본 논문에서는 건물에 산재되어 있는 비상등을 효과적으로 관리하기 위하여 별도의 통신선을 포설하지 않고 지능형 클러스터 감시망을 구성한다. 또한, 비상등의 위치에 구애받음 없이 감시장치를 설치할 수 있고, 감시망을 구성함에 있어 게이트웨이로 지정된 감시장치가 고장나더라도 사각지대 없이 비상등의 상태를 감시 및 관리가 가능하며, 비상등을 항시 점검 및 관리할 수 있는 비상등감시장치와 비상등관리시스템을 구현하였다. 실험결과, 구현 시스템은 설계 규격대로 동작하였고, 감시망 구성, 상태정보 측정 및 초기화가 안정적으로 구성됨을 확인하였다.
본 논문에서는 산재되어있는 비상등을 운용관리센터에서 항시 점검 및 관리할 수 있고, 데이터 병목현상에 구애받지 않는 안정된 데이터 통신이 가능한 클러스터 구조형 감시망을 이용하여 비상등감시장치를 설치함에 있어 비상등 위치에 구애받음 없이 비상등의 감시장치를 설치할 수 있고, 감시 통신망을 구축함에 있어 게이트웨이로 지정된 감시장치가 고장나더라도 사각지대 없이 비상등의 상태를 감시 및 관리가 가능한 비상등관리시스템을 제안한다.
본 논문에서는 특정 관심지점(POI, Point-of-Interest)의 상세 서비스들을 자동 발견하고, 이를 관리 제어할 수 있는 텔레매틱스 POI 서비스 플랫폼을 제안하고 개발한다. 개발 제안되는 서비스 플랫폼은 UPnP 미들웨어를 사용하여 텔레매틱스 POI 상세 서비스를 자동 발견하고, GIS 정보를 이용한 위치 기반 서비스를 제공할 수 있도록 설계한다. 서비스 플랫폼은 텔레매틱스 서버 및 단말과 서비스 게이트웨이로 구성하여 구현하고 테스트 시나리오를 적용하여 제안된 POI 서비스 플랫폼의 타당성을 검증한다. 또한 제안된 서비스 환경 하에서 전송되는 UPnP 메시지의 응답 속도 및 메시지 처리량을 측정 분석하여 서비스 메시지가 네트워크 혼잡도에 미치는 영향이 적음을 확인한다.
The golden section search method is widely used to optimize a single design variable in many fields due to its superior advantages of search. In this paper, a new direct search method is proposed by modifying the search structure of the golden section search method; thus, it can be adapted in the optimization of a single design variable for the injection molding process. This proposed method is applied to determine an optimal gate position for the injection molding of a bezel of an automated teller machine for minimizing the injection pressure. Thus, an optimal gate position where the injection pressure is decreased by 4.5 MPa to that of the initial position was obtained with a small number of simulations. It is anticipated that the current proposed search method can be utilized as a practical tool for optimizing single variables for injection molding design.
TFT의 게이트 전극을 형성하기 전에 소오스/드레인 이온 주입과 ELA를 수행함으로써 이온 주입에 의해 발생하는 결정 결함을 줄이는 새로운 poly-Si TFT를 제안한다. 한번의 ELA 공정을 통해서 채널 실리콘 박막의 결정화와 소오스/드레인의 불순물 활성화를 동시에 이루어 접합부의 결함을 치유하였고, 이온 주입에 의해서 비정질화된 소오스/드레인 실리콘과 채널 비정질 실리콘의 용융조건 차이를 이용하여 소오스/드레인 접합부에 실리콘 그레인의 수평성장을 유도하였다. 제안된 소자는 기존의 소자(이동도 : 86 $cm^2/V{\cdot}S$, ON/OFF 전류비 $6.1{\times}10^6$)에 비해 우수한 특성(이동도 : 171 $cm^2/V{\cdot}S$, ON/OFF 전류비 $4.1{\times}10^7$)을 나타내었다. LDD나 off-set 구조 없이도 소오스/드레인 접합부의 결함이 완전히 제거되어 누설전류가 감소하였고 소오스/드레인 접합부 결함이 있던 자리에 1 ${\mu}m$ 이상의 수평성장 그레인이 위치함으로써 ON 전류도 증가하여 ON/OFF 전류비가 크게 개선되었다.
Injection molding simulation provided optimized design results by analyzing quality problems while the product is in assembly or in the process of manufacturing with make automobile plastics. Frequent change of design, change of injection molding, repetition of test injection which was held in the old way can now be stopped. And quality upgrade is expected instead. This report deals with the effect which the position of injection molding automobile console gate and number has on product quality including pressure at end of fill, bulk temperature at end of fill, shear stress of end of fill, residual stress at post filling end, product weld lines and warpage results. Simpoe-Mold simulates the complete manufacturing process of plastic injected parts, from filling to warpage. Simpoe-Mold users, whether they are product designers, mold makers or part manufacturers, can identify early into the design stage potential manufacturing problems, study alternative solutions and directly assess the impact of such part modification, whatever the complexity and geometry of such parts, shell part as plain solid parts.
