이등분한 실의 주광율(Daylight Factor)의 비를 규제도의 지수로서 Lumen Method와 같이 정하고, 이를 만족하는 실의 깊이를 검토한 후, 설계 평균 주광율을 만족하는 창의 면적을 구하였다. 본 논문에서 제안한 창의 면적 자체가 다른 벽면의 면적 변화에 영향을 주고 있음을 고려하지 않은 종래의 방법을 개선하였다. 이후 주광율 요소 중 가장 지배적인 양인 운천공으로부터 입사하는 성분(SCo: Sky Component from overcast Sky)의 분포를 창의 위치와 형태를 변화시켜 조사, 평가하였다.
육계 사양가의 목적은 최소가능비용으로 육계의 만족스런 성장을 이끌어 내는데 있다. 이런 만족스런 성장을 이루기 위해서는 온도, 환기, 습도관리가 중요하나 특히 우리나라처럼 혹한, 혹서기 기후를 가진 지역에서는 환기가 다른 어떤 요인보다 더 중요하다. 일반 사양가에서는 혹한기 온도에 치중하다보면 습도가 높아지게 되고 적정습도유지에 신경을 쓰다보면 온도가 문제가 되는데 이런 경우에 우리는 환기관리의 중요성을 실감케 된다. 환기관리는 단순히 공기교체나 산소공급만을 의미하는 것이 아니라 최적의 환기관리를 통해 질병발생율을 최소화하여 생산성 극대화를 이루도록 하는데 있다.
1. 회신율은 연구 주관기관이나 설문조사 내용, 표본의 성격, 응답자에게 주는 이익의 정도, 독촉 방법에 따라 많은 차이를 보이겠지만 본 사례에서 우편설문에 관한 응답양상을 살펴본 바, 회신율에 있어서는 1차 발송후 총 대상에 대하여 약 15-20% , 미응답 대상에 대한 2차 발송 후 2차 대상의 약 30%, 1, 2차 미응답 대상에 대한 3차 발송후 3차 대상의 약 20%정도의 회신율을 보여 총 회신율에 있어서는 약 54%정도를 보이었다. 이것은 사회과학 연구 조사에서의 회신율 10-25%에 비하여는 상당히 높다고 할 수 있고(김경동, 1986), 질문서 회신율이 50%면 분석의 목적 상 무난하다고 보아야 하고, 60%면 좋은 편이고, 70%가 넘으면 아주 훌륭하다는 Babbie(1973)의 의견에 비추어 볼 때 무응답 대상에 대한 비교연구가 수반되어야 정확한 판단을 내릴 수 있겠지만 본 사례에서의 회신율은 그런대로 만족할 수 있는 수준이라고 생각된다. 2. 미응답 대상에 대한 독촉 발송 시기에 있어서는 미응답 대상에 대하여 최초 발송 2주일 후 정도가 적절할 것으로 판단되며, 3차 발송까지 시행하는 것이 회신율을 높일 수 있는 방법으로 생각된다. 3차 발송 이후에도 응답이 없는 경우 또다시 독촉(4차 이상 발송)하여도 전체 회신율에는 크게 영향을 미치지 않을 것으로 예상된다. Christopher는 정부의 후원을 받는 조사 연구의 경우 회신율이 높다고 보고하였는데 이번 조사연구에서도 관련 부처로부터의 협조 공문이 회신율을 높이는데 기여하였다고 사료된다(Oppenheim, 1966).
