• Title/Summary/Keyword: 구리-은

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Raman Spectrum of Silver Sol Aggregated by a Cu Rod (구리막대로 응결시킨 은 졸의 라만 스펙트럼)

  • Suh Jung-Sang
    • Journal of the Korean Chemical Society
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    • v.36 no.1
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    • pp.24-27
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    • 1992
  • Silver sols are aggregated by a Cu or Zn rod. This is maybe due to the reduction of $Ag^+$ ion on the surfaces of silver sols to Ag metal by oxidation-reduction reaction with Cu or Zn metal. Raman spectra of silver sols aggregated by a Cu rod have been studied. The evidence of borate and nitrate ions adsorbed on silver colloid surfaces is found. It is also found that these ions adsorbed on silver colloid surfaces are easily replaced by adsorbated added.

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고 진공 (UHV) 조건을 이용하여 구리 나노 분말에 도포한 1-octanethiol 기상 자기조립박막(SAMs)의 두께 조절에 관한 연구

  • Gwon, Jin-Hyeong;Kim, Dong-Gwon;No, Ji-Yeong;Park, Sin-Yeong;Lee, Tae-Hun;Yang, Jun-Mo;Lee, Seon-Yeong
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2010.05a
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    • pp.23.1-23.1
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    • 2010
  • Alkanethiol (CH3(CH2)nSH) 자기 조립 박막은 금, 은, 팔라듐 그리고 구리와 같은 금속 물질과 결합하여 산화 방지 보호막, 생화학적 멤브레인 그리고 케미컬 센서로 널리 이용되었다. 전도성을 가진 많은 금속 분말 중에서, 구리는 뛰어난 열, 전기 전도성과 풍부한 양으로 다른 귀금속에 비교하여 경제성까지 갖춘 물질이다. 그러나 이러한 구리 나노 분말은 대기에 노출된 구리 분말이 쉽게 산화된다는 결정적인 단점 때문에 그동안 널리 이용되지 못하였다. 이러한 구리의 단점을 극복하고 뛰어난 전도성의 특징을 이용하고자, Langmuir-Blodgett (LB), layer by layer (LbL), electrophoretic deposition (EPD), self-assembled monolayer (SAM)과 같은 구리 나노 분말 위에 유기 박막을 형성하고자 하는 많은 방법이 시도되어왔다. 이러한 방법들 대부분은 습식 방법으로 진행되었으며, 약 2-nm 두께의 SAM 구조를 형성할 수 있음이 많은 연구를 통하여 확인되었다. 그러나 습식 기반의 SAM 구조는 단지 수일 동안만 유효하며, 이는 코팅을 수행하면서 점차 떨어지는 source solvent의 순도와 적합하지 않은 코팅 조건, 그리고 이러한 원인으로 형성된 부실한 막질 구조 때문으로 추측된다. 게다가 이러한 습식 기반 공정은 코팅 막의 두께 조절과 코팅 시 solvent의 순도를 일정하게 유지하는 것이 매우 복잡하고 어려운 작업으로 알려져 왔다. 본 실험에서는 고 진공 챔버 (< $4.0{\times}10-6$ torr) 시스템을 이용하여 습식 기반 공정의 문제점을 극복하고 구리 나노 분말의 산화를 막기 위한 실험을 진행하였다. 1-octanethiol (CH3(CH2)7SH)은 중간 길이의 hydrocarbon (n=7) 구조를 가진 특징 때문에 코팅 물질로 사용되었다. 게다가, alkanethiol 족 특유의 물질인 황(sulfur)은 구리와 결합하여 산화방지 보호막의 역할을 수행할 수 있다. 저 진공 조건에서는 10-nm의 multilayer가 일괄적으로 코팅됨을 확인할 수 있었다. 본 실험에서는 약 10-nm 두께의 자기 조립 박막(self assembled monolayers: SAMs)이 고 진공 조건에서 구리 나노 분말 표면 위에 코팅 조건의 변경을 통해서 5-nm에서 10-nm 두께의 1-octanethiol SAMs 구조를 얻어낼 수 있었다. 이는 고 진공 조건에서 1-octanethiol SAMs의 코팅 두께를 조절함으로 다양한 크기의 분말에 코팅 물질로 쓰일 수 있음을 알 수 있다.

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Leaching of copper and silver from ground mobile phone printed circuit boards using nitric acid (핸드폰 기판(基板)으로부터 구리와 은의 질산(窒酸) 침출(浸出) 연구(硏究))

  • Le, Long Hoang;Yoo, Kyong-Keun;Jeong, Jin-Ki;Lee, Jae-Chun
    • Resources Recycling
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    • v.17 no.3
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    • pp.48-55
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    • 2008
  • Leaching of copper and silver from mobile phone PCBs(printed circuit boards) with nitric acid was performed to investigate the effects of nitric acid concentrations, leaching temperatures, agitation speeds, and pulp densities on the leaching behaviors of Cu and Ag. The leaching rate considerably increased with increasing acid concentration and temperature. The leaching ratios of Cu and Ag were found to be 96.4% and 96.5%, respectively, under the optimum condition; at $80^{\circ}C$ with 2mol/L $HNO_3$ and 120g/L in pulp density within 39minutes. The kinetic parameters were determined based on the shrinking core model with reaction control corresponding to small particles. The activation energies for the leaching of copper and silver were found to be 45.5kJ/mol and 60.5kJ/mol at $35{\sim}80^{\circ}C$ with 2mol/L $HNO_3$, respectively.

