• Title/Summary/Keyword: 광학소자

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SNU 1.5MV Van de Graaff Accelerator (IV) -Fabrication and Aberration Analysis of Magnetic Quadrupole Lens- (SNU 1.5MV 반데그라프 가속기 (IV) -자기 4극 렌즈의 제작과 수차의 분석-)

  • Bak, H.I.;Choi, B.H.;Choi, H.D.
    • Nuclear Engineering and Technology
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    • v.18 no.1
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    • pp.1-8
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    • 1986
  • A magnetic quadrupole doublet was fabricated for use at the pre-target position of SNU 1.5MV Van de Graaff accelerator and then its optical characteristics were measured and analysed. The physical dimensions are: pole length 180mm, aperture radius 25mm, pole tip radius 28.75mm. Material for poles and return yokes is carbon steel KS-SM40C. Coils have 480 turns per one pole and air-cooling is adopted. Applying the d.c. current 2.99$\pm$0.03A to the lens, and using the Hall probe, magnetic field elements $B_{\theta}$ , $B_{\gamma}$, were measured at the selected Points along each coordinate direction r,$\theta$, z. From the area integration and orthogonal polynomial fitting for the measured data, the magnetic Field gradient G=566.3$\pm$2.1 gauss/cm at lens center, the effective length L=208.3$\pm$1.44mm along the lens axis have been obtained. The harmonic contents were determined up to 20-pole from the generalized least squares fitting. The results indicate that sextupole/quadrupole is below 1.4$\pm$0.9% and all the other multipoles are below 0.5% in the region within 18mm radius at the center of lens.

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A Study of Static Random Access Memory Single Event Effect (SRAM SEE) Test using 100 MeV Proton Accelerator (100 MeV 양성자가속기를 활용한 SRAM SEE(Static Random Access Memory Single Event Effect) 시험 연구)

  • Wooje Han;Eunhye Choi;Kyunghee Kim;Seong-Keun Jeong
    • Journal of Space Technology and Applications
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    • v.3 no.4
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    • pp.333-341
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    • 2023
  • This study aims to develop technology for testing and verifying the space radiation environment of miniature space components using the facilities of the domestic 100 MeV proton accelerator and the Space Component Test Facility at the Space Testing Center. As advancements in space development progress, high-performance satellites increasingly rely on densely integrated circuits, particularly in core components components like memory. The application of semiconductor components in essential devices such as solar panels, optical sensors, and opto-electronics is also on the rise. To apply these technologies in space, it is imperative to undergo space environment testing, with the most critical aspect being the evaluation and testing of space components in high-energy radiation environments. Therefore, the Space Testing Center at the Korea testing laboratory has developed a radiation testing device for memory components and conducted radiation impact assessment tests using it. The investigation was carried out using 100 MeV protons at a low flux level achievable at the Gyeongju Proton Accelerator. Through these tests, single event upsets observed in memory semiconductor components were confirmed.

