• Title/Summary/Keyword: 나노 스케일 박막

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나노 스케일 Oxides박막의 전처리방법에 따른 XRR 특성 변화

  • Bin, Seok-Min;Yu, Byeong-Yun;Park, Jae-Hwan;Kim, Chang-Su;O, Byeong-Seong;Choe, Yong-Dae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.199-199
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    • 2010
  • XRR(X-ray reflectometry)은 나노 스케일 박막의 두께를 측정하는 유망한 도구로 인식되고 있고, XRR측정 결과의 신뢰성을 향상시키기 위하여 많은 연구가 이루어지고 있다. 본 연구에서는 나노 스케일 박막 두께의 정확한 측정을 위해 Si기판 위에 성장시킨 $HfO_2$, $Al_2O_3$, $Ta_2O_5$의 산화물 박막에 대하여 여러 가지 전처리 조건을 변화시켜 조건에 따른 반사율 곡선의 변화와 분석 결과를 살펴보았다. 샘플의 전처리에는 acetone, sulfuric acid, methanol, 초음파세척기를 이용하였고, 전처리가 끝난 후 샘플에 남아있는 수분기를 제거하기 위하여 약 $150^{\circ}C$의 온도로 가열 후 측정비교 분석하였다. 전처리 시 solution과 시간 등의 전처리 조건이 변화함에 따라 X-선 반사율 곡선의 변화가 있음을 알 수 있었고, 이에 따라 XRR 측정 분석 시 두께에 영향을 받았으며, TEM과 XPS를 이용하여 전처리 영향에 대하여 비교 분석 하였다. 이번 연구를 통하여 전처리 방법에 따라 XRR 측정에 정확성을 향상 시킬 수 있는 있는 것으로 보여진다.

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Sequential multiscale analysis of FCC nanofilm considering hyperelastic effect (비선형 탄성효과를 고려한 FCC 나노박막의 순차적 멀티스케일 해석)

  • Kim, Won-Bae;Cho, Maeng-Hyo
    • Proceedings of the Computational Structural Engineering Institute Conference
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    • 2011.04a
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    • pp.253-256
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    • 2011
  • 본 논문에서는 표면효과와 비선형 탄성효과를 고려한 FCC 나노박막의 순차적 멀티스케일 해석 모델을 제시한다. 표면에서의 구성방정식은 표면응력과 표면탄성계수를 이용하여 선형으로 표시되며, 표면효과를 나타내기 위한 표면물성들은 EAM 포텐셜을 이용한 원자적 계산 방법으로 계산된다. 두께가 얇은 나노박막은 표면응력으로 인하여 면내 방향으로 수축 또는 인장의 변형이 발생하게 된다. 나노박막의 평형상태에서의 변형율은 두께가 얇은 박막의 경우 재료가 선형 탄성 영역을 벗어나는 값을 가지는 경우가 많으므로 나노박막의 해석시 벌크 영역의 비선형 탄성 효과를 고려해야 한다. 이러한 비선형 탄성 효과를 고려하기 위해 본 연구에서는 FCC 구조를 가지는 금속의 비선형 탄성 모델을 제시하고, EAM 포텐셜로 계산된 응력과 탄성 계수를 이용하여 매칭 기법을 통하여 비선형 탄성 모델의 계수들을 결정한다. 또한 Cauchy-Born Rule 모델과 분자동역학 전산모사를 통하여 본 연구에서 제안된 비선형 탄성 모델에 대한 검증을 수행한다.

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Nondestructive Evaluation of Nanostructured Thin Film System Using Scanning Acoustic Microscopy (초음파현미경을 이용한 나노 구조 박막 시스템의 비파괴평가)

  • Miyasaka, Chiaki;Park, Ik-Keun;Park, Tae-Sung
    • Journal of the Korean Society for Nondestructive Testing
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    • v.30 no.5
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    • pp.437-443
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    • 2010
  • In recent years, as nano scale structured thin film technology has emerged in various fields such as the materials, biomedical and acoustic sciences, the quantitative nondestructive adhesion evaluation of thin film interfaces using ultra high frequency scanning acoustic microscopy(SAM) has become an important issue in terms of the longevity and durability of thin film devices. In this study, an effective technique for investigating the interfaces of nano scale structured thin film systems is described, based on the focusing of ultrasonic waves, the generation of leaky surface acoustic waves(LSAWs), V(z) curve simulation and ultra high frequency acoustical imaging_ Computer simulations of the V(z) curve were performed to estimate the sensitivity of detection of micro flaws(i.e., delamination) in a thin film system. Finally, experiments were conducted to confirm that a SAM system operating at a frequency of 1 GHz can be useful to visualize the micro flaws in nano structured thin film systems.

Anodic Oxide Membrane Formation of Hexagonal Pore Arrarys on Aluminium (다공성 알루미나 박막의 나노 스케일 구조 제어)

  • Jung, Kyung-Han;Shin, Hoon-Kyu;Kwon, Young-Soo
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2002.07b
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    • pp.830-833
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    • 2002
  • 최근 나노 구조 (nano structure)를 만들기 위한 시도 중 하나로서 스스로 조직화(self organization)하여 나노 구조를 형성하는 물질을 나노 소자 제작을 위한 형틀 (template)로 이용하려는 시도가 활발히 진행되고 있다. 이러한 물질로서 주목을 받고있는 것 중 하나가 전해질 용액에서 알루미늄을 양극산화(anodization) 시켰을 때 형성되는 다공성 알루미나 박막이다. 본 연구에서는 고 순도 알루미늄을 기계적으로 연마(mechanical polishing)하고 공기 분위기에서 어닐링 (annealing)하여 알루미늄을 재결정화(recrystallization) 시키고 인가 전압이 40 V인 정 전압하에서 0.3 M의 수산(oxalic acid)을 전해질로 사용하면서 양극산화를 수행하여 평균 직경이 65 nm인 고도로 배열된 육방밀집구조의 나노 다공성 박막을 제작하였다. 또한 같은 방향의 육방밀집 배열은 크기가 수 ${\mu}m$인 영역(grain)을 형성하고 있었으며, 평균적인 pore의 밀도는 $1.1{\times}10^{10}/cm^2$였다.