Silver Alloying Process for Mokumegane-like Effect for Jewelry Design (장신구 디자인을 위한 모꾸메가네 효과 은 합금 공정)

  • Song Oh-Sung
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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    • v.7 no.3
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    • pp.506-511
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    • 2006
  • Silver is one of the most appropriate Jewelry materials for Jewelry casting and bench working. The technique known as 'Mokumegane' is good for making silver jewelry with natural patterns, such as wood grain patterns, but the process is not easy for silversmithing because it requires complicated and heavy labour. Instead of using conventional Mokumegane technique, we propose a new modified silver-copper casting process that enables a similar surface effect with good metal bonding strength between silver and copper. Simply pouring the molten silver into pre-aligned copper granules or 0.5 mm to 1.5 mm-thick copper sheets leads to well embedded copper silver ingots. The rolled silver plates from those ingots show excellent bonding interface even after the silver plate rolled ten times. We successfully fabricated prototype rings with copper embedded silver plates. Our result implies that our newly proposed process nay be a simpler way to fabricate silver jewelry with a pseudo-Mokumegane effect.

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Preparation of Pure Silver Powders by using Mechanochemical Process (기계화학공정(機械化學工程)에 의한 은(銀)염화물로부터 고순도 은(銀)분말 제조(製造))

  • Lee, Jaer-Yeong;Tung Le, M.;Ahn, Jong-Gwan;Kim, Jong-Oh;Chung, Hun S.;Kim, Byoung-Gyu
    • Resources Recycling
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    • v.15 no.5 s.73
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    • pp.33-37
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    • 2006
  • An equal-molar mixture of silver chloride (AgCl) and copper (Cu) was ground in atmosphere conditions using a planetary ball mill to investigate mechanochemical (MC) reaction for preparation of silver powders. The reaction causes the mixture of AgCl and Cu to change the composition of the mixture, such as silver (Ag) and cuprous chloride (CuCl). Through the leaching with ammonium hydroxide solution (1 mol), CuCl can be separated from MC product, so that pure Ag powders can be obtained as the final product. Moreover, polyvinylpyrrolidone (PVP) was used as the additive not only to improve dispersion of Ag pow- der during MC process, but also to control surface oxidation of Ag powders, prepared as the final product.

Electrochemical Metallization Processes for Copper and Silver Metal Interconnection (구리 및 은 금속 배선을 위한 전기화학적 공정)

  • Kwon, Oh Joong;Cho, Sung Ki;Kim, Jae Jeong
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • v.47 no.2
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    • pp.141-149
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    • 2009
  • The Cu thin film material and process, which have been already used for metallization of CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor), has been highlighted as the Cu metallization is introduced to the metallization process for giga - level memory devices. The recent progresses in the development of key elements in electrochemical processes like surface pretreatment or electrolyte composition are summarized in the paper, because the semiconductor metallization by electrochemical processes such as electrodeposition and electroless deposition controls the thickness of Cu film in a few nm scales. The technologies in electrodeposition and electroless deposition are described in the viewpoint of process compatibility between copper electrodeposition and damascene process, because a Cu metal line is fabricated from the Cu thin film. Silver metallization, which may be expected to be the next generation metallization material due to its lowest resistivity, is also introduced with its electrochemical fabrication methods.

중금속이 양서류의 발생에 미치는 특성 효과

  • 정해문;김윤경
    • Proceedings of the Korean Society of Applied Pharmacology
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    • 1994.04a
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    • pp.326-326
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    • 1994
  • 중금속이 양서류의 발생에 미치는 영향을 알아보기 위해 Xenopus embryo 2 할구기부터 카드뮴, 수은, 납. 구리, 아연 등을 여러 농도로 지속적으로 처리한 후 치사율과 이상 발생율을 조사하였다 그 결과 수은, 카드뮴. 구리, 납. 아연의 순으로 독성이 강함을 알 수 있다. 중금속 중 카드뮴 처리시 나타나는 현상으로는 창자, 눈, 체축. 지느러미, 십장 등의 이상과 수포 등을 들 수 있다. FETAX (frog Embryo Teratogenesis Assay : Xenopus)의 분석 결과 LC$_{100}$ 은 1.5 ppm, EC$_{100}$은 1PPm 이었고 기형 유발지수(TI)가 2. 8 인 점으로 보아 카드뮴을 Xenopus embryo에 있어서 기형유발원으로 분류할 수 있다.

