• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2005년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.645-648
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• 2005

Microscopy has enabled the development of many advanced technologies, and higher level microscopic techniques are required according to the increase of research in nano-technology and bio-technology fields. Therefore, in many applications, we need to measure the dimension of micro-scale parts accurately, not just to observe their shapes. To establish the meter-traceability in microscopy, gratings have been widely used as a magnification standard. KRISS provides the certification service of magnification standards using an optical diffractometer and a metrological AFM (MAFM). They are based on different measurement principles, and so can give complementary information for each other. In this paper, we describe the configuration of each system and measurement procedures to certificate grating pitch values of magnification standards. Several measurement results are presented, and the discussion about them are also given. Using the optical diffractometer, we can calibrate a grating specimen with uncertainty of less than 50 pm. The MAFM can measure a grating specimen of down to 100 nm pitch value, and the calibrated values usually have uncertainty less than 500 pm.

• 한국정밀공학회지
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• 제23권8호
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• pp.72-79
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• 2006

We measured grating pitch standards using optical diffractometry and analyzed measurement uncertainty. Grating pitch standards have been used widely as a magnification standard for a scanning electron microscope (SEM) and a scanning probe microscope (SPM). Thus, to establish the meter-traceability in nano-metrology using SPM and SEM, it is important to certify grating pitch standards accurately. The optical diffractometer consists of two laser sources, argon ion laser (488 nm) and He-Cd laser (325 nm), optics to make an incident beam, a precision rotary table and a quadrant photo-diode to detect the position of diffraction beam. The precision rotary table incorporates a calibrated angle encoder, enabling the precise and accurate measurement of diffraction angle. Applying the measured diffraction angle to the grating equation, the mean pitch of grating specimen can be obtained very accurately. The pitch and orthogonality of two-dimensional grating pitch standards were measured, and the measurement uncertainty was analyzed according to the Guide to the Expression of Uncertainty in Measurement. The expanded uncertainties (k = 2) in pitch measurement were less than 0.015 nm and 0.03 nm for the specimen with the nominal pitch of 300 nm and 1000 nm. In the case of orthogonality measurement, the expanded uncertainties were less than $0.006^{\circ}$. In the pitch measurement, the main uncertainty source was the variation of measured pitch values according to the diffraction order. The measurement results show that the optical diffractometry can be used as an effective calibration tool for grating pitch standards.

• 한국광학회지
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• 제9권6호
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• pp.362-367
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• 1998

중심거리측정법은 서로 붙어있는 두 입자 중심점간의 거리를 측정하여 입자의 지름을 구하는 방법이다. 표면장력에 의해 배열이 형성된 시편 입자들의 초점군을 투과식 광학현미경에 평행 레이저광을 입사시켜 얻어내고 CCD 카메라로 영상을 받아 전산 분석하였다. Global lab image라는 영상처리 프로그램으로 초점들의 중심점을 찾고 붙어있는 입자들의 중심점간 거리를 화소(CCD 카메라의 pixel)단위로 계산하였으며, 화소의 좌표는 레이저 간섭계로 변위를 읽는 이송대를 이용하여 교정하였다. 기존의 측정방법을 개선하여 빠른 시간에 간편하게 측정하면서도 표준입자의 배율고정에 충분한 불확도를 얻을 수 있었다. 본 실험에는 NIST 인증물질인 3$\mu\textrm{m}$와 10$\mu\textrm{m}$ 폴리스티렌구(NIST SRM 1962, 1960)를 측정하였으며, 1%이하의 불확도(신뢰도 99% 수준)로써 NIST 결과와비교하였다.

• 대한소아치과학회지
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• 제27권2호
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• pp.351-360
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• 2000