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Device Design Guideline for Nano-scale SOI MOSFETs (나노 스케일 SOI MOSFET를 위한 소자설계 가이드라인)

  • Lee, Jae-Ki;Yu, Chong-Gun;Park, Jong-Tae
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.39 no.7
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    • pp.1-6
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    • 2002
  • For an optimum device design of nano-scale SOI devices, this paper describes the short channel effects of multi-gate structures SOI MOSFETs such as double gate, triple gate and quadruple gate, as well as a new proposed Pi gate using computer simulation. The simulation has been performed with different channel doping concentrations, channel widths, silicon film thickness, and vertical gate extension depths of Pi gate. From the simulation results, it is found that Pi gate devices have a large margin in determination of doping concentrations, channel widths and film thickness comparing to double and triple gate devices because Pi gate devices offer a better short channel effects.

Multi-scale Analysis of Thin film Considering Surface Effects (표면효과를 고려한 박막구조의 멀티스케일 해석)

  • Cho, Maeng-Hyo;Choi, Jin-Bok;Jung, Kwang-Sub
    • Journal of the Computational Structural Engineering Institute of Korea
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    • v.20 no.3
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    • pp.287-292
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    • 2007
  • In general, the response of bulk material is independent of its size when it comes to considering classical elasticity theory. Because the surface to bulk ratio of the large solids is very small, the influence of surface can be negligible. But the surface effect plays important role as the surface to bulk ratio becomes larger, that is, the contribution of the surface effect must be considered in nano-size elements such as thin film or beam structure. Molecular dynamics computation has been a conventional way to analyze these ultra-thin structures but this method is limited to simulate on the order of $10^6{\sim}10^9$ atoms for a few nanoseconds, and besides, very time consuming. Analysis of structures in submicro to micro range(thin-film, wire etc.) is difficult with classical molecular dynamics due to the restriction of computing resources and time. Therefore, in this paper, the continuum-based method is considered to simulate the overall physical and mechanical properties of the structures in nano-scale, especially, for the thin-film.

Structural characterization of oxynitride films by synchrotron x-ray reflectivity analysis (방사광 X-선 반사도론 이용한 oxynitride 나노박막의 두께와 계면 거칠기 측정)

  • 장창환;주만길;신광수;오원태;이문호
    • Proceedings of the Korea Crystallographic Association Conference
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    • 2002.11a
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    • pp.44-44
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    • 2002
  • 방사광 X-선 반사도를 이용하여 나노 스케일의 두께를 가진 oxynitride 박막의 계면 구조 및 두께를 측정하였다. Oxynitride 박막에서 nitrogen 분포의 분석은 두께가 극도로 얇아지는 요즘의 반도체 제작에서 매우 중요한 과제로 대두되고 있다. (1) X-선 반사도 측정을 분석하여 박막 깊이에 따른 전자밀도분포와 계면에서의 거칠기 및 각 층의 두께가 결정되었다. X-선 반사도 측정 분석으로부터 Nitrogen은 SiO₂와 Si substrate 계면에 위치하며, 화학조성분포와 층 구조의 상관성을 SIMS를 이용한 조성분포 측정과 비교하였다.

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나노스케일 절삭현상의 분자동역학적 시뮬레이션

  • 성인하;김대은;장원석
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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    • 2004.05a
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    • pp.129-129
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    • 2004
  • 본 연구에서는 나노스케일 절삭가공(nanometric cutting process)시에 미세 팁과 가공표면사이에서 발생하는 현상들에 대하여 분자동역학적 시뮬레이션을 통하여 살펴보았다 본 연구의 목적은 실험적으로는 파악하기 어려운 극미세 가공에서 발생하는 나노트라이볼로지적 현상을 이해하고, 이를 토대로 기계적 가공에 기반하여 개발된 '기계-화학적 나노리소그래피(Mechano-Chemical Scanning Probe Lithography)' 공정을 개선, 발전시키는데 있다. 기계-화학적 나노리소그래피 기술은 극초박막의 리지스트(resist)를 미세탐침을 이용하여 기계적 가공으로 제거하고 이로인해 표면으로 드러난 모재부분을 화학적 에칭에 의해 추가로 가공하여 원하는 패턴형상을 얻어내는 기술이다.(중략)

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Diffuse Reflectance Enhancement through Wrinkling of Nanoscale Thin Films (나노스케일 박막의 표면주름 형성을 통한 산란반사도 향상)

  • Kim, Yun Young
    • Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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    • v.39 no.12
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    • pp.1245-1249
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    • 2015
  • This study investigated the reflection spectra of wrinkled metal/polymer multilayers. A wavy surface was self-assembled by annealing an aluminum-coated poly(methyl metacrylate) layer on a silicon substrate. The total and diffuse reflectance characteristics of the sample with additional metal coatings(aluminum or silver) were evaluated in the visible wavelength(400~800 nm) using a spectrophotometer. The results showed that the wrinkled surface enhanced the diffuse reflectance up to 40~50% in the lower-wavelength range, demonstrating its potential for applications to optical thin-film devices.