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Effect of Microstructure on Thermal Conductivity of Cu and Ag Thin Films (구리와 은 금속박막의 열전도도에 미치는 미세구조의 영향)

  • Ryu, Sang;Jeong, U-Nam;Kim, Yeong-Man
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2008.11a
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    • pp.19-20
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    • 2008
  • 본 연구에서는 박막의 미세구조, 특히 결정립의 크기에 따라 박막 열전도도를 측정하여 실제 박막 응용제품의 제조 공정에 피드백 하여 부품의 안정성을 제고하고자 한다. 우리는 온도 분포법을 사용하여, 구리와 은 박막의 열전도도를 박막의 미세구조를 변화시키면서 측정하였다. 박막제조공정 중 기판온도를 변화시켜서 박막의 미세구조를 변화시켰다. 두께의 영향을 최소화하기 위해서 증착 시간을 조절하여 500nm정도로 두께를 일정하게 하였다. 4-point probe를 이용하여 코팅된 박막의 비저항을 측정하였다. 이로부터 박막의 Lorenz number를 계산하였다.

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Kinetics of NO Reduction with Copper Containing Bamboo Activated Carbon (구리 촉매 담지 대나무 활성탄의 NO 가스 반응 특성)

  • Bak, Young-Cheol;Choi, Joo-Hong
    • Journal of Korean Society of Environmental Engineers
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    • v.38 no.3
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    • pp.144-149
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    • 2016
  • The metal-impregnated activated carbon was produced from bamboo activated carbon by soaking method of metal nitrate solution. The carbonization and activation of raw material was conducted at $900^{\circ}C$. The specific surface area and pore size distribution of the prepared activated carbons were measured. Also, NO and activated carbon reaction were conducted in a thermogravimetric analyzer in order to use as de-NOx agents of used activated carbon. Carbon-NO reactions were carried out with respect to reaction temperature ($20^{\circ}C{\sim}850^{\circ}C$) and NO gas partial pressure (0.1 kPa~1.8 kPa). As results, the specific volume and surface area of bamboo activated carbon impregnated with copper were decreased with increasing Cu amounts of activated carbon. In NO reaction, the reaction rate of Cu impregnated bamboo activated carbon[BA(Cu)] was promoted to compare with that of bamboo activated carbon[BA]. But the reaction rate of Ag impregnated bamboo activated carbon[BA(Ag)] was retarded. Measured reaction orders of NO concentration and activation energy were 0.63[BA], 0.92[BA(Cu)], and 80.5 kJ/mol[BA], 48.5 kJ/mol[BA(Cu)], 66.4 kJ/mol[BA(Ag)], respectively.

세륨산화물로 전처리된 다공성 니켈 지지체 위에 스퍼터 증착된 팔라듐-구리 합금 분리막 특성

  • An, Hyo-Seon;Gang, Seung-Min;Kim, Dong-Won;Lee, Sin-Geun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.196-196
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    • 2011
  • 팔라듐-구리 합금 분리막은 세륨산화물로 전처리된 다공성 니켈 지지체 위에 마그네트론 스퍼터 공정과 구리리플로우 공정에 의해 제조되었다. 스퍼터 공정은 얇고 치밀한 팔라듐 합금 분리막 증착을 위해 아주 효과적이다. 본 연구에서는 고온 스퍼터 공정에 의해 증착된 팔라듐 상부에 유동성과 열적확산이 우수한 구리를 코팅한 후, 반도체 분야에서 기가 패턴 매립시 사용하는 구리리플로우 공정을 도입하였다. 구리리플로우 공정은 치밀하고 미세기공이 존재하지 않는 표면을 구현하고 무한대의 수소 투과도를 가능하게 한다. 이로써 마그네트론 스퍼터에 의해 $200^{\circ}C$에서 팔라듐과 구리를 순차적으로 코팅한 후, $700^{\circ}C$에서 2시간 구리리플로우 공정을 실시하여 $7.5{\mu}m$ 두께의 팔라듐-구리 합금 분리막이 제조되었다. 세륨산화물(CeO2)은 고온에서 장시간 운전하는 동안 다공성 니켈 지지체의 금속성분이 팔라듐 합금층으로 확산하는 금속의 확산 문제를 개선하고자 지지체와 코팅층 사이에 확산방지막으로 도입되었으며, 균일한 스퍼터 증착을 위해 평탄한 표면의 지지체를 구현하였다. 투과도 테스트는 100-400kPa 의 압력차, 673-773K 의 온도 조건에서 순수한 수소가스로 실시하였다. 표면 미세기공이 없는 치밀한 팔라듐-구리 합금 분리막은 혼합가스에서 질소의 투과 없이 수소만을 투과하는 무한대의 우수한 분리도를 나타내었으며, 상용온도 $500^{\circ}C$에서 12.6ml/$cm^2{\cdot}min{\cdot}atm$의 수소 투과 능력을 보였다. 본 연구에 의해 제조된 팔라듐-구리 합금 분리막은 표면 미세기공이 없는 치밀한 분리막 제조를 가능하게 하였으며 열팽창계수가 팔라듐과 매우 비슷한 세륨산화물($CeO_2$)로 인해 지지체층과 코팅층과의 접합력이 향상되고 수소취성에 강하고 높은 열적 안정성을 갖는다.

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