• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.02a
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• pp.64-64
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• 2010

ZnO 나노와이어를 수열합성법에 의하여 합성 하였다. 나노와이어 합성을 위한 Seed layer는 Al 이 2% 도핑된 ZnO타겟을 이용하여 스퍼터링 공정을 통해 증착시켰다. 이 Seed layer박막을 대기압 플라즈마 공정을 통하여 친수처리와 소수처리를 한 후 접촉각을 측정 하여 표면에너지를 관찰하였다. 또한 각각의 표면에너지에 의한 ZnO 나노와이어 합성결과 ZnO 나노와이어의 밀도, 직경, 길이가 표면에너지와 밀접한 관련이 있다는 것을 확인 하였다. 결과적으로 수열합성법에 의해 성장된 나노와이어는 Seed layer의 표면에너지에 큰 영향을 받는 것을 확인하였고 이것은 향후 연구에서 나노 구조체 전반에 밀도, 직경, 길이를 조절할 수 있는 핵심 기술임을 제시한다.

• Proceedings of the Korean Society of Computer Information Conference
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• 2024.01a
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• pp.89-90
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• 2024

본 연구는 와이어 하네스의 불량 여부를 정확하고 빠르게 감지하기 위해 컴퓨터 비전을 활용하여 압착된 단자의 길이, 단자 끝단 치수(너비), 압착된 부분의 폭(와이어부, 심선부)의 6가지 측정값을 계산하는 것을 목표로 한다. 단자 영역별 특징과 배경과 객체 간 음영 차이를 이용하여 기준점을 생성함으로써 값들을 추출하였다. 최종적으로 각 측정 유형별로 99.1%, 98.7%, 92.6%, 92.5%, 99.9%, 99.7% 정확도를 달성하였으며, 모든 측정값에서 평균 97%의 정확도로 우수한 결과를 얻었다.

• Proceedings of the Korean Nuclear Society Conference
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• 1998.05b
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• pp.521-526
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• 1998

군분리공정의 관심대상 핵종인 잔존 U, MA인 Am, Np 및 백금족원소의 장수명핵종인 Tc을 방사성모의용액으로부터 효과적으로 분리할 수 있었다. 각 단위공정에 주입되는 용액의 농도를 기준으로 하여 볼 때 잔존 U 제거 공정에서 U, Np, 및 Tc의 회수율은 각각 99.1%. 31.9%, 및 99.5%였다. 개미산 탈질 공정에서는 탈질 용액의 총 산도를 0.4M 이하까지 감소시켰으며, 부수적으로 후속용매추출 공정 전반에 걸쳐 문제 핵종으로 작용하는 Zr, Mo, Fe 등을 각각 99.8%, 94.2%, 22.4% 침전 제거시킬 수 있었다. 마지막으로 DEHPA에 의한 AM/RE 상호분리 공정에서는 연속적인 선택적역추출에 의해 Am 및 Np 의 회수율은 각각 99.8% 및 98.2％ 정도였고, Am의 경우 7.6%읜 Fe및 81.6% 의 Mo가, Np의 경우 5.8%의 Fe이 불순물로서 여전히 존재하고 있다. 한편 RE 생성물에서는 97～99.9%의 RE가 회수 제거되었다.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2013.05a
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• pp.957-958
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• 2013

• 수도
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• v.24 no.1 s.82
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• pp.41-47
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• 1997

• Proceedings of the Korea Society for Energy Engineering kosee Conference
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• 2003.11a
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• pp.229-234
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• 2003

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2003.11a
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• pp.218-218
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• 2003

• Proceedings of the Korean Radioactive Waste Society Conference
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• 2004.06a
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• pp.306-315
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• 2004

A Bridge Transported Servo Manipulator (BTSM) for Advanced spent fuel Conditioning Process (ACP) has been developed to overcome the limitation of access that is a drawback of Mechanical master-slave manipulators (MSMs) for the equipment maintenance. Wire-driven mechanisms have been adopted to increase the handling capacity to weight. The main disadvantage of the wire driven mechanism is that if one link is in motion, other links can be affected because wires and links are coupled. In this paper, the relationship between pulleys and links are formiliarized to overcome this drawbacks, Derived equations are proven and analyzed through experiments.

• Proceedings of the Korean Institute Of Construction Engineering and Management
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• autumn
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• pp.228-231
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• 2001

Construction of roof structure, cable suspended structure, for Pusan main stadium is adapted a lifting method that is VSL lifting system. 5 precesses are practiced for erection of the roof structure including the first lifting process for erection of upper cables and the second lifting process for erection of lower cables. Since all cables of this roof structure with two open speller sockets are determined their length, some cable were wrong length, the roof structure would be unstable. But At complete of erection for the roof structure each cab3e is attained to theoretical tension force with average $4\%$ errors.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2008.11a
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• pp.90-90
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• 2008

실리콘을 기판으로 하는 대부분의 태양전지에서는 표면반사에 의한 광에너지손실을 최소화시키고자 습식에칭(wet etching)에 의한 텍스쳐링처리가 이루어진다. 그러나 습식 에칭은 공정 과정이 번거롭고 비용이 많이 든다. Inductively Coupled Plasma Etcher 장비를 이용한 플라즈마 에칭 (plasma etching)을 실리콘 표면에 적용하여 공정을 간단하고 저렴하게 하며 반사도를 획기적으로 낮추는 기술이 개발되었다. 습식 에칭으로 형성된 표면의 피라미드 구조는 1차 반사 후 빛의 일부가 외부로 흩어져 나가지만 플라즈마 에칭으로 형성된 나노구조는 내부전반사가 가능하여 대부분의 태양 에너지를 흡수한다. 나노구조는 필라(pillar)의 형태로 형성되며 이 필라의 길이에 따라 반사도가 다르게 나타난다. 이는 플라즈마 에칭 시 발생하는 이온폭격과 에칭 측벽 식각 보호막(SiOxFy : Silicon- Oxy- Fluoride)이 필라의 길이에 영향을 주기 때문이며, 필라가 길수록 반사도를 저하시킨다. 최저의 반사도를 얻기 위해서 나노필라 형성에 기여하는 플라즈마 에칭 시간, RF bias power, SF6/O2 gas ratio의 변화에 따른 실험이 진행되었다. 플라즈마 발생 초기에는 표면의 거칠기만 증가할 뿐 필라가 형성되지 않지만 특정조건에서 3um 이상의 필라를 얻는다. 이는 에칭 측벽 식각 억제막이 약한 부분으로 이온폭격이 집중되어 발생한다. 플라즈마 에칭을 적용하여 형성된 나노필라는 반사도가 가시광 영역에서 대략 1%에 불과하며, 마스크 없이 공정이 가능한 장점이 있다.