Properties of ultra-thin silicon oxynitride films using plasma-assisted oxynitridation method (플라즈마 처리 기법을 이용한 초박형 실리콘 옥시나이트라이드 박막의 특성)
-
- Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
- /
- 2009.06a
- /
- pp.260-260
- /
- 2009