• Title/Summary/Keyword: 균일함

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Evaluation of the exact optimum tilt angles in elevation scanned phase array radars (고도각 주사 위상 배열 레이다에서 정확한 최적 기움각 매김)

  • Lee, Min-Joon;Park, Jeong-Soon;Song, Iick-Ho;Lee, Joo-Shik;Kim, Suk-Chan
    • The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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    • v.23 no.6
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    • pp.1419-1424
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    • 1998
  • In phased array antennas that scan elevation, the number of radiator rows is one of the important factors to minimizing both cost and weitht. Therefore, the antenna tilt angles having relation with element spacing are among the improtant design parameters. The exact optimum tilt angles for several types of uniformly and nonuniformly excited arrays are obtained theoretically. Four types of uniform linear arrays and Chebyshev array factors as a nonuniformly excited arrav are considered.

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Fuzzy Test of Hypothesis by Uniformly Most Powerful Test (균일최강력검정에 의한 가설의 퍼지 검정)

  • Kang, Man-Ki
    • Journal of the Korean Institute of Intelligent Systems
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    • v.21 no.1
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    • pp.25-28
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    • 2011
  • In this paper, we study some properties of condition for fuzzy data, agrement index by ratio of area and the uniformly most powerful fuzzy test of hypothesis. Also, we suggest a confidence bound for uniformly most powerful fuzzy test. For illustration, we take the most powerful critical fuzzy region from exponential distribution by likelihood ratio and test the hypothesis of ${\chi}^2$-distribution by agreement index.

Etch rate uniformity control by current ratio of dual coil at 300 mm wafer etcher (300 mm 웨이퍼용 식각 장비에서 병렬 안테나의 전류비 조절에 의한 식각 균일도 측정)

  • Hong, Gwang-Gi;Choe, Ji-Seong;Yang, Won-Gyun;Ju, Jeong-Hun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2011.05a
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    • pp.155-155
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    • 2011
  • Dual coil을 사용하는 상용 AMAT DPS II 300 mm Centura 장비의 antenna의 전류비를 조절하여 $SiO_2$의 식각 균일도를 평가하였다. Inner turn과 outer turn의 흐르는 전류비를 분배 capacitor로 조절하여 16.9 %의 이온 전류 밀도 분포를 확인하였고, 투입 전력에 따라 200 W에서 12 %, 800 W에서 9 %로 점차 감소하는 경향을 확인하였다. 이때 300 mm wafer의 반지름 방향으로의 식각 균일도는 3 %로 측정되었고, FRC (flow ratio control)는 0.5에서 가장 균일한 결과를 얻었다.

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Study of Uniform Beam Formation at ISOL Target Using TRANSPORT

  • Hong, Seong-Gwang;Kim, Jae-Hong;Kim, Jong-Won
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.08a
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    • pp.174.2-174.2
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    • 2013
  • 사이클로트론에서 가속된 70 MeV 양성자 빔은 stripper에서 인출된 후 ISOL 표적에 조사하게 된다. 이 때 희귀동위원소를 생산하기 위한 ISOL 표적의 온도는 평균 $2,000^{\circ}C$ 5%로 유지하여야 한다. 사용하고자 하는 원판형태의 우라늄 표적은 직경이 45 mm 이므로 50 mm 이상의 균일한 양성자 빔이 필요하다. 본 연구에서는 stripper에서부터 ISOL 표적 까지 빔전송에 필요한 최적 조건을 연구하였다. 총 길이는 15 m 이며 두 개의 dipole을 사용하여 빔을 90도 전환시키며 3개의 4중극전자석을 사용하였다. ISOL 표적에 균일한 빔을 조사하기 위해 wobbling 방법을 활용하여 직경 50 mm 의 균일빔을 발생하고자 한다. 빔 전송 프로그램 TRANSPORT을 이용하여 stripper에서 wobbler 전까지의 빔 광학을 계산한 결과를 보고자 하고 TRANSPORT의 결과를 TURTLE 프로그램에 적용시켜 ISOL 표적에서의 균일도를 5% 미만으로 유지하는 최적조건을 발표한다.

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Corrosion Resistance for AZ31 Mg Alloy using Cr-free Conversion Coating (Cr-free 화성처리를 이용한 AZ31 마그네슘 합금의 내식성 향상 연구)

  • Heo, Gyu-Yong;Park, Yeong-Hui;Jeong, Jae-In;Yang, Ji-Hun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2009.10a
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    • pp.105-106
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    • 2009
  • AZ31 (3% Al, 1% Zn) Mg 판재의 내식성 향상을 위해 Ti/Zr/Polymer 복합계의 Cr-free 화성처리 방법을 이용하였다. 염수분무시험을 통해 최고 72시간 ($5{\sim}10%$ 발청) 내식성이 나타남을 확인하였다. 화성피막의 내식성은 그 피막이 가진 성분, 균일도, 치밀도, 형상 및 두께에 의해 좌우되는 만큼 TEM, SEM을 통해 화성피막 구조가 내식성과 어떠한 관련이 있는지 조사하였다. 또한, 화성처리 전 단계 공정인 탈지와 산세 및 중화 공정의 변수 조절을 통해 전처리 공정이 최종 화성피막의 물성에 어떠한 영향을 미치는지 조사하였다. 탈지조건을 $35{\sim}40^{\circ}C$, 5분에서 $50{\sim}80^{\circ}C$, $10{\sim}20$분으로 변경 시 좀 더 균일한 외관을 얻을 수 있었고, 적절한 중화제 선택을 통해 화성피막을 균일하게 형성시킬 수 있었다. 투과전자현미경 결과로 미루어 화성피막의 두께보다 균일도와 치밀도가 내식성에 결정적인 영향을 미치는 것을 확인할 수 있었다.

