A study of dry cleaning for metallic contaminants on a Silicon wafer using UV-excited chlorine radicals (UV-excited Chlorine radical을 이용한 실리콘 웨이퍼상의 금속 오염의 건식세정에 관한 연구)
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- Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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- 1996.02a
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- pp.144-144
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- 1996