A study of dry cleaning for metallic contaminants on a Silicon wafer using UV-excited chlorine radicals

UV-excited Chlorine radical을 이용한 실리콘 웨이퍼상의 금속 오염의 건식세정에 관한 연구

  • 손동수 (울산대학교 재료공학과) ;
  • 황병철 (울산대학교 재료공학과) ;
  • 조동율 (울산대학교 재료공학과) ;
  • 천희곤 (울산대학교 재료공학과)
  • Published : 1996.02.01