치면 산처리가 V급 와동의 compomer 수복에서 미세누출에 미치는 영향을 평가하기 위하여 180개의 발거된 건전한 치아에 생리적인 치수내압을 가한 시편을 제작하였으며, CEJ 1mm 상방에 $6\times3\times2mm$의 상자형 V급 와동을 형성하여 수복재료 및 산처리 시간에 따라 다음과 같이 30개씩 6개의 군으로 분류하였다. A : Dyract AP + Prime&Bond 2.1 1군 : 산처리 없음, 2군 : 15초간 산처리 시행, 3군 : 30초간 산처리 시행. B : F2000 + Single Bond adhesive 1군 : 산처리 없음, 2군 : 15초간 산처리 시행, 3군 30초간 산처리 시행. 산처리를 제외한 모든 수복과정은 제조회사의 지시에 따랐으며, 수복 후 시편은 $5\sim55^{\circ}C$에서 500회의 thermocycling을 거쳐 5% methylene blue용액에 5시간 동안 침적 후 교정용 투명레진에 매몰되었다. 저속용 경조직 절단기로 시편을 절단후 20배율의 stereoscope 하에서 미세누출을 관찰하여 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 교합벽에서 Dyract AP는 산처리를 시행한 군이 산처리를 시행하지 않은 군에 비해 유의하게 낮은 미세누출을 보였지만 (p<0.05), F2000에서는 산처리 여부가 미세누출 정도에 유의차를 보이지 않았다(p>0.05). 2. 치은벽에서 Dyract AP는 산처리를 시행하지 않은 1군이 2군에 비해 유의하게 높은 미세누출 정도를 보였지만 (p=0.003), 3군과는 유의차를 보이지 않았고(p=0.99), F2000에서는 산처리가 미세누출을 유의하게 감소시켰다. (p<0.05). 3 교합벽과 치은벽의 비교에서, 두 재료 모두 교합벽에서 낮은 미세누출 정도를 보였지만, Dyract AP의 3군에서는 유의성을 보이지 않았다(p=0.117). 4. 두 재료 모두 2군과 3군 사이의 미세누출 정도에서는 유의차를 보이지 않았다(p>0.05). 이를 종합해 볼 때, compomer 수복 시 산처리는 미세누출을 감소시키는 유효한 방법이라고 사료된다.

• 대한소아치과학회지
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• 제31권4호
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• pp.636-644
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• 2004

최근 자가 부식형 접착 시스템이 개발되어 법랑질 및 상아질에 모두 적용할 수 있고, 임상적 술식을 단순화 시켰다. 이 접착 시스템은 적용하기 용이하고 임상적으로도 법랑질 및 상아질에 높은 결합강도를 보인다고 보고되고 있다. 이 연구는 in vitro 상에서 복합레진 5급 와동의 법랑질 및 상아질 경계에서 전부식 처리를 동반한 one-bottle 접착시스템과 자가 부식형 접착 시스템을 사용하였을 때 미세 누출을 비교하기 위해 시행하였다. 교정적 목적으로 발치된 30개의 소구치를 무작위적으로 3개 군으로 나누었다; 1 군 (Single $Bond^{(R)}$ + Filtek $Z250^{(R)}$), 2 군 (Clearfil SE $Bond^{(R)}$ + Filtek $Z250^{(R)}$), 3 군 (Adper Prompt $L-Pop^{(R)}$ + Filtek $Z250^{(R)}$). 표준화된 5급 와동을 각 소구치 협면, 설면에서 백악-법랑경계에 평행하게 형성하였으며, 와동의 치은측 1/2은 백악법랑경계보다 1mm 치근단으로 연장하였다. 접착 시스템을 제조자의 지시대로 적용한 다음 복합레진을 충전하고 제조자의 지시대로 광중합하였다. 시편을 $37^{\circ}C$ 증류수에 5일 간 보관 후 $5^{\circ}C{\pm}2^{\circ}C$ 와 $55^{\circ}C{\pm}2^{\circ}$에서 1000회 열순환한 다음, 2% methylene blue 용액에 12시간 침잠시켰다. $Isomet^{TM}$ (Buehler Co., Lake Bluff, IL, USA)을 사용하여 치아를 충전물 중앙에서 종절단한 후 입체 현미 경하에서 25배의 배율로 색소 침투도를 평가하였다. 결과는 t-test 와 one-way ANOVA를 이용하여 통계처리 하였다. 결과는 다음과 같았다. ${\cdot}$ 실험에 사용 된 접착 시스템 중에 미세 누출을 완벽하게 방지하는 접착 시스템은 없었다. ${\cdot}$ 상아질 경계에서의 미세 누출이 법랑질 경계에서보다 통계학적으로 유의하게 더 많았다(p<0.0001). ${\cdot}$ 법랑질 경계에서 자가 부식형 접착 시스템은 전부식 처리를 동반한 one-bottle접착 시스템과 통계학적으로 유의한 차이를 보이지 않았다. ${\cdot}$ 상아질 경계에서, 자가 부식형 접착 시스템은 전부식 처리를 동반한 one-bottle 접착 시스템과 통계학적으로 유의한 차이를 보이지 않았다.