• The Science & Technology
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• v.33 no.5 s.372
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• pp.18-19
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• 2000

현대의 대표적인 정밀가공기술의 하나는 반도체 가공기술이다. IMB메모리 반도체를 만드는 최소의 선폭은 1985년에는 I마이크로미터(㎛)였으나 현재의 256MB의 메모리 반도체에는 0.2㎛의 미세선폭이 사용되고 있다. 21세기에는 나노테크놀로지 기술이 정밀가공기술의 최선단을 이룰 것으로 예견되고 있는데 현재 국내의 미세가공기술은 메모리 반도체의 제조기술에 관한 한 세계의 선두를 달리고 있으며 0.18마이크론 선폭의 가공기술을 개발하여 1GB의 메모리 반도체 개발에 활용하고 있다.

• The Optical Journal
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• s.106
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• pp.17-22
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• 2006

21세기 들어 BT, IT, NT, ST 관련 첨단산업이 우리나라의 미래를 선도할 산업으로 새롭게 부각되고 있다. 이들 산업의 핵심 부품 가공에 다이아몬드 선반을 이용한 초정밀 가공 기술은 계속해서 활용폭이 커질 뿐만 아니라 현재보다 한 단계 더 높은 가공정도, 즉 마이크로 이하 나노단위의 초정밀 가공기술이 요구될 것이다. 따라서 우리나라의 초정밀 가공 기술 분야에서 국가적인 기술요구에 부응하고 선진국에 대한 기술경쟁력을 확보하기 위해서는 다이아몬드공구 및 연삭 휠을 이용한 초정밀 가공의 기초 기술에 대한 보다 많은 연구가 필요하다.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2004.05a
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• pp.128-128
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• 2004

나노 스케일의 구조물 제작에 있어서 기존의 리소그래피 공정들이 가지는 한계점을 극복하기 위해서 다양한 방식의 새로운 공정들이 개발되고 있다. 특히, 기계-화학적 가공공정을 이용한 미세탐침 기반의 나노리소그래피 기술(Mechano-Chemical Scaning Probe based Lithography; MC-SPL)은 기존의 포토리소그래피 공정의 단점을 극복하고, 보다 경제적이며 패턴 디자인 변경이 유연한 미세 패턴 제작 기술임이 확인되었다.(중략)

• The Journal of the Korea Contents Association
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• v.3 no.4
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• pp.95-102
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• 2003

He report a systematic method which is useful for the information analysis on technology trends and market status and the construction of analyzed contents for analyzed contents for nanotechnology(NT). For the selection of key subjects, we first surveyed the preliminary demand for items and asked for the opinions of an advisory committee, and implemented the analysis on information and technology trends jointly with internal and external experts. As a result of this study, not only a theoretical method for information analysis is presented, but also a database for the analysis contents is constructed by applying this method. Eventually the national competitiveness for NT is expected to improve by providing these contents to the experts in industry, universities, research institutes and government through internet, publications and CD-ROM.

• Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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• v.13 no.6
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• pp.119-126
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• 2014

Micro-holes of conductive ceramic are required in micro structures. Micro-electrical discharge machining (Micro-EDM) is an effective machining method since EDM is as process for shaping hard metals and complex-shaped holes by spark erosion in all kinds of electro-conductive materials. However, as the depth of micro hole increases, the machining condition becomes more unstable due to inefficient removal of debris between the electrode and the workpiece. In this paper, micro-EDM was performed to evaluate machining characteristic such as electrode wear, machining time, taper angle, radial clearance with varying voltage and ultrasonic vibration on 10 vol.% Carbon-nanotube reinforced conductive $Al_2O_3$ composite fabricated by spark plasma sintering in previous research.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2003.11a
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• pp.40-40
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• 2003

