• 제목/요약/키워드: 결정화 온도

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Crystallization and high purification of aluminium chloride hexahydrate from kaolin leaching solution (고령토 침출용액으로부터 고순도 염화알루미늄 결정화 분리)

  • 김우식;장희동
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • 제6권4호
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    • pp.584-594
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    • 1996
  • For the separation and purification of aluminium chloride hexahydrate crystals from kaolin leaching solution the effects of crystallization conditions, such as crystallization temperature, concentration of aluminium chloride concentration in the leaching solutin and gas flow rate of HCl into the leaching solution, on purity of the aluminium chloride hexahydrate crystals were investigated. The supersaturation level of aluminium chloride in the leaching solution gave great influence on the purity of the crystals. When supersaturated concentration of the aluminium chloride in the leaching solution was generated in low level, the aluminium chloride hexahydrate crystals were produced with high purity ; that is, the crystals hving a low Fe-ion concentration. The supersaturation level of aluminium chloride in the leaching solution was mainly determined by crystallization temperature, concentrations of aluminium chloride and hydrochloric acid in the solution. However, in spite of changes of the above crystallization coditions, a needle shape morphology of aluminium chloride hexahydrate crystals did not modified. To measure hydrochloric acid concentration in the kaolin leaching solution, we applied the oxalate titration method, which was suggested by shank [9] and it was prove that this method could titrate hydrochloroic acid concentration in multi-component ionic solution such as kaolin leaching solution.

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Structure Development of Uniaxially Drawn Poly(trimethylene terephthalate)/ Poly(ethylene terephthalnte) Blends (일축 연신에 의한 폴리(트리메틸렌 데레프탈레이트)/ 폴리(에틸렌 데레프탈레이트) 블렌드의 구조 변화)

  • 전병환;김환기;강호종
    • Polymer(Korea)
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    • 제28권1호
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    • pp.67-76
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    • 2004
  • The effects of drawing temperature and draw down ratio on thermal properties, crystallinity and orientation of poly(trimethylene terephthalate)/poly(ethylene terephthalate) (PTT/PET) 100/0 ,90/10, and 80/20 blends have been investigated. The crystallinity and glass transition temperature increased while cold crystallization temperature and cold enthalpy decreased due to the development of orientation and stress induced crystallization by the cord drawing. Introducing PET to PTT decreased the crystallinity of PTT. However, it enhanced the orientation of PTT/PET blends drawn at below the glass transition temperature of PET. This lead to the increase of tensile modulus and tensile strength of PTT/PET blends. The shrinkage increased with increasing orientation, which might be minimized by the development of crystalline morphology of PTT in the course of cold drawing.

The Effect of Crystallization Condition on the Crystallization Rate of Zeolite A (제올라이트 A의 결정화 속도에 대한 결정화 조건의 영향)

  • Chung, Kyeong-Hwan;Seo, Gon
    • Applied Chemistry for Engineering
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    • 제4권1호
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    • pp.94-102
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    • 1993
  • The effects of temperature and of $Na_2O$ and $SiO_2$ contents on the crystallization of zeolite A were studied, by examining crystallization curves and particle size distributions of final products at various crystallization conditions. Crystallization process could be simulated adopting the assumptions of constant linear growth rate and equilibrium between amorphous solid phase and soluble species. Rate constants were determined by comparing the simulated crystallization curves with experimental data. Rate constant for linear growth increased with temperature and crystallization rate at different mole ratio of $Na_2O/H_2O$ correlated reasonably well with increase of soluble species. The rate constant of crystallization did not increase with increase in mole ratio of $Na_2O/H_2O$, but the rate of nuclei formation and the fraction of soluble species were enhanced. The rate constants for linear growth of zeolite A were determined as $0.07{\sim}0.24{\mu}m{\cdot}min^{-1}$ at these experimental conditions Apparent activation energy was estimated as $49kJ{\cdot}mol^{-1}$.

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Solid phase crystallization of LPCVD amorphous Si films using $AlCl_3$ and $NiCl_2$ atmosphere ($AlCl_3$$NiCl_2$ 화합물 분위기를 이용한 LPCVD 비정질 실리콘 박막의 고상결정화)