플라즈마에 노출된 재료 표면의 온도 증가는 다음과 같은 요인에 의해서 결정된다. 이온의 충돌에 의한 역학적 에너지, 이온의 중성화, 라디칼의 안정화에 의한 에너지 방출(잠열, latent heat), 플라즈마에서 방출된 빛의 흡수. 이중 식각을 위한 기판 바이어스에 의해서 주로 결정되는 이온 충돌 에너지와 잠열의 방출이 300 mm wafer용 유도 결합 플라즈마 식각 장치에서 소스 전력과 바이어스 전력에 따라서 어떻게 변화하는지 전산 유체 역학 모사 프로그램인 CFD-ACE를 이용하여 상용 식각 장비인 AMAT사의 DPS II를 대상으로 온도 분포의 변화를 계산하였다. 실험 결과와 비교를 위하여 다섯 곳에(상, 하, 좌, 우, 중심) 열전대를 부착한 온도 측정 웨이퍼를 기판의 위치에 설치하고 여러 가지 실험 조건에 대해서 온도의 변화를 측정하였다. Ar 10 mTorr에서 2열 병렬 안테나의 전력을 300 W에서 시간에 따른 온도의 변화를 측정하였다. 이때 wafer의 평균 온도는 $28.9^{\circ}C$에서 $150^{\circ}C$까지 12분 내에 상승하였으며 최고 온도에 도달한 다음에는 거의 일정하게 유지 되었다. Si의 식각에서 온도의 영향을 가장 크게 받는 반응은 F 라디칼에 의한 Si의 직접 식각이며 Arrhenius 식의 형태로 표현하면 0.116*exp (-1250/T)의 형태로 된다. 문헌에 보고된 계수를 이용해서 $29^{\circ}C$의 식각 속도와 플라즈마에 의한 가열 최고 온도인 $150^{\circ}C$ 때의 값을 비교해보면 3.3배의 차이가 난다. 따라서 4%내의 식각 균일도를 목표로 하는 폴리 실리콘 게이트 식각 장비의 설계에서는 플라즈마에 의한 가열 불균일을 상쇄 할 수 있는 히터와 냉각 구조의 최적 설계가 필요하다.
본 논문에서는 가족 구성원들이 원하는 다양한 제어 단말을 통하여 위치에 상관없이 댁내의 정보가전을 제어하고 모니터링하기 위한 홈 네트워크 액세스 에이전트를 설계 구현한다. 제안되는 액세스 에이전트는 홈 게이트웨이(또는 홈 서버) 상에서 유무선 네트워크를 통합하고, 웹, PDA, 휴대폰 등과 같은 다양한 제어 단말을 사용하여 일관된 메시지 형식으로 홈 네트워크에 접근이 가능하도록 설계한다. 또한 액세스 에이전트의 동작 및 유용성 검증을 위해 다양한 제어 단말의 사용자 인터페이스를 설계하고, 이를 사용하여 접근 제어되는 홈 네트워크 테스트베드를 구현한다.
모든 물건에 컴퓨팅 기능과 통신 기능을 부가하여 사물과 사람의 위치와 공간 정보, 그리고 속성정보를 파악하게 함으로써, 인간의 생활에 협조적인 기능을 제공하는 센서 네트워크가 모든 정보기기와 함께 네트워크 상에 있는 서버에 항시 접속되어, 기기의 제어는 물론 원하는 서비스를 언제든지 받을 수 있는 환경을 제공하는 유비쿼터스 네트워크가 연구되고 잇다. 유비쿼터스 네트워크는 일상생활에 곳곳에 편재된 센서 및 컴퓨터들이 수집한 각종 환경 정보를 효과적으로 상호 공유하여 사용자 및 주변환경의 상황을 알아내고 그에 맞는 다양한 정보에 근거하여 자발적으로 서비스를 제공하고 있다. 특히, 유비쿼터스 네트워크는 IP 기반 유선 네트워크, 이동통신 네트워크, Ad-hoc 네트워크 등과 같은 기존 네트워크와 향후에 등장할 4세대 이동통신, 유무선 통합망 등이 하나로 연결되고 연동된다는 점에서 개념적인 네트워크이다. 그러나 유비쿼터스 네트워크를 사용함에 있어, 이론상의 연동 가능한 모듈 개수가 실 구현에 적용 할 때에 이론상에 미치지 못하는 문제점이 존재하고 있다. 그에 따른 적절한 해결책이 필요하기에, 본 논문에서는 유비쿼터스 네트워크의 객체 인식 기술과 센서 네트워크 기반 상황 인식 서비스 기술과, 유비쿼터스 서비스의 적용 분야를 정리하고, 데이터 통신을 위한 구조도를 제시한다.
이 논문에서는 NN 필터를 이용한 표적추적을 위한 최적의 신호 강도 및 표적 검출 문턱값을 구하였다. 이를 위하여 먼저 HYCA 방식을 이용하여 NN 필터의 추적성능을 예측할 수 있도록 하고, 이것에 기초하여 예측된 추적성능과 신호 강도 및 표적 검출 문턱값 사이의 관계를 나타내었다. 그리고 이러한 관계를 이용하여 다음과 같은 다양한 비용에 대한 최적 파라미터를 얻었다: (1)위치 추정 오차 분산 합을 최소화하는 최적의 표적 검출 문턱값 순열(sequence); (2)유효 게이트 면적 합을 최소화하는 최적의 표적 검출 문턱값 순열; (3)표적 신호 강도 합을 최소화하는 최적 표적 신호 강도 및 표적 검출 문턱값 순열.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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