최근 나노기술의 발달과 더불어 나노재료에 대한 특성평가 요구가 높아지고 있고, 따라서 나노스케일에서 재료의 기계적 거동을 분석할 수 있는 나노인덴테이션 기법이 심도있게 연구되고 있다. 본 연구에서는 나노인덴테이션, 주사탐침현미경(SPM), 투과전자현미경(TEM) 기법을 이용하여 여러가지 재료의 탄성 소성 변형 거동과 팝인/괍아웃 현상을 조사하고 해석하였다. 나노인덴테이션 기법으로는 50 마이크로뉴턴 (5 mg) 이하의 매우 작은 하중 하에서는 접촉 응력조건이라도 인장시험에서 관찰되는 영구변형이 제로인 완전탄성 변형 거동을 관찰할 수 있었다. 또한, 50-250 마이크로 뉴턴의 하중 범위에서 재료는 탄성변형 이후에 갑작스런 항복거동과 더불어 수십-수백 나노미터를 미끌어지듯 변형하는 팝인(pop-in), 또는 탈선(excursion) 현상을 관찰할 수 있었다. 이 현상은 하중을 가하는 동안에 여러 번 발생하였으며 재료의 표면상태와 전위밀도와 밀접한 상관관계를 보였다. 반복 압입 시험에서는 전형적인 가공경화 현상으로 항복점이 높아지고 새로운 항복점 이후에야 다시 팝인 발생함을 보였다. 한편, 하중을 가할 때 발생하는 팝인과는 달리 하중을 제거할 때 급격히 회복하는 팝아웃 현상 또한 관찰되었다.

• Proceedings of the Korean Society for Technology of Plasticity Conference
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• 2003.05a
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• pp.448-451
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• 2003

This study describes a new maskless nano-fabrication technique of Si (100) using the combination of nanometer-scale mechanical forming by nano-indenter XP and KOH wet etching. First the surface of a Si (100) specimen was machined by using the nano-machining system, which utilizes the mechanism of the nano-indenter XP. Next, the specimen was etched by KOH solution. After the etching process, the convex structure or deeper hole is made because of masking or promotion effect of the affected layer generated by nano-machining. On the basis of this interesting fact, some sample structures were fabricated.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.24 no.8 s.197
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• pp.108-115
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• 2007

3D nano-scale manufacturing is an important aspect of advanced manufacturing technology. A key element in ability to view, fabricate, and in some cases operate micro-devices is the availability of tightly focused particle beams, particularly of photons, electrons, and ions. The use of ions is the only way to fabricate directly micro-/ nano-scale structures. It has been utilized as a direct-write method for lithography, implantation, and milling of functional devices. The simulation of ion beam induced physical and chemical phenomena based on sound mathematical models associated with simulation methods is presented for 3D micro-/nanofabrication. The results obtained from experimental investigation and characteristics of ion beam induced direct fabrication will be discussed.

• Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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• v.8 no.4
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• pp.104-109
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• 2009

In this paper, polymer nanocomposites were fabricated by mixing fire-resistant and high pseudoplastic Nylon 6,6 with MWNT(Multiwalled Nanotube), which has mechanical, electrical, and heat stable properties. The experiments were performed in order to investigate their mechanical and electrical properties depending on the level of MWNT and the presence of acid treatment on Nylon 6.6. Morphology of polymer nanocomposites was observed using Scanning Electron Microscopy technique. The results indicate that the polymer nanocomposites have the best mechanical and electrical properties in the optimal conditions of Nylon 6.6 and MWNT(10wt%).

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.22 no.2
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• pp.194-201
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• 2005

Nanoscale fabrication of silicon substrate in an aqueous solution based on the use of atomic force microscopy was demonstrated. A specially designed cantilever with diamond tip, allowing the formation of damaged layer on silicon substrate easily by a simple scratching process (Tribo-Nanolithography, TNL), has been applied instead of conventional silicon cantilever for scanning. A slant nanostructure can be fabricated by a process in which a thin damaged layer rapidly forms in the substrate at the diamond tip-sample junction along scanning path of the tip and simultaneously the area uncovered with the damaged layer is being etched. This study demonstrates how the TNL parameters can affect the formation of damaged layer and the shape of 3-D structure, hence introducing a new process of AFM-based nanolithography in aqueous solution.