  • 엄지혜;안병태
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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    • pp.61-61
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    • 2003
  • 다결정 실리콘 박막은 박막 트랜지스터와 실리콘 태양전지등에 응용되며, 비정질 실리콘을 재결정화 하여 얻어지는 다결정 실리콘 박막이 주로 이용되고 있다. 비정질 실리콘 박막을 금속 원소와 접촉시킨 상태에서 열처리할 경우 결정화 온도가 낮아지고 결정화에 필요한 열처리 시간이 짧아지게 된다. 금속을 실리콘 박막 표면에 가하는 방법은 진공증착법등으로 비정질 실리콘 박막 위에 금속원소 층을 형성하는 방법이 주로 이용되었다. 본 연구에서는 AlCl$_3$와 NiCl$_2$ 금속화합물 분위기에서 LPCVD 비정질 실리콘 박막을 열처리하여 결정화 거동을 관찰하였다. 금속화합물과 결정화할 비정질 실리콘 박막을 각각 다른 온도로 가열해 줄 수 있는 노를 이용하여 열처리를 시행하였다. AlCl$_3$와 NiCl$_2$ 분말을 혼합하여 소스로 이용한 경우 48$0^{\circ}C$ 5시간 열처리로 결정화가 완료되었으며, 박막 전체에 걸친 균일도와 재현성이 우수하였다. AlCl$_3$와 NiCl$_2$를 이용한 결정화 초기 상태에는 박막 전면에 걸쳐 등근 형태의 결정립이 균일한 핵 생성으로 나타났다. 이와 같은 결과는 Al과 Ni이 고상결정화에 동시에 작용하면서 나타난 것으로, Al이 가해진 비정질 실리콘으로 인해 결정화 속도가 빨라지고 결함이 작은 결정립을 얻을 수 있었으며, Ni로 인해 결정화의 균일성과 재현성을 높일 수 있었다.

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PECVD와 고상결정화 방법을 이용한 poly-SiGe 박막의 제조

  • 이정근;이재진
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 한국진공학회 1998년도 제14회 학술발표회 논문개요집
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    • pp.55.2-55
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    • 1998
  • 다견정 심리판-거l르마늄(JXlly-SiGe)은 TFT(thin-film transistor)와 갇븐 소자 응용에 있어서 중요한 불칠이다 .. LPCVD (low pressure chemical vapor deposition) 방법으로 비정칠 SiGc (a-SiGe) 박막올 증 착시키고 고상결정화(SPC: solid-phase crystallization)시켜 poly-SiGc옹 얻는 것은 잘 알려져 있다. 그러 나 그러나 PF'||'&'||'pound;VD-SPC 방법올 이용한 poly-SiGc의 제조에 대해서는 아직 두드러지게 연구된 바 없다. 우리단 PF'||'&'||'pound;VD 방법으로 a-SiGc 박막올 증착시키고 고상캘정화시켜 poly-SiGc올 얻었 R며, :~ 결정성, G Gc 농도, 결정핍의 평끌 크기 눔올 XRD (x-ray diffraction) 방법으호 조사하였다. 특히 pr'||'&'||'pound;VD 증착시 가판온도,Gc 함유량 등이 고상화에 미치는 영향에 대해서 조사하였다. P PECVD 장치는 터보펌프콸 사용하여 71저진공이 2xlOlongleftarrow5 Torr에 이르렀다. 가판윤 SiOOO) 웨이퍼륜 사용하고 기판 온도는 약 150- 35()"C 사이에서 변화되었다. 증착가스는 SiH4, GcH4, 112 등흘 썼다. 증착 압력과 r.f 전력용 각각 O.25ToIT와 3W로 일정하게 하였다 .. Gc 함유량(x)은 x x=O.O-O.5 사이에서 변화되었다 .. PECVD모 증착된 SiGc 박막들은 고상결정화를 위해 $\theta$X)"(:: Nz 분위기에서 24시간동안, 혹은 5OO'C에서 4열간 가열되었다. 고상결정화 후 poly-SiGc 박막은 SiGc(Ill), (220), (311) XRD 피크들올 보여주었으며, 각 피 크들은 poly-Si에 비하여 왼쪽으로 Bragg 각이 이동되었고, Vegard’slaw에 의해서 x의 값올 확 인할 수 있었다. 이것온 RBS 결과와 열치하였다. 약 150-350'C 사이에서 변화된 기판온도의 범위 에서 증착온도가 낮올수콕 견정립의 크기는 대체로 증가하는 것으로 나타났다 .. XHD로 추정된 형 균 결정립의 크기는 최대 약 3$\alpha$1m 정도였다. 또한 같끈 샘플뜰에 대해서 기판온도가 낮올수록 증착속도가 증가함옴 확인하였다 .. Gc 함유량이 x=O.1에서 x=O.5로 증가함에 따라서도 결정립의 크기와 SiGc 증착속도는 증가하는 것으로 나타났다 .. Hwang [1] , Kim[2] 둥의 연구자들은 Gc 함유 량이 증가함에 따라 결정 립 크기가 캄소하는 것올 보고하였으냐, Tsai [3] 둥은 반대의 결과플 보 고하고 Ge 힘유량의 증가시 결정립 크기의 증가에 대해 Gc의 Si보다 낮은 융점 (melting point) 올 강조한 바 있다. 결정립 크기의 증가는 대체로 SiGe 중착속도의 증가와도 관련이 있음올 볼 때, poly-SiGc의 경우에도 polv-Si의 고상화에서와 같이 증착속도가 빠를수록 최종적언 결정럽의 크기가 커지는 것으로 이해될 수도 있다 .. PECVD 증착시 증착속도의 증가는 증착된 박딱에서의 무켈서도를 증 가시킬 수 있음올 고려하면, 이라한 결파플온 p이y-SiGc의 고상결정화에서도 ploy-Si의 고상결정 화에서와 마찬가지로 초기 박막에서의 구조직 무절서도가 클수록, 고상결정화 후 결정 립의 크기 가 커칠 수 있음올 보여준다고 생각휠 수 있다,

