산소 이온빔이 보조된 e-baem evporation증착법에 의해 상온에서 유리 기판위에 제조된 tin-doped indium oxide(ITO) 박막의 전기적 광학적 특성과 산소 이온빔의 조건 사이에 존재하는 상관관계에 대해서 연구하였다. ITO박막의 증착률이 고정된 상태에서 증착되는 ITO박막의 성질은 조사되는 이온의 flux 및 에너지에 의존하게 된다. 이온의 에너지는 이온 건의 grid에 걸리는 전압에 의해서, flux는 이온 건으로 유입되는 산소의 유량과 rf power에 의해서 조절될 수 있다. 본 실험에서는 증착변 수를 줄이기 위해서 ITO의 증착률과 rf power을 0.6A/sec, 100W로 각각 고정 시켰고, 이러한 조건에서 grid의 가속 전압을 400~2.1kV, 산소의 유업량을 3~10sccm으로 변화시켜가며 실험을 수행하였다. 유량 6sccm, 가속전압 2.1kV에서 최저 비저항 값인 $6.6{\times}l0^{-4}{\Omega}cm$와 90%의 광학적 투과성을 갖는 ITO 박막을 상온에서 증착할 수 있었다.
PTFE(polytetrafluoroethylene) 타겟을 RF 스퍼터링에 의하여 Si 기판과 슬라이드 글라스에 코팅하였다. PTFE의 기초 실험조건으로 타겟 건 파워, 공정시간, 압력 및 바이어스 파워를 변화시켰다. PTFE 필름의 특성은 조건별 두께를 비교하였고, 분광광도계에 의한 투과도를 측정하였다. PTFE의 발수 특성과 스퍼터링 공정 조건을 확인하고자 접촉각 측정을 실시하였다. 타겟 건의 파워 및 시간에 따라 증착속도의 차이가 있었으며, 광학적인 투과도에서도 변화가 있음을 알 수 있었다. 발수특성을 나타내는 PTFE의 스퍼터링에 의한 접촉각 측정을 통해 다양한 조건별 접촉각 특성을 확인하였다.
갈바륨 강판은 주로 건자재나 가전용으로 많이 사용되는 알루미늄-아연 합금도금강판이다. 최근 환경 규제로 인하여 아연도금강판의 후처리에 크롬이 배제되고 있는 추세에 힘입어, 가전용 갈바륨 강판에도 크롬프리 후처리제가 많이 사용되고 있는 추세이다. 반면에, 건자재용으로 사용되는 갈바륨 강판은 고내식성 및 내후성을 필요로 하여 크롬이 함유된 후처리제를 사용하고 있으며, 아직까지는 환경규제 대상으로 지정되어 있지 않다. 본 연구에서는 가전용 및 건재용 물성을 동시에 만족시킬 수 있는 통합형 크롬프리 갈바륨 강판을 개발하였다.
충남 아산시 아산테크노벨리 산업단지에 위치하고 있는 (주)영광YKMC. 반도체는 물론 항공기에 들어가는 첨단부품을 생산하고 있는 이곳은 산단 내에서도 남다른 유명세를 떨치고 있다. 가공에서부터 조립, 표면처리 등 제품 생산에 필요한 모든 과정을 한꺼번에 처리할 수 있는 공정 시스템을 갖추고 있기 때문이다. 일반적인 소규모 제조업체들이 하나의 공정에만 집중하는 것에 비해 (주)영광YKMC는 부품 생산 전문업체로서의 입지를 확고하게 구축하고 있는 것이다. 관련 기술의 특허 4건, 실용신안등록 12건 등 총 16개의 지식재산권을 보유하고 있다는 것에서 전문업체라는 수식어가 전혀 어색하지 않다. 특히 (주)영광YKMC의 장관섭 대표이사는 자난해 표면처리 직종에서 '대한민국명장'에 선정되면서 회사의 기술력을 널리 알리기도 했다. 이곳은 지역 안전인들 사이에서도 각별한 주목을 받고 있다. 근로자들의 마음을 보듬는 이른바 감성안전경영이 모범적으로 전개되고 있기 때문이다. 근로자들의 안전을 무엇보다 최우선으로 여기고 있는 장관섭 (주)영광YKMC 대표이사를 만나봤다.
"환기"는 생활용품 등으로부터의 오염물질 및 불특정 물질의 농도 저감이 가능하기 때문에 Sick House 대책으로서의 중요한 대책기술이다. 본 고에서는 집합주택을 대상으로 한 중앙공조 환기방식 및 배기 중앙 환기방식의 사례를 보여주고, 시스템의 구성기술과 오염물질의 농도 저감효과에 대해서 기술한다. 또한, 대표적인 오염물질인 포름알데히드의 건자재로 부터의 발산량은 온습도, 환기량 및 건자재의 표면적 비율 등의 영향인자에 따라 변화하므로, 필요 환기량은 이들의 영향요인을 고려하여야 한다는 것을 기술한다.
상용의 PVC가 갖는 소수 특성을 개선하기 위해 산소, 아르곤, 수소 이온의 이온 보조 반응법을 이용하여 표면의 친수성을 증대시키고 이때 친수성 증가의 직접적 원인인 표면에너지 증가를 각각의 이온조사에 따라서 비교하였다. 이온 소스는 직경 5-cm의 cold hollow cathod ion gun을 이용하였으며 산소, 아르곤, 수소이온을 이온 조사량 5$\times$1014~1$\times$1017ions/cm2까지 변화시키고 산소의 유량을 0~8sccm까지 변화시키면서 표면 에너지 변화를 관찰하였다. 표면 에너지는 두 가지의 극성 용매인 물과 포름아마이드의 접촉각을 정적 접촉각 측정기를 이용하여 측정한 후에 이로부터 dispersion force와 polar force를 계산하여 얻었다. 계산된 결과를 보면 처리 전과후의 dispersion force의 변화는 거의 없으나 polar force는 크게 증가하였다. 이때 표면 에너지의 증가는 표면 형상의 변화와 극성을 띠는 친수성기의 증가로 여겨지며 각각의 경우에 대한 분석을 위해 AFM과 XPS 분석을 시행하여 각각의 이온에 따르는 표면 형상의 변화와 친수성기의 형성 및 상대적인 양을 비교하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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