• 제목/요약/키워드: 고순도 동

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저품위 동(Cu) 함유 슬러지로부터 동 전해정련에 관한 연구 (Study on the Copper Electro-refining from Copper Containing Sludge)

  • 이진연;손성호;박성철;정연재;김용환;한철웅;이만승;이기웅
    • 자원리싸이클링
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    • 제26권6호
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    • pp.84-90
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    • 2017
  • 저품위 동 함유 슬러지로부터 회수된 동 조금속을 황산구리 전해액에서 전해정련을 수행하여 고순도 동을 회수하고자 하였다. 유기첨가제 종류 및 농도에 따른 전해정련동 표면 형상 및 조도를 분석하였을 때, gelatin계 유기첨가제 5 ppm 및 thiol계 유기첨가제 5~10 ppm 혼합 조건에서 가장 우수한 표면 형상을 얻을 수 있었다. 건식환원공정을 통해 회수한 철(Fe), 니켈(Ni), 코발트(Co) 및 주석(Sn) 등의 불순물이 함유된 각 86.635, 94.969 및 99.917 wt.% 순도의 동 조금속을 사용하여 전해정련하였고, 순도 3N~4N급 전해정련동을 얻을 수 있었다. 동 조금속, 전해액, 전해정련동의 불순 원소 농도 및 동 순도 등의 분석을 통해, 순도 99.99 wt.% 이상 전해정련동을 회수할 수 있는 전해정련 공정시간 및 동 조금속 순도를 도출하였다.

전자빔패턴에 따른 태양전지용 실리콘의 미세구조 (Effects of Electron-beam. Patterns on Microstructures of Silicon for Photovoltaic Applications)

  • 최선호;장보윤;김준수;안영수
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.224-224
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    • 2010
  • 야금학적 정련은 태양전지 소재인 실리콘의 저가화를 통한 태양전지의 단가를 낮추는데 유망한 공정이다. 이중에서도 실리콘의 전자빔정련은 고순도의 실리콘 정련에 효과적인 기술이다. 본 연구에서는 전자빔용융법을 이용하여 실리콘 정련을 수행하였으며, 제조된 실리콘의 미세구조 및 분순물농도를 측정하였다. 고진공의 챔버 하부에 수냉동도가니가 위치해있고, 상부에 100 kW출력의 전자총이 설치되었다. 실리콘은 분쇄 및 세척과 같은 전처리 없이 수냉동도가니에 250g 이 장입되었다. 전자빔때턴은 소프트웨어를 통한 헌혈, 나선형의 경로(path)와 원형의 형상(Shape)이 결합하여 원형패턴과 나선형패턴의 형상으로 실리콘에 조사되었다. 전자빔의 출력을 15 kW로 실리콘을 용융하였고 분당 0.5 kW의 속도로 서냉하였다. 제조된 실리콘은 지름 100 mm, 높이 25 mm의 버튼형상이었으며, 횡방향으로 절단하여 미세구조와 불순물거동을 분석하였다. 미세구조는 광학현미경 (OM) 과 전자현미경 (SEM)을 통하여 관찰하였고 불순물거동은 유도결합플라즈마 분광분석기(ICP-AES) 을 통하여 분석하였다. 장입된 실리콘의 초기순도는 99.5 %이고, 전자빔정련 공정 후 99.996 %까지 향상되었다. 전자빔패턴을 이용한 고순도 실리콘의 정련은 태양전지 소재 개발에 유망한 기술로 활용될 것이다.

