• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
• /
• 2000.02a
• /
• pp.202-203
• /
• 2000

광학 렌즈계의 성능 평가를 위한 OTF(Optical Transfer Function) 측정 방법은 Hopkins$^{(1)}$ 에 의해 기본 이론이 확립된 이래 세계 각국에서 활발하게 연구되어 왔으며, 가장 합리적이고 신뢰도가 높은 평가방법으로 인정되고 있다. OTF 측정 방법은 간섭계를 이용하는 측정 방법$^{(2)}$ 과 광학계에 의해 맺혀진 상을 주사 해석하는 방법$^{(3)}$ 으로 대별될 수 있으며, 세계적으로 20여가지 이상의 측정 장치가 개발되었다. 현재 세계 각국은 다양한 형태의 OTF 측정 장치를 보유하고 있으며, OTF의 정확도를 비교 검토하는 연구가 활발해져서 측정 표준을 확립하였고,$^{(4)}$ 국제적인 측정 비교 오차를 0.02 이하로 줄일 수 있게 되었다.$^{(5)}$ 특히 선진국에서는 측정 장치들 간의 상호 비교를 위해 표준 렌즈를 설계, 제작하였고, 이러한 표준 렌즈를 적절한 측정 조건하에서 측정 오차의 원인과 측정 정확도를 평가하는데 사용하였다. (중략)

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
• /
• 2003.07a
• /
• pp.146-147
• /
• 2003

산업계에서의 다양한 제품 개발로 인해 새로운 형상 측정기술이 요구된다. 칩패키지와 실리콘 웨이퍼로 대표되는 광산란 표면 특성을 가진 제품들의 형상 측정은 거친 표면을 가진 반면 수마이크로의 형상 측정 정밀도를 요구하기 때문에 기존의 측정법으로는 기대하는 성과를 이루지 못해왔다. 현재까지 기존의 정통적인 측정법을 통해 측정 시도되어 온 방법들은 다음과 같이 두 방법으로 요약된다. 첫째, Kwon과 Han등은 경면(specular surface)을 측정하던 정통적인 간섭계에 10.6$\mu$m파장의 $CO_2$레이저를 광원으로 사용함으로써 가시광선 영역에서의 광산란 표면을 적외부 영역에서 경면화 하여 측정하였다. (중략)

• 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
• /
• 2010.11a
• /
• pp.57.1-57.1
• /
• 2010

ITO(Indium Tin Oxide)는 전도도와 투과도 특성이 뛰어나 디스플레이, 태양전지, LED 등 여러 산업에서 전극 물질로 널리 사용 되어져 왔다. 최근 ITO의 사용이 급격히 증가하면서 이에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. ITO는 막의 특성을 좋게 하기 위하여 증착 시 Ar gas와 함께 $O_2$가스를 첨가하기도 한다. 본 연구에서는 산소 분압에 따른 ITO 박막의 전기적, 광학적 특성에 대하여 연구하였다. Corning사의 eagle 2000 glass 기판위에 스퍼터링을 이용하여 ITO layer를 증측하였고, 증착시, $O_2$ partial pressure를 0 - 0.5%까지 0.1% 간격으로 가변하였다. 증착된 샘플은 Sinton사의 UV-vis 장비를 이용하여 광학적 특성을 측정하였고, Hall measurement 장비를 이용하여 전기적 특성을 측정하였다. ITO 박막은 $O_2$의 partial pressure가 증가할수록 향상된 전기적, 광학적 특성을 나타내었다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
• /
• 2000.08a
• /
• pp.60-61
• /
• 2000

표면 형상을 측정하는 방법은 샘플표면의 평평도, 곡률, 거칠기, 깊이 측정등의 수많은 상업적 응용을 위해 광범위하게 개발되어왔다. 이중에서도 특히 간섭현상을 이용한 광 표면 프로파일러는 표면의 3차원 구조를 측정하는데 있어서 subangstrom의 매우 높은 깊이 분해능을 가지므로 샘플 표면의 정밀 진단에 많이 사용되어 왔다. [1,2] 광 간섭 현미경은 기본적으로 광위상 변화를 검출하여 그것을 표면구조변화로 바꾸어주는 역할을 한다. 그러나 광위상 변화는 샘플 표면의 구조뿐만 아니라 물질 변화와 박막두께 변화에도 민감하므로 순수한 표면구조측정은 샘플이 단일물질인 경우에만 달성된다는 문제점이 있다. 따라서 이러한 광위상 측정과 관련된 ambiguity를 해결하기 위해서는 일반적인 광 간섭 현미경에서 얻어지는 위상데이터와 더불어 물질변화를 분석할 수 있는 다른 추가적인 데이터가 필요하다. 이러한 필요성 때문에 우리는 광위상 뿐만 아니라 반사율 분포도 동시에 측정할 수 있는 새로운 방식의 다출력단 호모다인 간섭계(Homodyne I/Q Interferometer; HIQI)를 구성하였으며[3], 그 실험장치도는 [Fig. 1]과 같다. HIQI는 in-phase and quadrature 검출방식에 기반을 두며, 이 검출방식은 PBS에서 반사되는 빛살과 투과되는 빛살 사이의 위상차가 $\pi$/4라는 실험결과로부터 달성된다. HIQI는 샘플 표면의 3차원 구조 뿐만 아니라 광학적 특성의 2차원 분포도 동시에 얻을 수 있다. (중략)