질화물계 발광다이오드에서 InGaN/GaN 자우물구조 내 GaN 보호층에 대한 연구

  • Song, Gi-Ryong;Kim, Ji-Hun;Lee, Seong-Nam
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.425-426
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    • 2013
  • IIIN계 물질 기반의 광 반도체는 직접 천이형 넓은 밴드갭 구조를 갖고 있기 때문에 적외선부터 가시광선 및 자외선까지를 포함한 폭 넓은 발광파장 조절이 가능하여 조명 및 디스플레이 관련 차세대 광원으로 많은 관심을 받고 있다. 일반적인 청색 및 녹색 발광영역의 활성층으로는 InGaN/GaN 다중양자우물구조를 사용하고 있으나, 장파장의 녹색 발광을 얻기 위해서는 인듐의 함유량이 증가하여야 한다. 하지만, 인듐의 함유량이 증가함에 따라서 InGaN/GaN 다중양자우물 구조내에서 인듐의 편석현상의 발생이 용이하게 되어 계면 특성을 저하할 뿐 아니라, 비발광 센터를 증가하여 발광 효율을 급격히 감소시키는 원인이 되고 있다. 또한, InGaN과 GaN의 큰 성장온도의 차이에 따라 800도 부근의 저온 영역에서 성장된 InGaN층이 1,000도 이상의 고온 영역에서 GaN층이 성장시 InGaN층의 열화 현상이 급격히 발생되고 있다. 이를 억제하기 위해서 금속유기화학증착법의 성장 변수 최적화, 응력제어, 도핑 등의 편석 억제기술 및 보호층이 사용되고 있다. 본 연구에서는 인듐함유량이 증가된 녹색 InGaN/GaN 다중양자우물구조에서 InGaN 우물층 상하부에 도입된 GaN 보호층에 따라 발생되는 양자우물구조의 광학 및 결정학적 특성 분석을 통해 GaN 보호층의 역할을 분석하고자 한다. 본 연구에서는 금속유기화학증착장치를 이용하여 사파이어 기판위에 GaN 템플릿을 성장하고, n-형 GaN, InGaN/GaN 다중양자우물구조 및 p-형 층을 성장하였다. 앞선 언급하였듯이, InGaN/GaN 다중양자우물구조내에 GaN 보호층의 역할을 규명하기 위하여 샘플 A의 경우는 보호층이 전혀 없는 구조이고, 샘플 B의 경우는 InGaN 우물층의 상단부에만, 샘플 C의 경우에는 우물층 상부 및 하단부 모두에 약 2.0 nm 두께의 GaN 보호층을 형성하였다. 이 보호층의 유무에 따른 다중양자우물구조의 계면 특성을 확인하기 위한 X-선 회절을 이용하였고, 광학적 특성을 확인하고 상온 포토루미네선스법을 이용하여 녹색 발광 파장의 변화 및 발광세기를 관찰하였다. 우선적으로, 상온 포토루미네선스법을 이용하여 각 샘플의 발광특성을 확인한 바 상하부 모두에 GaN 보호층이 존재하는 샘플 C의 경우 약 510 nm 부근에서 발광이 관찰되었지만, 상단부에 GaN 보호층이 존재하는 샘플 B는 약 495 nm영역에 발광이 확인되었다. 특히, 전혀 보호층이 존재하지 않는 샘플 A의 경우 약 440 nm에서 발광하는 현상을 관찰하였다. 이는 우물층 상단부 및 하단부에 존재하는 GaN 보호층이 In의 확산을 억제하는 것으로 판단된다. 또한, 발광파장 및 세기를 확인한 바, 보호층의 존재하지 않을수록 단파장화가 발생함에도 불구하고 발광세기는 급격히 약해지는 것으로 보아 계면특성이 저하되어 비발광센터가 증가되는 것으로 판단된다. 이를 구조적으로 확인하기 위하여 X-선 회절법을 통한 ${\omega}$/$2{\Theta}$ 스캔의 결과는 In의 0차 피크가 GaN 보호층이 없을 경우 GaN의 피크 방향으로 이동하는 것으로 보아 GaN 보호층은 우물층 성장 후 GaN 장벽층을 성장하기 위해 온도를 증가시키는 과정에서 In의 확산되는 것으로 판단된다. 또한, 하부 GaN 보호층의 경우 GaN 장벽층 성장 후 온도를 감소시키는 과정에서 성장되므로, 우물층으로부터 In의 탈착현상이 아닌 장벽층과의 상호 확산으로 판단된다. 또한, 계면특성을 확인하기 위해 InGaN의 X-선 위성 피크를 확인한 바 샘플 A의 경우 매우 넓고 약한 피크가 관찰된 반면, 보호층이 존재하는 샘플 B와 C의 경우 강하고 얇은 피크가 확인되었다. 이는 GaN 보호층의 도입으로 인해 계면특성이 향상되는 것으로 판단된다. 따라서, 우리는 InGaN/GaN 다중양자우물구조에서 GaN 보호층은 상부의 열화 억제 뿐아니라, 하부의 장벽층 및 우물층 사이의 상호확산을 억제하는 GaN 보호층의 도입을 통하여 우수한 계면 특성 및 비발광센터의 억제를 얻을 수 있을 것으로 생각되며, 이는 향후 GaN계 발광다이오드의 전계 발광특성을 증가하여 우수한 발광소자를 개발할 수 있을 것으로 기대된다.

