초고분자량 폴리에틸렌을 파라 크실렌에 녹인 희박 용액에 전단흐름을 가해 섬유를 뽑아내는 방법에 대해 연구하였다. 표면성장이라 불리는 이 방법을 용액내에서 회전하는 rotor 의 표면에 흡착된 젤 층에, 결정성이 강한씨(seed)를 접촉시킴으로써 엉킨 분자쇄들이 전단력에 의해 신장되어 분자의 자유에너지가 증가하도록 하여 연속적으로 고강력, 고탄성 률 결정을 뽑아내게 한 것이다. 이표면성장법으로 섬유를 얻는데 있어서 결정화온도 rotor 속도, 권취속도 및 고분자 농도와 같은 결정화 변수를 변화시키면서 섬유의 물리적 성질에 미치는 영향을 관찰하였다. 이방법으로 섬유를 성장시키면 열역학적 평형온도(118.6$^{\circ}C$) 이상 인 12$0^{\circ}C$에서 성장시켰을 때 133GPa의 인장 탄성계수 3.1%의 절단신도에서 5.04GPa의 고 강력을 갖는 섬유를 얻을수 있었다. 또한 이방법에 있어서는 결정화 온도가 물리적 성질에 가장 큰 영향을 미치는 인자로 작용하였다, 고분자 농도의 영향은 0.7wt.% 이상에선 물리적 성질이 더 이상 개선되지 않았으며 오히려 장력의 증가로 불안정한 성장을 보였다. 또한 0.5wt%이하에서는 젤층의 형성이 둔화됨을 볼수 있었다. 결국 물리적 성질의 측면에서 볼 때 0.5~0.7wt%에서 최적조건을 보여주었다.
Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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2000.02a
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pp.236-237
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2000
용액인상법에 의하여 Cr$^{3+}$ 이온이 0.1-0.2% 주입된 Alexandrite (Cr$^{3+}$ :BeAl$_2$O$_4$) 단결정을 성장하고, 성장한 단결정을 이용하여 레이저 소자를 제조하였다. 고품질의 단결정을 성장할 수 있는 결정성장조건을 규명하고, Cr$^{3+}$ 이온의 유효편석 계수를 계산하였으며, 결정 결함 및 분광 물성을 조사하였다. 결정성장 실험 결과, 유속 3 1/min의 질소분위기, 이리듐 도가니 및 <001>방위의 Alexandrite 단결정을 종자결정으로 사용하여 결정을 성장하는 경우 최적의 결정성장 조건은 인상속도 0.5-1.0 mm/hr와 회전속도 20-25 rpm이었다. 육성된 결정은 (100)면이 넓게 발달되었으며, (120)과 (010)면이 측면에 발달되는 판상의 직팔각기둥의 형태로 성장되었다. 결정결함으로써 parasite crystal의 형성과 경계면의 균열, striation, inclusion 등이 검출되었다. Alexandrite 단결정 내에 분포하는 Cr$^{3+}$ 이온의 유효편석계수 k$_{eff}$는 2.8로 계산되었다. 분광물성으로써 실온에서의 $^4$A$_2$$\longrightarrow$$^4$T$_2$(689.6-489.3 nm), $^4$A$_2$$\longrightarrow$$^4$T$_1$(489.3-311.33m) 천이에 의한 흡수를 확인하고, $^4$T$_2$$\longrightarrow$$^4$A$_2$(650-800 nm), $^2$E$\longrightarrow$$^4$A$_2$에 의한 nophonon line R$_1$, R$_2$(680.4, 678.5 nm) 및 $^2$T$_1$$\longrightarrow$$^4$A$_2$(655.7, 649.3, 645.2 nm)의 형광방출 스펙트럼을 얻었으며, 형광수명은 0.264 ms로 조사되었다. 제조된 레이저 발진봉은 직경 6.3 m, 길이 45 nm이었다.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.11
no.1
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pp.14-19
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2001
The crystal size was determined as a function of reaction temperature, during the crystallization process of NaX zeolite. The measured rate constants for linear growth were as 0.0441$\mu\textrm{m}$/h at $80^{\circ}C$, 0.0595$\mu\textrm{m}$/h at $90^{\circ}C$ and 0.0972$\mu\textrm{m}$/h at $100^{\circ}C$, respectively. The activation energy calculated from the relation between the linear growth rate an the reaction temperature was 43.243kJ/mol. The reaction of crystal growth were revealed as 20 days at $80^{\circ}C$, 16 days at $90^{\circ}C$ and 9 days at $100^{\circ}C$, respectively. Both the final product crystal size an the crystallization time were decreased with increasing reaction temperature.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.28
no.4
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pp.170-174
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2018
AlN crystal is been developing in global site for many years and 1 inch diameter wafer was already developed but it is demanding the efforts for the better quality. On the other hand, also the 2-inch size is developing recently to reduce the unit cost for manufacturing and to use to fabrication of the UV LED chips. In this study, we tried to evaluate the possibility of bulk AlN crystals on his thin films by PVT method. The AlN thin film was grown on SiC single crystal 2" wafer by HVPE method. We successfully grew AlN bulk crystal of a thickness of 7 mm using its thin film of a thickness of $10{\mu}m$ as a seed crystal. The resultants of AlN crystals were identified by metallurgical microscope, optical stereographic microscope and DCXRD measurement.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.9
no.5
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pp.463-469
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1999
The potassium lithium niobate $K_3$$Li_2$$Nb_5$$O_{15}$ single crystals were growing in $K_x$$Li_{1-x}$$NbO_3$ (x = 0.4~0.6) chemical formular by the Czorchralski method. Crystal growth is studied in two orientations with growth along a-axis and c-axis. We have subjected this crystal to x-ray diffraction studies and found that they are single-crystalline and belong to tetragonal system with the lattice parameters a = b = 12.577 $\AA$ and c = 3.997$\AA$. The temperature dependence of dielectric constant was measured in the region of the phase transition. Curie temperature and diffuseness of phase transition are influenced by composition concentration. The composition and cation distribution of ferroelectric TB-type niobate crystals has a strong influence on the ferroelectric properties. Growth condition, optical transmittance, etching pattern and dielectric properties are presented and discussed.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.5
no.1
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pp.50-59
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1995
