Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.39
no.12
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pp.1033-1044
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2002
In this Paper, a new FRAM design technique utilizing grounded-plate PMOS-gate (GPPG) ferroelectric cell is proposed. A GPPG cell consists of a PMOS access transistor and a ferroelectric data storage capacitor. Its plate is grounded. The proposed architecture employs three novel methods for cell operation: 1) $V_{DD}$ -precharged bitline, 2) negative-voltage wordline technique and 3) negative-pulse restore. Because this configuration doesn't need the plate control circuitry, it can greatly increase the memory cell efficiency. In addition, differently from other reported common-plate cells, this scheme can supply a sufficient voltage of $V_{DD}$ to the ferroelectric capacitor during detecting and storing the polarization on the cell. Thus, there is no restriction on low voltage operation. Furthermore, by employing a compact column-path circuitry which activates only needed 8-bit data, this architecture can minimize the current consumption of the memory array. A 4- Mb FRAM circuit has been designed with 0.3-um, triple-well/1-polycide/2-metal technology, and the possibility of the realization of GPPG cell architecture has been confirmed.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2018.06a
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pp.122-122
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2018
1. 배경 최근 IoT 기술이 발전함에 따라 각종 전자기기에 들어가는 센서들이 점점 늘어나고 있다. 특히 사용자 중심의 기기들은 기술이 발전함에 따라 집적화가 이루어지면서, 하나의 기기에서 온도, 습도, 조도 등의 다양한 정보를 처리하고 있다. 이에 따라 더 많은 기능을 사용하기 위해, 소모 전력 또한 점차 증가하고 있다. 그러나 부피는 한정되어 있어, 기존 배터리만으로는 증가하는 소모 전력을 모두 보완하기 어렵다. 또한 대표적인 사용자 중심 기기인 스마트폰에서는, 가장 많은 전력을 소모하는 부분이 점점 커지고 있다. 이에 대한 대책으로 버려지는 에너지를 수확하여 전기적인 에너지로 바꿔주는 에너지 하베스팅 기술이 각광을 받고 있다. 에너지 하베스팅 기술은 바람, 진동, 인체의 움직임 등의 기계적 에너지, 태양광, 실내등의 빛 에너지를 전기적인 에너지로 바꿔주는 기술을 말한다. 본 연구에서는 강유전체 고분자 내부에 양자점이 임베딩된 박막을 이용하여, 스마트폰에서 발생하는 빛 에너지와 손가락으로 디스플레이를 터치할 때 발생하는 기계적인 에너지를 모두 수확할 수 있는 새로운 소자를 제시하였다. 소자 내부에 있는 양자점은 빛 에너지를 산란 혹은 흡수하여 발광한 후, 고분자 내부의 전반사를 통해 양 옆에 있는 태양전지로 빛을 전달한다. 또한 컴포짓의 매트릭스를 이루고 있는 강유전체 폴리머인 P(VDF-TrFE)는 강유전 특성을 통해 마찰전기 에너지를 효율적으로 전기 에너지로 전환할 수 있다. 강유전체 특성에 의해 P(VDF-TrFE) 내부에 정렬된 Polarization은 퀀텀닷에 양자구속 스타크 효과(Quantum Confined Stark Effect)를 일으켜 더 긴 파장을 방출한다. 이렇게 바뀐 파장은 실리콘 태양전지에서 더 많이 흡수할 수 있는 영역으로 방출되어 태양전지 출력의 증가를 일으킨다. 마지막으로 실리콘 태양전지의 출력 증가를 보여줌으로써 이를 실험적으로 입증했다.
Pyroelectric infrared detectors based on La-modified $PbTiO_{3}$ (PLT) thin films have been fabricated by RF magnetron sputtering and rnicrornachining technology. The detectors form $Pb_{l-x}La_{x}Ti_{1-x/4}O_{3}$ (x=0.05) thin film ferroelectric capacitors epitaxially grown by RF magnetron sputtering on Pt/MgO (100) substrate. The sputtered PLT thin film exhibits highly c-axis oriented crystal structure that no poling treatment for sensing applications is required. This is an essential factor to increase the yield for realization of an infrared image sensor. Micromachining technology is used to lower the thermal mass of the detector by giving maximum sensor efficiency. Polymide is coated on top of the sensing elements to support the fragile structure and the backside of the MgO substrate is selectively etched to reduce the heat loss. The sensing element exhibited a very high detectivity D* of $8.5{\times}10^{8}cm{\cdot}\sqrt{Hz}/W$ at room temperature and it is about 100 times higher than the case of micromachining technology is not used. A sensing system that detects the position as well as the existence of a human body is realized using the array sensor.