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Optical Properties of SiNx Thin Films Grown by PECVD at 200℃ (200℃의 저온에서 PECVD 기법으로 성장한 SiNx 박막의 열처리에 따른 광학적 특성 변화 규명)

  • Lee, Kyung-Su;Kim, Eun-Kyeom;Son, Dae-Ho;Kim, Jeong-Ho;Yim, Tae-Kyung;An, Seung-Man;Park, Kyoung-Wan
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.20 no.1
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    • pp.42-49
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    • 2011
  • We deposited $SiN_x$ thin films by using PECVD technique at $200^{\circ}C$ with various flow ratios of the $SiH_4/N_2$ gases. The photoluminescence measurements revealed that the maximum emission wavelength shifted to long wavelength as the ratio increased, however, positions of the several peak wavelengths, such as 1.9, 2.2, 2.4, and 3.1 eV, were independent on the ratio. Changes of the photoluminescence spectra were measured in the $N_{2}-$, $H_{2}-$, and $O_2$-annealed films. The luminescence intensities increased after the annealing process. In particular, the maximum emission wavelength shifted to short wavelength after $H_{2}-$ or $O_2$-annealing. But there were still several peaks on the spectra of all annealed films, several peak positions remained to be unchanged after the annealing. As for the light emission mechanism, we have considered the defect states of the Si- and N- dangling bonds in the $SiN_x$ energy gap, so that the energy transitions from/to the conduction/valence bands and the defect states in the gap were attributed to the light emission in the $SiN_x$ films. The experimental results point to the possibility of a Si-based light emission materials for flexible Si-based electro-optic devices.

Evaluation of Dosimetric Characteristics of Reproducibility, Linearity and Dose Dependence of Optically Stimulated Luminescence Dosimeters in Co-60 Gamma-rays (Co-60 감마선을 이용한 광자극발광선량계의 재현성, 선형성, 선량의존성에 대한 특성평가)

  • Han, Su Chul;Choi, Sang Hyoun;Park, Seungwoo;Kim, Chul Hang;Jung, Haijo;Kim, Mi-Sook;Yoo, Hyung Jun;Kim, Chan Hyeong;Ji, Young Hoon;Yi, Chul Young;Kim, Kum Bae
    • Progress in Medical Physics
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    • v.25 no.1
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    • pp.31-36
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    • 2014
  • We aimed to evaluate the dosimetric characteristics of reproducibility, linearity and dose dependence of optical stimulated luminance dosimeter (OSLD) in the Co-60 Gamma-rays and to analyze with a precedent study in field of the diagnostic radiography and radiotherapy. The reproducibility was 0.76% of the coefficient of variation, the homogeneity was within 1.5% of the coefficient of variation and OSLD had supra-linear response more than 3 Gy. So the correlation between dose and count was fitted by quadratic function. The count depletion by repeated reading was 0.04% per reading regardless of the irradiated dose. And the half time of decay curve according to the irradiated dose was 0.68 min. with 1 Gy, 1.04 min. with 5 Gy, and 1.10 min. with 10 Gy, respectively. In case of annealing for 30 min, the removal rate was 88% with 1 Gy, 90% with 5 Gy, and 92% with 10 Gy, respectively and 99% in case of annealing time for 4 hour. It is feasible to use OSLDs for dose evaluation in Co-60 Gamma-rays when considering the uncertainty on the procedure according to the irradiated dose.

Characteristics of Sn-doped β-Ga2O3 single crystals grown by EFG method (EFG 법으로 성장한 β-Ga2O3 단결정의 Sn 도핑 특성 연구)

  • Tae-Wan Je;Su-Bin Park;Hui-Yeon Jang;Su-Min Choi;Mi-Seon Park;Yeon-Suk Jang;Won-Jae Lee;Yun-Gon Moon;Jin-Ki Kang;Yun-Ji Shin;Si-Yong Bae
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.33 no.2
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    • pp.83-90
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    • 2023
  • The β-Ga2O3 has the most thermodynamically stable phase, a wide band gap of 4.8~4.9 eV and a high dielectric breakdown voltage of 8MV/cm. Due to such excellent electrical characteristics, this material as a power device material has been attracted much attention. Furthermore, the β-Ga2O3 has easy liquid phase growth method unlike materials such as SiC and GaN. However, since the grown pure β-Ga2O3 single crystal requires the intentionally controlled doping due to a low conductivity to be applied to a power device, the research on doping in β-Ga2O3 single crystal is definitely important. In this study, various source powders of un-doped, Sn 0.05 mol%, Sn 0.1 mol%, Sn 1.5 mol%, Sn 2 mol%, Sn 3 mol%-doped Ga2O3 were prepared by adding different mole ratios of SnO2 powder to Ga2O3 powder, and β-Ga2O3 single crystals were grown by using an edge-defined Film-fed Growth (EFG) method. The crystal direction, crystal quality, optical, and electrical properties of the grown β-Ga2O3 single crystal were analyzed according to the Sn dopant content, and the property variation of β-Ga2O3 single crystal according to the Sn doping were extensively investigated.