• Proceedings of the International Microelectronics And Packaging Society Conference
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• 2002.11a
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• pp.185-189
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• 2002

Mignetron sputter 장비를 이용하여 극자외선 노광공정용 Mo/Si 다층박막을 증착하였다. 증착 시편과 동일한 조건에서 수행된 시뮬레이션과 측정된 반사도 값을 비교하였고, d-spacing, 밀도, interface layer, 입사각 둥이 반사도에 어떠한 영향을 미치는지에 대하여 고찰하였다. 또한 측정된 반사도 그래프에 근접한 조건을 조사하였다. 이를 통하여 Mo/Si 다층박막의 반사도에 영향을 미치는 인자들과 그 영향에 대하여 알 수 있었다.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.5 no.1
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• pp.1-8
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• 1994

A five mirror system with a reduction magnification(M=+1/5) is designed for DUV optical lithography. First, for spherical mirror systems, the numerical solutions of all zero 3rd order aberrations are derived and the 3-dimensional shape of the solution-domain is obtained. In these solutions, we select solutions which have as less residual aberrations and smaller central obscurration as possible and the aspherization is carried out to the last two spherical mirrors to obtain a system that has as higher NA as possible. Finally we obtain the system of which NA is 0.45, the central obscuration is about 25% and the resolution is about 650 cycles/mm at the 50% MTF value criterion and the depth of focus of 0.8${\mu}m$ for the nearly incoherent illumination (${\sigma}$=1.0) and the wavelength of 0.193${\mu}m$ (ArF excimer laser line).

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.16 no.4
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• pp.304-312
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• 2005

Field performance of several different types of diffractive optical elements(DOEs) has been carried out. Using Zemax model, we have designed five different types of DOEs, such as transmissive flat-DOE, transmissive curved-DOE, reflective flat-DOE, reflective curved-DOE and parabolic mirror, We have applied two different wavelengths, i.e., 13 m(EUV) and 632.8 nm(visible) to above DOEs. Off_axis dominate aberrations and the diffraction limiting (Rayleigh limit) field angles have been investigated and compared at both wavelengths for each DOE. At diffraction limit, field angle of curved-DOEs was much greater than that of flat-DOEs for both transmission and reflective types. We also showed that dominated off_axis aberration of flat-DOEs was coma, but that of curved-DOEs was mixture of astigmatism and curvature of field. The measured field angle and expected OPD aberrations were well coincided with theoretical ones. Increasing the ratio of field angle with wavelength was more effective in curved-DOEs than flat-DOEs.

• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.8 no.2
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• pp.15-18
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• 2001

The Mo/si multilayer for EUV lithography was deposited using magnetron sputtering system. The multilayers were characterized using the cross-sectional transmission electron microscope (TEM) and low/high angle X-ray diffraction (XRD). The microstructure of Mo and Si was highly textured structure and amorphous, respectively. The well-defined low angle XRD peaks implies a well-defined multilayer structure. The interfacial layer of Mo-on-Si was thicker than Si-on-Mo interfacial layer.

• Proceedings of the KAIS Fall Conference
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• 2005.05a
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• pp.125-127
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• 2005

나노미터 크기의 임의형상 패턴을 형성하기 위해서 새로운 프리어 변환 리소그래피법을 개발하였다. 나노미터급 리소그래피에서 자외선과 엑스레이 같은 전자기파가 나노미터 크기로 형상을 새긴 마스크 위에 조사되면 회절현상이 발생하여 불명확한 패턴을 얻게 된다. 극자외선을 사용하지 않고도 상대적으로 긴 파장의 레이저빔을 특수하게 제작된 마스크를 통해 볼록렌즈에 조사할 경우에 프리어 평면이라 알려진 평면위에 나노미터 크기의 패턴을 형성할 수 있다는 것을 증명하였다. 이 방법은 매우 단순한 장치로 구성할 수 있다는 장점을 가질 수 있다.

• Journal of the Semiconductor & Display Technology
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• v.15 no.3
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• pp.1-5
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• 2016

In order to apply sub-resolution assist feature (SRAF) in extreme ultraviolet lithography, the maximum non-printing SRAF width and lithography process margin needs to be improved. Through simulation, we confirmed that the maximum SRAF width of 6% attenuated phase shift mask (PSM) is large compared to conventional binary intensity mask. The increase in SRAF width is due to dark region's reflectivity of PSM which consequently improves the process window. Furthermore, the critical dimension error caused by variation of SRAF width and center position is reduced by lower change in diffraction amplitude. Therefore, we speculate that the margin of SRAF application will be improved by using PSM.

• Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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• 2004.05a
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• pp.129-131
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• 2004

극자외선 리소그래피(EUV lithography) 기술은 50nm 이하의 선폭을 가지는 차세대 소자 제작에 있어서 선도적인 기술 중 하나이다. EUVL 에서 필수적인 요소중의 하나가 mirror 로 사용되는 blank mask 이다. Blank mask 에 있어서 가장 중요한 요소는 반사도이다. 이 blank mask 는 Si substrate 위에 반사를 위한 Mo/Si pair 가 40pair 이상 적층되어있다. Blank mask 는 매우 청결해야한다. 만약 결함이 있다면 blank mask 에는 치명적이다 결함은 blank mask 에 있어서 반사도를 떨어뜨리는 주 요소이기 때문이다. 그 결함에는 amplitude defect 과 phase defect 이 있다. FIB 에서는 amplitude defect 을 수정하는 것이 가능하다. 우리는 FIB 를 이용하여 mage mode, spot mode, bar rotation mode 를 사용하여 amplitude defect을 수정하였다. 그리고, 그 결과 효과적으로 amplitude defect을 수정하였다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2006.07c
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• pp.1457-1458
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• 2006

좁은 공간에 고출력 고에너지 레이저를 집속할 때 발생하는 고밀도, 고에너지 플라즈마 연구는 상태방정식, 실험실 천체물리, 전자가속 둥 기초 분야 뿐 아니라 X-선 및 극자외선 광원 개발, 원전 유지보수 등 다양한 산업 활용 분야를 갖고 있어 최근 미국, 프랑스, 일본, 중국 등 선진강대국에서 크게 주목 받고 있는 연구 분야이다. 한국원자력연구소는 물리나 광학의 원천기술 뿐 아니라 미래 산업에 파급효과 큰 플라즈마 기반 연구를 위하여 1 kJ급 고에너지 Nd:Glass 레이저 시설을 구축하고 있다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2006.07c
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• pp.1459-1460
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• 2006

A new gas jet Z-pinch EUV light source having double gas jet electrodes has been developed. It has two nozzles and two diffusers. The EUV beam is collected from the side of pinch plasma, generated in between the inner nozzle and corresponding diffuser. A cylindrical shell of He gas curtain produced by the outer nozzle is specially designed for shielding the debris and suppressing the inner gas expansion. We have succeeded in generating EUV energy of 1.22 mJ/sr/2%BW/pulse at 13.5nm. The estimated dimension of EUV source is to be FWHM diameter of 0.07 mm and length of 0.34 mm, and FW 1/e2 diameter of 0.15 mm and length of 1.2 mm.

• The Bulletin of The Korean Astronomical Society
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• v.44 no.1
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• pp.49.3-49.3
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• 2019

햇무리(halo) 모양 코로나질량방출(coroanl mass ejection) 현상은 1970년대 후반 처음 발견된 이후, 그 물리적 본질에 대해 많은 논쟁이 있었다. 우주 망원경 SOHO LASCO의 고분해능 관측이후, 햇무리 모양은 시선방향에 나란한 방향으로 팽창하며 진행하는 고깔모양의 자기 구조(cone-shaped magnetic flux rope)가 2차원 관측이미지에 투영된 것으로 해석하는 것이 정설이다. 우리는 이러한 해석이 사실인지 관측을 이용해 검증하고, 타당한 물리적 해석을 찾는다. 이를 위해 STEREO 우주선이 SOHO에서 관측한 태양의 측면을 관측했던 2010년부터 2012년 관측자료를 사용하고, SOHO에서 관측한 햇무리 모양의 코로나질량방출 현상의 측면 모습이 예전의 해석대로 고깔모양을 보여주는지 STEREO 우주선의 관측자료와 비교한다. 우리는 햇무리 모양이 시선방향에 상관없는 이 현상 고유의 모양임을 확인 했으며 극자외선 관측결과와 수치계산 결과와 비교하여 이 햇무리 모양은 파동 현상의 결과임을 알았다. 이는 코로나질량방출 현상과 관련한 해석에 많은 변화가 필요함을 의미한다.