Kim, Yong-Tae;Yun, Gi-Hyeon;Kim, Tae-Hui;Park, Gyeong-Bong
Korean Journal of Materials Research
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v.9
no.10
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pp.1032-1036
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1999
The electron emission and degradation of the ferroelectric Pb($\textrm{Zr}_{0.5}\textrm{Ti}_{0.5}$)$\textrm{O}_3$ ceramics by the pulse electric field have been investigated as a function of the upper electrode diameter. Polarization increased with the decrease of the upper electrode diameter due to the increase of the volume fraction participated in the polarization reversal near the electrode edge. Simulation using ANSYS 5.3 for the electric field distribution showed that the electric field increased near the upper electrode edge of the asymmetric electrode structure. The ferroelectric volume near the upper electrode edge which contributed to the increase of the polarization and the emission charge per electrode diameter were independent on the upper electrode diameter. Polarization and dielectric constant were decreased due to the erosion of the upper electrode with repeating the emission cycles, but they were recovered by the electrode regeneration. The degradation of the ferroelectric surface resulted in the increase of the coercive field and dielectric loss.
In this work, we developed P(VDF-TrFE) organic/ferroelectric material based metal-ferroelectric-metal (MFM) capacitors in order to improve the switching characteristics of gallium nitride (GaN) heterojunction field-effect transistors (HFET). The 27 nm-thick P(VDF-TrFE) MFM capacitors exhibited about 60 ~ 96 pF capacitance with a polarization density of $6{\mu}C/cm^2$ at 4 MV/cm. When the MFM capacitor was connected in series with the gate electrode of GaN HFET, the subthreshold slope decreased from 104 to 82 mV/dec.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.7
no.4
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pp.730-735
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2003
In this paper, four different types of BSTO tunable bandpass filters with ferroelectrics are proposed. The achievement of the tunability is based on the fact that the increase in the bias voltage leads to the reduction of the effective dielectric constant. Therefore, the center frequency shifts to the higher value with the higher bias voltage. The most frequently used and well-known ferroelectrics are STO and BSTO materials where the STO is mainly used below 100K while the BSTO is used at room temperature. The proposed technology seems very useful and promising for the development of the next-generation wireless communications.
Power saving module which is consisted of ferroelectric ceramic capacitor and time delay switching circuit was installed into electronic ballast in order to enhance energy efficacy and extend life time of fluorescent lamp. The impedance matching of negative resistance characteristics of F/L was optimized with the characteristics of ferroelectric ceramics capacitor to increase the light efficiency of the electronic ballast. The high efficiency of the electronic ballast was achieved by minimizing wasted power at the filament of F/L during the lighting by using the switching function of time delay circuit from preheating mode to non-preheating mode. The life time of F/L was also extended by eliminating the reverse electromotive force using time delay circuits to minimize the impacts to the filament of F/L from unwanted high voltage peaks during light-up period. As the results, the electronic ballast with the first grade energy efficiency was developed using ferroelectric ceramics and time delay module.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1999.05a
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pp.17-20
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1999
The retention and fatigue properties of ferroelectric LiNbO$_3$ thin films were studied. Metal-ferroelectric-semiconductor(MFS) devices by using rapid thermal annealed LiNbO$_3$/Si structures were successfully fabricated and demonstrated nonvolatile memory operations of the MFS devices. The I$_{D}$-V$_{G}$ characteristics of MFSFET\`s showed a hysteresis loop due to the ferroelectric nature of the LiNbO$_3$ thin film. The ferroelectric capacitors showed practically no polarization degradation up to about 10$^{10}$ switching cycles when subjected to symmetric bipolar voltage pulse (peak-to-peak 6V, 50% duty cycle) in the 500kHz. The retention properties of the LiNbO$_3$ thin films were quite good up to about 10$^{3}$ s . s .
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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2003.10a
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pp.537-541
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2003
The a-Si:H TFTs using ferroelectric of SrTiO$_3$, as a gate insulator is fabricated on glass. Dielectric characteristics of ferroelectric is better than SiO$_2$, SiN. Ferroelectric increases ON-current, decreases threshold voltage of TFT and also breakdown characteristics. The a-Si:H deposited by PECVD shows absorption band peaks at wavenumber 2,000 $cm^{-1}$ /, 635 $cm^{-1}$ / and 876 $cm^{-1}$ / according to FTIR measurement. Wavenumber 2,000 $cm^{-1}$ /, 635 $cm^{-1}$ / are caused by stretching and rocking mode SiH1. The wavenumber of weaker band, 876 $cm^{-1}$ / is due to SiH$_2$ vibration mode. The a-SiN:H has optical bandgap of 2.61 eV, refractive index of 1.8 - 2.0 and resistivity of 10$^{11}$ - 10$^{15}$ aim respectively. Insulating characteristics of ferroelectric is excellent because dielectric constant of ferroelectric is about 60 - 100 and breakdown strength is over 1 MV/cm. TFT using ferroelectric has channel length of 8 - 20 $\mu$m and channel width of 80 - 200 $\mu$m. And it shows drain current of 3 $\mu$A at 20 gate voltages, Ion/Ioff ratio of 10$^{5}$ - 10$^{6}$ and Vth of 4 - 5 volts.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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