전하 트랩형 비휘발성 메모리는 10년 이상의 데이터 보존 능력과 빠른 쓰기/지우기 속도가 요구 된다. 그러나 두 가지 특성은 터널 산화막의 두께에 따라 서로 trade off 관계를 갖는다. 즉, 두 가지 특성을 모두 만족 시키면서 scaling down 하기는 매우 힘들다. 이것의 해결책으로 적층된 유전막을 터널 산화막으로 사용하여 쓰기/지우기 속도와 데이터 보존 특성을 만족하는 Tunnel Barrier engineered Memory (TBM)이 있다. TBM은 가운데 장벽은 높고 기판과 전극쪽의 장벽이 낮은 crested barrier type이 있으며, 이와 반대로 가운데 장벽은 낮고 기판과 전극쪽의 장벽이 높은 VARIOT barrier type이 있다. 일반적으로 유전율과 밴드갭(band gap)의 관계는 유전율이 클수록 밴드갭이 작은 특성을 갖는다. 이러한 관계로 인해 일반적으로 crested type의 터널산화막층은 high-k/low-k/high-k의 물질로 적층되며, VARIOT type은 low-k/high-k/low-k의 물질로 적층된다. 이 형태는 밴드갭이 다른 물질을 적층했을 때 전계에 따라 터널 장벽의 변화가 민감하여 전자의 장벽 투과율이 매우 빠르게 변화하는 특징을 갖는다. 결국 전계에 민감도 향상으로 쓰기/지우기 속도가 향상되며 적층된 유전막의 물리적 두께의 증가로 인해 데이터 보존 특성 또한 향상되는 장점을 갖는다. 본 연구에서는 기존의 TBM과 다른 형태의 staggered tunnel barrier를 제안한다. staggered tunnel barrier는 heterostructure의 에너지 밴드 구조 중 하나로 밴드 line up은 두 밴드들이 같은 방향으로 shift된 형태이다. 즉, 가전자대 에너지 장벽의 minimum이 한 쪽에 생기면 전도대 에너지 장벽의 maximum은 반대쪽에 생기는 형태를 갖는다. 이러한 밴드구조를 갖는 물질을 터널 산화막층으로 하게 되면 쓰기/지우기 속도를 증가시킬 수 있으며, 데이터 보존 능력 모두 만족할 수 있어 TBM의 터널 산화막으로의 사용이 기대된다. 본 연구에서 제작한 staggered TBM소자의 터널 산화막으로는 Si3N4/HfAlO (3/3 nm)을 사용하여 I-V(current-voltage), Retention, Endurance를 측정하여 메모리 소자로서의 특성을 분석하였으며, 제 1 터널 산화막(Si3N4)의 두께를 wet etching 시간 (0, 10, 20 sec)에 따른 메모리 특성을 비교 분석하였다.
현재 HIC는 차폐용기를 이용하여 소내 중간저장시설로 운반되고 있으나, 차폐용기가 국내 방사성폐기물 운반관련 규정에 부합하는지에 대한 논란이 있어왔다. 이에 따라 한국수력원자력(주)에서는 국내 규정 및 IAEA 규정을 만족하는 HIC 전용 운반용기 개발을 추진 중에 있으며, 원자력 환경기술원에서는 이를 위한 개념설계를 수행 중에 있다. 본 연구에서는 원전 현장에서 활용중인 방사성핵종분석 프로그램 자료와 Micro Shield 전산코드를 활용하여 법적기준을 만족하는 차폐체의 두께를 계산하고자 하였다. 차폐체는 구조적 안전성을 고려하여 탄소강으로 결정하였으며, 차폐체의 두께를 HIC 표면선량율 500 R/hr와 100 R/hr의 경우로 각각 나누어 계산하였다. 계산결과 표면선량율이 500 R/hr일 경우 차폐체의 두께가 22 cm, 표면선량율이 100 R/hr일 경우는 차폐체의 두께가 17 cm 일 때 법적 제한치를 만족 하는 것으로 평가 되었다.
전하 트랩형 비휘발성 메모리는 10년 이상의 데이터 보존 능력과 빠른 쓰기/지우기 속도가 요구 된다. 그러나 두 가지 특성은 터널 산화막의 두께에 따라 서로 trade off 관계를 갖는다. 즉, 두 가지 특성을 모두 만족 시키면서 scaling down 하기는 매우 힘들다. 이것의 해결책으로 적층된 유전막을 터널 산화막으로 사용하여 쓰기/지우기 속도와 데이터 보존 특성을 만족하는 Tunnel Barrier engineered Memory (TBM)이 있다. TBM은 가운데 장벽은 높고 기판과 전극쪽의 장벽이 낮은 crested barrier type이 있으며, 이와 반대로 가운데 장벽은 낮고 기판과 전극쪽의 장벽이 높은 VARIOT barrier type이 있다. 일반적으로 유전율과 밴드갭(band gap)의 관계는 유전율이 클수록 밴드갭이 작은 특성을 갖는다. 이러한 관계로 인해 일반적으로 crested type의 터널 산화막층은 high-k/low-k/high-k의 물질로 적층되며, VARIOT type은 low-k/high-k/low-k의 물질로 적층된다. 이 형태는 밴드갭이 다른 물질을 적층했을 때 전계에 따라 터널 장벽의 변화가 민감하여 전자의 장벽 투과율이 매우 빠르게 변화하는 특징을 갖는다. 결국 전계에 민감도 향상으로 쓰기/지우기 속도가 향상되며 적층된 유전막의 물리적 두께의 증가로 인해 데이터 보존 특성 또한 향상되는 장점을 갖는다. 본 연구에서는 기존의 TBM과 다른 형태의 staggered tunnel barrier를 제안한다. staggered tunnel barrier는 heterostructure의 에너지 밴드 구조 중 하나로 밴드 line up은 두 밴드들이 같은 방향으로 shift된 형태이다. 즉, 가전자대 에너지 장벽의 minimum이 한 쪽에 생기면 전도대 에너지 장벽의 maximum은 반대쪽에 생기는 형태를 갖는다. 이러한 밴드구조를 갖는 물질을 터널 산화막층으로 하게 되면 쓰기/지우기 속도를 증가시킬 수 있으며, 데이터 보존 능력 모두 만족할 수 있어 TBM의 터널 산화막으로의 사용이 기대된다. 본 연구에서 제작한 staggered TBM소자의 터널 산화막으로는 $Si_3N_4$/HfAlO (Hf:Al=1:3)을 사용하여 I-V(current-voltage), Retention, Endurance를 측정하여 메모리 소자로서의 특성을 분석하였으며, 터널 산화막의 제 1층인 $Si_3N_4$의 두께를 1.5 nm, 3 nm일 때의 특성을 비교 분석하였다.
