12
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    • pp.36-46
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    • 1999
  • As the requirements of embedded systems increase, the design complexity of the system becomes higher. The formal design methodology is required which supports well-balanced specification for control and dataflow to design a complex system. In this paper, control modules and function modules are separately described with FSMs and dataflow graphs respectively, and integrated into a system specification via inter-model communications. In previous approaches, the system could not be verified until control modules and dataflow modules are combined at the final design stage. However our approach enables us to design each part as the proper model of computation at early stage, and to verify the compositions and to co-synthesize the system effectively in the same framework. Especially this paper focuses on the communication protocols between control and dataflow models. Preliminary experiments show practicality of the proposed technique.

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Electrical Characteristics of a-GIZO TFT by RF Sputtering System for Transparent Display Application

  • Lee, Se-Won;Jeong, Hong-Bae;Lee, Yeong-Hui;Jo, Won-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.100-100
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    • 2011
  • 2004년 일본의 Hosono 그룹에 의해 처음 발표된 이래로, amorphous gallium-indium-zinc oxide (a-GIZO) thin film transistors (TFTs)는 높은 이동도와 뛰어난 전기적, 광학적 특성에 의해 큰 주목을 받고 있다. 또한 넓은 밴드갭을 가지므로 가시광 영역에서 투명한 특성을 보이고, 플라스틱 기판 위에서 구부러지는 성질에 의해 플랫 패널 디스플레이나 능동 유기 발광 소자(AM-OLED), 투명 디스플레이에 응용될 뿐만 아니라, 일반적인 Poly-Si TFT에 비해 백플레인의 대면적화에 유리하다는 장점이 있다. 최근에는 Y2O3나 ZrO2 등의 high-k 물질을 gate insulator로 이용하여 높은 캐패시턴스를 유지함과 동시에 낮은 구동 전압과 빠른 스위칭 특성을 가지는 a-GIZO TFT의 연구 결과가 보고되었다. 하지만 투명 디스플레이 소자 제작을 위해 플라스틱이나 유리 기판을 사용할 경우, 기판 특성상 공정 온도에 제약이 따르고(약 $300^{\circ}C$ 이하), 이를 극복하기 위한 부가적인 기술이 필수적이다. 본 연구에서는 p-type Si을 back gate로 하는 Inverted-staggered 구조의 a-GIZO TFT소자를 제작 하였다. p-type Si (100) 기판위에 RF magnetron sputtering을 이용하여 Gate insulator를 증착하고, 같은 방법으로 채널층인 a-GIZO를 70 nm 증착하였다. a-GIZO를 증착하기 위한 sputtering 조건으로는 100W의 RF power와 6 mTorr의 working pressure, 30 sccm Ar 분위기에서 증착하였다. 소스/드레인 전극은 e-beam evaporation을 이용하여 Al을 150 nm 증착하였다. 채널 폭은 80 um 이고, 채널 길이는 각각 20 um, 10 um, 5 um, 2 um이다. 마지막으로 Furnace를 이용하여 N2 분위기에서 $500^{\circ}C$로 30분간 후속 열처리를 실시한 후에, 전기적 특성을 분석하였다.

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High Speed Interconnetion Network for Interworking Gateway of Heterogeneous Networks (이종망간의 상호연동 거이트웨이 시스템을 위한 내부고속연동망)

  • Kim, Dong-Won;Sin, Hyeon-Sik;Ryu, Won;Lee, Hyun-Woo;Jun, Kyung-Pyo;Bae, Hyeon-Deok
    • The Transactions of the Korea Information Processing Society
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    • v.4 no.2
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    • pp.499-514
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    • 1997
  • This paper proprses the architeecture of an interconnection network for Advanced Information Communi-cation Procssing System(AICPS)developde for prividing open information communication servies on a variety of heterogeneous networks.The proposed Interconnection network,called High Speed Swiching Fabric(HSSF),has been designed by a common bus.It can handile 32 i/O channels,each of which uses serial communication method using 100Mbps TAXI.The switching bandwidth of the common bus is 640Mvps.Each I/O channel can be alloted about 20Mbps bandwidth in steady state,and therefore it's sufficient bandwidth is able to interwork with ISDN and Internet services, as well as PSTN. HSSF is composed of the switching board assembly,the subscriber,I/O board assemly,and the backplane board assembly.An attached node takes in the network adapter board assembly to adapt the high speed interworking protocol.For reliability,HSSF is duplicated with load-sharing method.

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Implementation of Logic Gates Using Organic Thin Film Transistor for Gate Driver of Flexible Organic Light-Emitting Diode Displays (유기 박막 트랜지스터를 이용한 유연한 디스플레이의 게이트 드라이버용 로직 게이트 구현)

  • Cho, Seung-Il;Mizukami, Makoto
    • The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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    • v.14 no.1
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    • pp.87-96
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    • 2019
  • Flexible organic light-emitting diode (OLED) displays with organic thin-film transistors (OTFTs) backplanes have been studied. A gate driver is required to drive the OLED display. The gate driver is integrated into the panel to reduce the manufacturing cost of the display panel and to simplify the module structure using fabrication methods based on low-temperature, low-cost, and large-area printing processes. In this paper, pseudo complementary metal oxide semiconductor (CMOS) logic gates are implemented using OTFTs for the gate driver integrated in the flexible OLED display. The pseudo CMOS inverter and NAND gates are designed and fabricated on a flexible plastic substrate using inkjet-printed OTFTs and the same process as the display. Moreover, the operation of the logic gates is confirmed by measurement. The measurement results show that the pseudo CMOS inverter can operate at input signal frequencies up to 1 kHz, indicating the possibility of the gate driver being integrated in the flexible OLED display.