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염화동 폐액으로부터 양이온격막 전해 채취된 구리 분말을 이용한 황산동의 제조방법 연구 (Study on the Preparation of Copper Sulfate by Copper Powder using Cation Membrane Electrowinning Prepared from Waste Cupric Chloride Solution)

  • 강용호;현승균
    • 자원리싸이클링
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    • 제28권1호
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    • pp.62-72
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    • 2019
  • 일반적으로, 황산동을 제조하기 위한 원료는 $H_2SO_4$ 및 Cu 금속이 사용된다. 본 연구는 폐산, 폐염화동 폐기물부터 전해 채취법을 이용하여 황산동을 제조하는 방법에 관한 것이다. 황산구리의 용도는 공업용, 도금용, 사료용, 농업용, 전자급 PCB 동도금에 사용된다. 종래의 황산동 제조법은 다량의 폐수 및 에너지 비용이 높은 문제점이 있다. 구리(Cu) 화합물 중에서 가장 사용이 많이 되는 황산동($CuSO_4$)의 제조 방법에 관한 연구로서, 공정 운전비가 적고, 폐수 발생이 적으며, 제조 공정이 간단하다. 양이온 맴브레인을 이용하여 Na, Ca, Mg, Al을 불순물로서 제거하기 쉽다. 또한 동시에 전해 채취 방법으로 고 순도 구리 분말을 회수 할 수 있었다. 회수 된 구리 분말을 사용하여 고 순도 황산동을 제조 할 수 있었다.

전자폐기물에서 회수된 조금속으로부터 팔라듐 분리를 위한 전해공정에 관한 연구 (A Study on the Electrolytic Process for Palladium Separation from Recovered Crude Metal of Electronic Waste)

  • 박성철;한철웅;김용환;정연재;이만승;손성호
    • 자원리싸이클링
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    • 제30권6호
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    • pp.76-82
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    • 2021
  • 폐 전자폐기물에서 건식정련 및 팔라듐 농축공정으로 제조된 조금속으로부터 팔라듐 분리 및 고순도 동 회수가 가능한 전해공정 연구를 수행하였다. 조금속 내 팔라듐 및 불순금속을 전해분리 시키기 위한 기초 연구로서 각 금속별 산화전위를 평가한 결과 구리, 철 및 니켈은 전해액에 용해되고, 팔라듐 및 알루미늄은 산화물 형태 슬라임 회수가 가능한 것으로 나타났다. 조금속 사용 팔라듐 분리 전해공정 시 팔라듐은 산화물 형태의 슬라임으로 분리되어 97.46 %의 손실이 거의 없는 팔라듐 회수가 가능하였고, 음극에서의 전착층에서는 4N급 구리를 회수하였다.

PCB 産業에서 배출되는 산성 염화동 폐액으로부터 입자형상이 제어된 산화동 회수에 관한 연구 (A Study on the Recovery of Shape-controlled Copper Oxide from the Waste etchant of PCB Industry)

  • 김영희;류도형;김수룡;어용선
    • 자원리싸이클링
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    • 제10권6호
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    • pp.15-21
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    • 2001
  • 구리를 포함하는 산성 염화동 폐액으로부터 입자형상이 제어된 고순도의 산화동을 중화법을 사용하여 제조하였다 PCB(Printed Circuit Board)제조 산업은 구리 소재를 이용한 전자 부품 가공 산업으로서 제조 공정인 부식 과정에서 다량의 구리가 함유된 에칭 폐액이 발생한다. 환경과 경제적인 측면에서 폐액으로부터 구리성분을 재회수하는 기술의 개발은 매우 중요하다. 본 연구에서는 폐액으로부터 산화동을 회수하는 공정 중 반응 온도를 조절하여 생성물의 입자 크기와 형상을 제어하였다. $40 ^{\circ}C$미만에서 회수한산화동은 입자모양이 침상이었으며 $40^{\circ}C$이상에서 회수한 산화동은 판상을 보여 주었다. 생성물의 물리적 특성을 SEM, XRD, TGA그리고 원자 흡수 분광기를 사용하여 분석하였다.