편층증의 개인치료와 집단관리에 있어서 메벤다졸의 유용성 및 효과를 측정하였다. 메벤다졸(100∼1,200mg) 투약 3주후 430명에 있어서의 치료효과는 15.0∼64.0% 및 24.6∼95.2%의 치유율 및 충란감소율을 보여 대체로 만족스럽지 못한 결과이었으나 메벤다졸의 총 투여량이 높으면 높을수록 치유율 및 충란감소율도 높아지는 것이 관찰되었다. 일정간격 반복투여(600mg용량)에 의한 집단관리를 주민(4개군, 총 551명)의 편충란양성율은 3개월간격(3일 분복군) 투여 군에서 가장 현저한 감소추세를 보여 관리시작후 1년만에 40.0%에서 5.6%로 저하되었고, 3개월 간격(단희 또는 2회 분복군), 6개월, 12개월군 및 대조군에서는 감소추세가 완만하거나 거의 관찰되지 않았다. 이상의 결과로 보아, 메벤다졸은 편충의 개인치료에는 그다지 우수한 결과를 나타내지 않았으나, 3개월간격으로 반복투여하면 집단관리에는 유효한 약제가 될 수 있을 것으로 생각되었다.
본 연구는 초유동 콘크리트용 모르타르의 물/결합재비 및 고성능 감수제 첨가율에 따른 상대플로우 면적비와 상대깔대기 속도비의 상관관계를 실험으로 검토한 것이다. 구속수비 실험결과, C급 플라이애쉬>F급 플라이애쉬 > 석회석분순으로 나타났기 때문에 F급 플라이애쉬 및 석회석분은 유동성 개선에 효과적인 것으로 나타났다. 또한 모르타르 실험결과, 상대플로우 면적비와 상대깔대기 속도비는 고성능 감수제 첨가율이 일정할 경우 물/결합재비의 변화에 따라 원점을 지나는 직선관계로 나타났지만, 물/결합재비가 일정할 경우에는 고성능 감수제 첨가율의 변화에 따라 원점을 지나는 곡선관계로 나타났다. 따라서, 수식화 모델은 Rm= A. m0.4가 합리적이며, 최적값인 ( m .Rm)=(5.1)을 만족하는 배합조건은 플라이애쉬의 경우 치환율 30%, 물/결합재비 83%이며, 석회분의 경우 치환율30%, 물/결합재비 77%로 판명되었다.
이 연구는 DVB-S2 전송시스템을 Ku/Ka대역 위성방송서비스에 적용하는 방안을 제안하였다. 이를 위하여 DVB-S2 전송시스템의 수신성능을 변조방식 및 LDPC 부호 율에 따라 S/W 모의실험을 통하여 분석하였으며, 우리나라가 속한 K지역에서 시간 율에 따른 강우감쇠 정도를 Ku 및 Ka대역에서 분석하였다. 수신성능 분석결과와 시간 율에 따른 강우감쇠 정도를 이용하여, Ku 및 Ka대역에서 특정 시간 율을 만족하는 위성방송서비스를 제공하기 위한 DVB-S2 전송시스템의 변조방식 및 LDPC 부호 율을 제안하였다.
난류혼합율에 대한 예측은 원자로의 노심 열수력 설계에 있어 매우 중요한 일이다. 봉다발 구조에서 난류혼합의 주요 원인으로 지목되고 있는 유동액동(flow pulsation) 현상에 대한 척도평가(scale analysis)틀 통해 봉다발 유동장을 흐르는 저 Prandtl 수 유채에 대판 난류혼합율 평가식을 유도하였다. 난류혼합에 기여하는 인자가 분자운동, 등방성 난류운동(유동맥동 효과률 배제한 난류운동), 그리고 유동맥동의 세 부분으로 구성되어 있다고 가정하고, 각각에 대한 길이 및 속도척도를 평가하여 난류혼합율을 유도하였다. 평가식에는 P/D, Re수 P${\gamma}$ 수 등의 인자가 고려되어 있어 다양한 기하학적, 수력학적 조건과 유체의 물리적 특성이 반영되어 있다. 유도원 난류혼합율 평가식을 실험 상관식과 비교하였으며, 비교 결과 만족스러운 것으로 나타났다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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