Process parameter dependent property studies on PTFE films prepared by RF magnetron sputtering

RF magnetron sputtering에 의한 PTFE 필름의 공정변수에 따른 특성 변화에 관한 연구

  • 송영식 (한국생산기술연구원 뿌리산업연구부문) ;
  • 이효수 (한국생산기술연구원 뿌리산업연구부문) ;
  • 김종렬 (한양대학교 금속재료공학과)
  • Published : 2012.05.31

Abstract

PTFE(polytetrafluoroethylene) 타겟을 RF 스퍼터링에 의하여 Si 기판과 슬라이드 글라스에 코팅하였다. PTFE의 기초 실험조건으로 타겟 건 파워, 공정시간, 압력 및 바이어스 파워를 변화시켰다. PTFE 필름의 특성은 조건별 두께를 비교하였고, 분광광도계에 의한 투과도를 측정하였다. PTFE의 발수 특성과 스퍼터링 공정 조건을 확인하고자 접촉각 측정을 실시하였다. 타겟 건의 파워 및 시간에 따라 증착속도의 차이가 있었으며, 광학적인 투과도에서도 변화가 있음을 알 수 있었다. 발수특성을 나타내는 PTFE의 스퍼터링에 의한 접촉각 측정을 통해 다양한 조건별 접촉각 특성을 확인하였다.

Keywords