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The crystallization behavior of glass made from coal bottom ash (석탄 바닥재로 제조된 유리의 결정화 거동 분석)

  • Jang, Seok-Joo;Kang, Seung-Gu
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • 제20권1호
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    • pp.58-63
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    • 2010
  • The glass-ceramics made from the mixture of coal bottom ash, produced from a thermal power plant mixed with $Na_2O$ and $Li_2O$ was fabricated and their crystallization behavior was studied using a non-isothermal analyzing method. The temperature for 50% crystallization was higher than the exothermic peak temperature $T_p$ at DTA curve and the quickest crystallization temperature was much the same as $T_p$ as identified from the relationships of crystallized fraction and crystallization rate with temperature. By using Kissinger equation describing a crystallization behavior, the activation energy (262 kJ/mol), the Avrami constant (1.7) and the frequency ($5.7{\times}10^{16}/s$) for crystallization were calculated from which the nepheline crystal could be expected as showing an 1~2-dimensional surface crystallization behavior mainly with some bulk crystallization tendency at the same time. The actual observation of microstructure using SEM showed the considerable amount of surface crystals of dendrite and the bulk crystals with low fraction, so the prediction by the Kissinger equation was in accord with the crystallization behavior of glass-ceramics fabricated in this study.

$Ba_{2}TiSi_{2}O_{8}$ 결정화 유리의 제조 및 특성

  • 강원호;이회관
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 한국반도체및디스플레이장비학회 2005년도 추계 학술대회
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    • pp.175-177
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    • 2005
  • 본 연구에서는 fresnoite ($Ba_{2}TiSi_{2}O_{8}$) 결정화 유리를 $xK_{2}O-(33.3-x)BaO-16.7TiO_{2}-50SiO_{2}$ ($0{\le}x{\le}\;20mol\%$)으로 부터 제조하였으며, 특성평가를 하였다. $K_{2}O$의 치환량이 증가함에 따라, 유리전이 온도와 결정화 온도는 감소하였으며, 유리의 안정화를 나타내는 ${\Delta}$T는 증가하였다. $Ba_{2}TiSi_{2}O_{8}$ 결정상의 형성은 XRD와 SEM분석을 통하여 관찰하였고, LCR meter를 사용하여 열처리에 의하여 제조된 결정화 유리의 유전율은 측정하였으며, 결정화 유리는 $Ba_{2}Si_{2}TiO_{8}$ 단결정 보다 낮은 유전율은 보였다.

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Crystallization Behaviors of Liquid Crystalline Polymer/poly(ethylene terephthalate) blends (액정 고분자와 폴리(에틸렌 테레프탈레이트) 블렌드의 결정화 거동)

  • Bang Moon-Soo
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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    • 제7권4호
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    • pp.559-566
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    • 2006
  • The isothermal crystallization behavior of blends of poly(ethylene terephthalate) and liquid crystalline polymers(LCP) was studied. The Avrami analyses were applied to obtain the information on the crystal growth geometry and factors controlling the rate of crystallization. The crystallization kinetics for the blends followed the classical Avrami equation up to a high degree of crystallization regardless of crystallization temperature, The values of Avrami exponent, n, for PET in the blends were estimated to be around 2, which indicate that the polymer crystals grow into one-dimensional linear or fiber-like crystallization mode. The crystallization rate, as expected, decreases with increasing the crystallization temperature.

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The study for the crystallization of a-Si by using the Ni-solution (Ni-solution을 이용한 a-Si 결정화에 관한 연구)

  • Son, Hyuk-Joo;Kim, Jae-Hong;Lee, Jeoung-In;Yi, Jun-Sin
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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    • pp.95-96
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    • 2007
  • 유리 기판 상부에 버퍼 층을 형성 한 후 플라즈마 화학 기상 증착 법을 이용하여 비정질 실리콘을 증착하고 Ni-solution을 이용하여 앓게 Ni 코팅한다. 그 시료를 약 $600^{\circ}C$의 RTA 열처리 공정을 이용하여 비정질 실리콘을 다결정 실리콘으로 결정화 시키는 연구를 진행하였다. Ni 코팅 과정에서 온도를 달리하며 실험한 결과 약 70 에서 $80^{\circ}C$의 온도에서 진행을 하여야 가장 결정화가 잘 일어나는 것을 알 수 있다. Ni 코팅은 15 초, RTA 공정은 40분간의 진행 시간을 거쳐야 최적의 결정화 정도를 만들어 낸다.

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