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황산동전해액(黃酸銅電解液) 중 은(銀(Ag)) 제거(除去)를 위한 연구(硏究) (A Study on the Removal of Silver in Copper Electrolyte)

  • 소순섭;안재우
    • 자원리싸이클링
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    • 제17권5호
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    • pp.60-65
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    • 2008
  • 고순도 동 제조를 위해 황산동 전해액중에 존재하는 은(Ag)을 제거하기 위한 기초연구를 실시하였다. 이온교환수지법, 활성탄 흡착법, 구리분말 및 세선을 이용한 치환법, CuS침전법 등을 이용하여 Ag제거에 대한 실험을 실시하였으며, 은(Ag)제거 반응에 영향을 미칠 수 있는 반응온도, 반응시간, 첨가량 등에 대해 고찰하였다. 이들 방법중 CuS 침전법과 Lewatit TP214를 이용한 이온교환수지 방법이 효과적이었는데 특히 Lewatit TP214를 사용한 경우 초기 동전해액중, Ag 농도가 10ppm서 0.1ppm 이하 수준까지 제거가 가능하였다.

동전련 부산물인 함비소 동슬라임으로부터 염산에 의한 비소의 침출 (Hydrochloric Acid Leaching of Arsenic from Arsenic-Bearing Copper Slime.)

  • 유용주;황필규
    • 자원리싸이클링
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    • 제1권1호
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    • pp.51-57
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    • 1992
  • 동전해 과정중 비소를 제거하는 과정에서 생성된 함비소 동슬라임으로부터 비소의 희수와 고순도 비소의 제조를 위한 기초적인 자료를 얻기 위하여 함비소 슬라임의 염산침출실험을 행하였다. 함비소 슬라임은 Cu와 As의 금속간화합물인 $\beta-Cu_3As$가 주이며, 그밖에 미량의 $CU_2O$dhkCusAs가 혼재되어 있었다. 함비소 슬라임의 최적 염산침출조건은 슬라임입도 -140 mesh, 반응온도 $60^{\circ}C$ 염산과 슬라임의 비 3:1, 산소유량 1.25l/min, 침출반응시간 150분이었으며, 위의 침출실험조건에서 비소의 최대 침출들은 98%이었다.

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PCB 산업에서 배출되는 산성 염화동 폐액으로부터 Copper Oxychloride의 제조 및 특성분석 (Preparation and Characterization of Copper Oxychloride from Acidic Copper Chloride Etchant)

  • 김영희;김수룡;정상진;이윤주;어영선
    • 자원리싸이클링
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    • 제12권2호
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    • pp.3-10
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    • 2003
  • PCB (Printed Circuit Board) 산업에서 배출되는 산성 염화동 폐액으로부터 농약원제로 사용이 가능한 고순도의 copper oxycloride를 제조하였다. PCB제조 산업은 구리 소재를 이용한 전자 부품 가공 산업으로서 제조 공정인 부식 과정에서 다량의 구리가 함유된 에칭 폐액이 발생한다. 환경과 경제적인 측면에서 폐액으로부터 구리성분을 재회수하는 기술의 개발은 매우 중요하다. 본 연구에서는 가성소다로 폐액을 중화하여 copper oxychloride를 회수하는 공정의 반응 조건을 확립하였다. 반응 온도 2$0^{\circ}C$-4$0^{\circ}C$, pH 5-7 사이에서 순수한 copper oxychloride제조가 가능하였고 이때 수득율은 95% 이상이었다. 생성물의 물리적 특성을 SEM, XRD, TGA, ICP 그리고 원자 흡수 분광기를 사용하여 분석하였다.

고순도 1,4-솔비탄을 이용한 비이온 솔비탄 모노스테아르산 합성 (Synthesis of Nonionic Sorbitan Monostearate Using High Purity 1,4-sorbitan)

  • 류화열;주창식;문부현;김영석;이주동;이만식
    • 한국표면공학회지
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    • 제41권2호
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    • pp.51-56
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    • 2008
  • Nonionic sorbitan monostearate have been successfully prepared by esterification using 1,4-sorbitan and stearic acid. 1,4-sorbitan were prepared using D-sorbitol and acid catalyst at solvent-free conditions. The synthesized surfactants were characterized by NMR and FT-IR. We also investigated the effect of temperature, pressure and catalyst on the synthesis of nonionic sorbitan monostearate. The yields of 1,4-sorbitan were 90% at $160^{\circ}C$ under 160 mmHg vacuum, and the yields of nonionic sorbitan monostearate were 92% at $230^{\circ}C$ under 60 mmHg vacuum.