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
• /
• 2002.07a
• /
• pp.198-199
• /
• 2002

진공 증착장비에서 다층박막으로 구성된 광학필터를 증착할 경우, 증착되는 동안 설계된 최종 광학필터의 성능을 구현하기 위해서는 실시간으로 각각의 층들에 대한 굴절률(n)과 물리적 두께(d)를 제어하거나 또는 광학적 두께(nd)를 제어해야 한다. 광학적 두께를 제어하는 대표적인 예로 광모니터링 방법이 있는데, 증착되는 기판에 직접 빛을 입사시켜 기판에서 반사된 빛이나 투과된 빛의 세기를 측정하여 증착과정을 제어하는 방법이다. (중략)

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
• /
• 2002.07a
• /
• pp.76-77
• /
• 2002

본 논문은 안과진료에 사용되는 3차원 망막영상 측정장비에 관한 것으로, 광학설계 프로그램(CODE-V)을 이용하여 망막영상에 대한 최적 설계를 검토하였다. 영상을 평면화 및 3차원화하여 보다 실제에 근접하게 하는 연구는 지속적으로 진행되고 있으며, 이러한 결과가 실제 적용되어 유용하게 사용되고 있다. 현재 안과에서 안구의 망막을 측정하는 대표적인 영상장비로 SLO가 있으며, 2차원의 망막영상이 모니터를 통해 보여지고, 환자의 망막영상을 보다 정밀하게 진단하고 있다. (중략)

• Korean Journal of Optics and Photonics
• /
• v.32 no.4
• /
• pp.172-179
• /
• 2021

A near-normal-incidence ellipsometer (NNIE) is suggested as an optical critical dimension (OCD) measurement system that is highly sensitive to the bottom defect of a sample with high-aspect-ratio structured patterns. Incident light passes through a polarizer and a phase retarder in sequence, and the reflected light from the sample also passes through them, but in reverse order. The operating principle of this NNIE, where a single polarizer and a single phase retarder are shared by the incident and reflected light, is studied, and a method to determine the ellipsometric constants from the measured intensities at proper combinations of the azimuthal angles of polarizer and retarder is presented.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
• /
• 2001.02a
• /
• pp.142-143
• /
• 2001

Cell gap은 LCD(Liquid Crystal Display)의 중요한 파라미터들 중의 하나이다. cell gap이 LCD의 광학적인 성능에 영향을 주기 때문에 정확한 cell gap 측정방법은 제조공정을 향상시키는데 중요하다 특히 최근 고속 영상 디스플레이를 제공할 수 있는 장점 때문에 낮은 cell gap의 LCD가 요구되고 있는 시장 추세에 따라 낮은 cell gap을 측정할 수 있는 기술이 요구되고 있다. LCD의 cell gap 측정 방법들 가운데 가장 보편화되어 있는 것으로 회전편광자법(rotating polarizer method)[1, 2]과 위상보상법(phase compensation method)[3,4]을 들 수 있는데 낮은 셀갭을 정확히 측정하기가 어려우며 주기적인 해가 발생한다는 단점이 있다. (중략)

• Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
• /
• 2003.11a
• /
• pp.155-160
• /
• 2003

현재, 연구진이 개발하고 있는 배광 측정기기를 위한 조명 계산용 소프트웨어는 일반적인 조명치들에 대한 계산 결과는 물론, 조명기구의 광학적 특성을 파악하는데 필요한 데이타를 제공한다. 조명용 배광 측정기기를 통해 조명기구의 배광 분포를 측정하게 되면, 이를 바탕으로 기구의 광학적 특성을 계산해낼 수 있는데, 이는 현재 개발하고 있는 조명 계산용 소프트웨어로 실현이 가능하다. 이러한 일련의 조명기구의 배광 측정과 그 해석이 조명 계산용 소프트웨어 개발의 주된 목적이라 할 수 있다. 본 논문에서는 그 동안 개발된 소프트웨어의 내용을 정리한 것이다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
• /
• 2003.02a
• /
• pp.192-193
• /
• 2003

광학박막은 유리, 플라스틱, 실리콘, 금속 기판 등에서 표면의 반사율, 투과율, 흡수율과 편광상태 등의 광학적 특성을 변화시키기 위해 광학표면에 코팅을 하여 많이 사용하고 있으며, 파장영역으로는 수 nm의 연x선부터 자외선, 가시광선과 수십 $\mu$m의 적외선까지 적용할 수 있고, 광학기기에서는 대부분의 광학부품이 광학적 특성을 증진시키기 위하여 각각의 목적에 맞도록 코팅되어 있다. 광학코팅의 종류로는 단순한 무반사코팅으로부터 고반사코팅, 칼라필터, 간섭필터, 편광분리기코팅, 마이너스필터 등까지 매우 다양하다. (중략)