Proceedings of the KAIS Fall Conference (한국산학기술학회:학술대회논문집)

The Korea Academia-Industrial cooperation Society (한국산학기술학회)
권호 표지

Development of A New Fourier Transform Lithography Method in Nano Meter Scale

새로운 나노미터급 프리어 변환 리소그래피법 개발

  • Kim Chang Kyo (School of Information Technology Engineering, Soonchunhyang University) ;
  • Hong Chinsoo (Department of Information and Physics, Soonchunhyang University) ;
  • Lee Eui Sik (School of Information Technology Engineering, Soonchunhyang University) ;
  • Park Sung Hoon (School of Information Technology Engineering, Soonchunhyang University)
  • 김창교 (순천향대학교 정보기술공학부) ;
  • 홍진수 (순천향대학교 정보물리학과) ;
  • 이의식 (순천향대학교 정보기술공학부) ;
  • 박성훈 (순천향대학교 정보기술공학부)
  • Published : 2005.05.01
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Abstract

나노미터 크기의 임의형상 패턴을 형성하기 위해서 새로운 프리어 변환 리소그래피법을 개발하였다. 나노미터급 리소그래피에서 자외선과 엑스레이 같은 전자기파가 나노미터 크기로 형상을 새긴 마스크 위에 조사되면 회절현상이 발생하여 불명확한 패턴을 얻게 된다. 극자외선을 사용하지 않고도 상대적으로 긴 파장의 레이저빔을 특수하게 제작된 마스크를 통해 볼록렌즈에 조사할 경우에 프리어 평면이라 알려진 평면위에 나노미터 크기의 패턴을 형성할 수 있다는 것을 증명하였다. 이 방법은 매우 단순한 장치로 구성할 수 있다는 장점을 가질 수 있다.

Keywords