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Uniformity estimation mathod and application of thin film in Coating lenses (Coating 렌즈에서 박막의 균일성 평가 방법 및 적용)

  • Kim, Yong Geun;Park, Sang-An
    • Journal of Korean Ophthalmic Optics Society
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    • v.7 no.2
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    • pp.175-180
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    • 2002
  • Use spctrophotometer to estimate thin film uniformity of lens, Compare, and analyze thin film uniformity availability selecting two peaks of Reflectance(R%) measuring on spectrum. Wavelength dependence's Reflectance in position of center, middle and edge of lens etc... obtain thin film's thickness (t) from Wavelength region (${\lambda}_1,{\lambda}_2$) of two peaks of Reflectance. $$t=\frac{1}{2(n^2-\sin^2{\theta})^{1/2}}{\times}\frac{{\lambda}_1{\lambda}_2}{{\lambda}_2-{\lambda}_1}$$ If Reflectance pattern is uniformity value in position of center middle of lens, edge etc... thin film has uniformity. Applied thin film uniformity estimation method to 1st layer $MgF_2$(n=1.38) coating lens. It was about thin film's thickness difference 360nm. Can analyze coating lens' thin film uniformity easily from Reflectance relationship measurement about Wavelength dependence.

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Development of low-k dielectric PECVD system for next generation and characterization of its films (차세대용 저유전막 PECVD 장비 개발과 박막 특성 평가)

  • Kim, Dae-Hee;Kim, Dae-Hyun;Park, So-Yeon;Lee, Do-Hyoung;Seo, Hwa-Il;Kim, Yeong-Cheol
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2009.06a
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    • pp.148-148
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    • 2009
  • 반도체 소자의 크기가 45 nm 이하로 감소함에 따라 최소 선폭에 따른 다층 배선 연결 구조가 요구되고 있다. 그러나 고집적화 구조는 기생 저항과 정전 용량에 의한 신호지연증가 및 혼선 전력 소모의 문제가 발생한다. 이런 문제를 해결하기 위한 방법 중의 하나는 저저항 배선연결물질과 층간 절연막으로 저유전 상수를 갖는 물질을 사용하는 것이다. 본 연구는 DEMS $(H-Si(CH_3)(OC_2H_5)_2)$ 전구체를 이용하여 저유전막을 증착할 때 사용되는 PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) 장비를 국내 기술로 개발하고 개발된 장비로 저유전박막을 평가한 것에 관한 것이다. 본 연구에서 평가 및 박막 종확 시 사용한 장비는 MAHA hp 1 type ((주)아토)로서 양산용 PECVD 장비이다. 변수는 C-He의 유랑, 300 mm Si 웨이퍼와 shower head 사이의 거리, 증착 압력, 구동 전력이고, 증착된 저유전막의 두께, 두께의 균일성, 굴절률, 굴절률의 균일성를 평가하였다. 구동 전력이 500W 일 때, C-He의 유량과 진공의 크기를 감소시키면 박막의 두께가 감소하고 박막의 균일성은 증가하였다. C-He의 유량을 증가시키고 shower head 와 Si 웨이퍼 사이의 거리 및 구동 압력을 감소시키면 굴절률과 굴절률의 균일성이 모두 저하되었다. 구동 전력이 700W 일 때, 박막 두께의 경우, 구동 전력이 500W 일 때의 결과와 유사하지만, 박막의 균일성, 굴절률, 굴절률의 균일성은 모든 조건에서 저하되었다.

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Improvement of uniformity in chemical vapor deposition of silicon carbide using CFD (탄화규소 화학기상증착 공정에서 CFD를 이용한 균일도 향상 연구)

  • Seo, Jin-Won;Kim, Jun-Woo;Hahn, Yoon-Soo;Choi, Kyoon;Lee, Jong-Heun
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.24 no.6
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    • pp.242-245
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    • 2014
  • In order to increase the thickness uniformity in chemical vapor depositon of silicon carbide, we have carried out CFD studies for a CVD apparatus having a horizontally-rotated 3-stage susceptor. We deposited silicon carbide films of 3C-SiC phase showing quite uniform thickness between stages but not uniform one in the stage. The cause of this nonuniformity is thought to be originated from the high rotational speed. And the uniformity between stages can be further increased with the $120^{\circ}$ split type nozzles from CFD results. Through the formation of silicon carbide film on graphite substrates we can make oxidation-resistant and dust-free graphite components with high hardness for the semiconductor applications.

Design of Space-Time Trellis Code with Uniform Error Property (균일 오율의 시공간 격자상 부호 설계)

  • Jung Young-Seok;Lee Jae-Hong
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea TC
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    • v.43 no.8 s.350
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    • pp.59-68
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    • 2006
  • The study on the uniform error property of codes has been restricted to additive white Gaussian noise (AWGN) channel, which is generally referred to as geometrical uniformity. In this paper, we extend the uniform error property to space-time codes in multiple-input multiple-output (MIMO) channel by directly treating the probability density functions fully describing the transmission channel and the receiver. Moreover, we provide the code construction procedure for the geometrically uniform space-time trellis codes in fast MIMO channels, which consider the distance spectrum. Due to the uniform error property, the complexity of code search is extensively reduced. Such reduction makes it possible to obtain the optimal space-time trellis codes with high order states. Simulation results show that new codes offer a better performance in fast MIMO channels than other known codes.