Abstract 6 H - SiC single crystal was grown by sublimation growth system which was self - designed and manufactured. In order that the SiC source might be decomposited and sublimed and deposited on the 6H - seed substrate grown by Acheson method, the temperature gradient, the growth parameters of growth temperature and pressure were operately adjusted. So we could get the optimum temperature gradient inside of the crucible. The graphite crucible with SiC powder and thermal shield componants were purified at the elevated temperature by means of Ar purging process and the source baking, then it distributed to reduce the amount of the impurities come from those parts. It was recognized that the optimum growth temperature of the crucible was$2300~2400^{\circ}C$ at the Ar atmospheric pressure of 200~400 torr, and at that moment the growth rate was 500~1000 $\mu\textrm{m}$. And then, the as- grown crystal was cut with the wafer form, the evaluation about the crystal was carried out by XRD, the optical microscopic observation and FT IR spectrum measurement.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.22
no.4
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pp.178-182
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2012
The grain growth is very important because of its great influence on the various materials properties. Therefore, in this study, the effects of anisotropic grain boundary energy on grain growth in 2-D have been investigated with a large scale phase field simulation model on PC. A $2000{\times}2000$ grid system and the initial number of grains of about 73,000 were used in the computer simulation. The anisotropic ratio of grain boundary energy, ${\sigma}_{max}/{\sigma}_{min}$, has been varied from 1 to 3. As the anisotropy increased, the grain growth exponent, n, increased from 2.05 to 2.37. The grain size distribution showed a central plateau in the isotropic case, and was changed into no central plateau and the increasing population of very small grains in the anisotropic case, resulting from slowly disappearing grains. Finally, simulated microstructures were compared according to anisotropy.
Growth form and surface morphology of NYAB single crystal grown by TSSG technique using a K2O/3MoOS/0.5B203 flux was investigated. In the crystal grown from <100> or <120> seed, prismatic and (101) faces were well developed with different size each other. (001) face was also developed in the crystal grown from <001> seed. While growth hillocks were observed on the prismatic face of the crystal grown from <100> seed, surface striations parallel to neighbor (101) faces were formed on that face of the crystal grown from <001> seed. The (101) faces were grown by two dimensional nucleation growth. (001) face which was developed at slow growth velocity of [001] direction was grown by screw dislocation Anisotropy of growth velocity as to seed orientation affected on crystal morphology and surface morphology.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.2
no.1
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pp.1-9
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1992
Radiation heat transfer was calculated for initial stage of crystal growth in Czochralski crystal growth system. View factors among surface elements were calculated for the estimation of heat evolution and all the surfaces were assumed to be diffuse-gray. The values of view factors were greatly different along the position of surface elements. The dissipated amounts of heat flux from the melt surface were 3.6 times larger than those from the crystal surface at the initial stage of crystal growth and this amounts were greater when the surface elements were not considered. The trijunction part of the crystal was greatly affected by the melt surface near the crystal. Consequently radiation heat transfer between surface elements must be considered in order to correctly simulate the initial crystal growth.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.2
no.2
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pp.77-82
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1992
When a crystal is grown by FZ process, the melt zone is located at between the solid of upper and lower side and is kept by the solid-liquid interface tension. On the surface of the melt zone, a surface tension gradient is occured by the difference of temperature and solute concentration, it is the driving force of marangoni flow. The crystal even in the steady state growth can become imperfect for the dislocation distribution and the solute concentration in the peripheral region of the crystal are higher than those in the inner part and the probability of the formation of the defects such as voids, bubble penetration, secondary phase creation and crack is high near the solid-liquid interface. This is because the solid -liquid interface becomes irregular because of the local variation of temperature in that region due to marangoni convection.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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