• 제목/요약/키워드: $TiO_2/Al$

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$BaTiO_3/SiO_2$로 구성된 안티퓨즈의 전기적 특성 (An Electrical Properties of Antifuses based on $BaTiO_3/SiO_2$ films)

  • 이영민;이재성;이용현
    • 센서학회지
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    • 제7권5호
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    • pp.364-371
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    • 1998
  • Field programmable gate array (FPGA)의 전압 프로그램 요소(voltage programmable link)로써 사용될 새로운 안티퓨즈를 제조하였다. 제조된 안티퓨즈는 Al/$BaTiO_3/SiO_2$/TiW-실리사이드 구조를 갖는다. 안티퓨즈의 프로그램 전압은 $BaTiO_3$의 증착 두께를 조절함으로써 정확하게 조절할 수 있었다. $BaTiO_3(120{\AA})$/$SiO_2(120{\AA})$의 안티퓨즈에서 TiW-실리사이드 전극에 (-)극성을 인가하여 측정된 프로그램 전압은 14.4 V였으며, on-저항은 $40-50{\Omega}$의 값을 갖는다. 안티퓨즈의 전류-전압 특성은 Frenkel-Poole 전도 기구를 따르고 있으며, 그 특성은 인가 전압의 극성에 따라 차이를 보였다. 이것은 Al/$BaTiO_3$계면과 TiW-silicide/$SiO_2$계면 특성이 다르기 때문이다.

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브레이징 온도 변화에 따른 $ZrO_2$와 Ti-6Al-4V의 접합 특성 (Brazing characteristics of $ZrO_2$ and Ti-6Al-4V brazed joints with increasing temperature)

  • 기세호;박상윤;허영구;정재필;김원중
    • 대한치과보철학회지
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    • 제50권3호
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    • pp.169-175
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    • 2012
  • 연구 목적: 온도 변화에 따른 $ZrO_2$와 Ti-6Al-4V의 접합 특성에 대해 알아보기 위하여 새로운 브레이징 합금을 제조하고, 브레이징 온도가 접합 특성에 미치는 영향에 대하여 조사하고자 하였다. 연구 재료 및 방법: 본 연구에서 사용된 시편으로는 실험용 $ZrO_2$ 모재(ZirBlank-PS, Acucera, Inc., Gyeonggi-do, Korea)는 소결 전의 블록형태($65mm{\times}36mm{\times}12mm(t)$)이며, 이를 잘라 사포(#2400)로 표면연마 후 소결하였다. 소결된 $ZrO_2$ 시편의 크기는 $3mm{\times}3mm{\times}3mm(t)$이다. Ti-6Al-4V 모재(Ti 6Al 4V ELI CG Bar, TMS, Washington, USA)는 직경 $10mm{\times}5mm(t)$를 사용하였다. 소결된 $ZrO_2$와 Ti-6Al-4V의 접합을 위하여 브레이징 합금을 제조하였다. 시편을 3군으로 나누어 A군은 $700^{\circ}C$에서, B군은 $750^{\circ}C$에서, C군은 $800^{\circ}C$에서 각각 브레이징 하였다. 브레이징 부의 두께와 결함율의 측정은 각 군당 하나의 시편으로 각 시편 당 5회씩 반복 측정하여 평균값을 취하였다. 결과: 브레이징 합금을 사용하여 진공 브레이징을 수행한 결과 $ZrO_2$ 와 Ti-6Al-4V 는 $700^{\circ}C-800^{\circ}C$에서 양호한 접합을 보였다. 브레이징 후 브레이징 온도 변화에 따른 브레이징 부의 두께 및 결함율의 변화는 SEM을 사용하여 측정하였다. 브레이징 온도가 $700^{\circ}C$에서 $800^{\circ}C$로 증가함에 따라 CuTi 금속간 화합물 층 및 Ti-Sn-Cu-Ag계 화합물 층의 두께는 각각 $4.5{\mu}m$에서 $10.3{\mu}m$로, $3.1{\mu}m$에서 $5.0{\mu}m$로 증가되었다. 또한 브레이징 온도가 $700^{\circ}C$에서 $800^{\circ}C$로 증가함에 따라 브레이징 접합계면의 결함율은 $ZrO_2$ 및 Ti-6Al-4V 계면에서 각각 25%에서 16.3%, 5%에서 1.5%로 감소되었다. 결론: 브레이징 온도가 $700^{\circ}C$에서 $800^{\circ}C$로 증가됨에 따라, 브레이징 접합계면의 결함율은 $ZrO_2$ 및 Ti-6Al-4V 계면에서 모두 감소되었다. 이는 결함부에서 $ZrO_2$와 활성원소인 Ti과의 반응이 충분히 일어나지 않아서 브레이징 합금이 $ZrO_2$에 웨팅되지 않은 것이 원인이라고 사료된다.

원자력 중간열교환기 열수송계 소재의 표면처리 (Surface Treatment of IHX Materials for VHTR)

  • 이병우;이명훈;방광현
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2012년도 추계총회 및 학술대회 논문집
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    • pp.35-50
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    • 2012
  • $900^{\circ}C$이상 초고온 He-gas 분위기 또는 용융불화염 (molten salts, FLINAK) 환경에서 사용될 VHTR(Very High Temperature Reactor)의 IHX(Intermediate heat exchanger)용 열수송 구조재료로 가장 가능성이 높은 합금인 Inconel 617 및 Hastelloy X 상에 습식화학적, 물리적기상합성법(Vacuum arc-plasma과 RF magnetron sputtering) 및 pack cementation에 의한 표면개질 및 마이크로 초내열(refractory ceramics) 코팅층(TiN, TiCN, TiAlN, $Al_2O_3$, $TiO_2$)을 형성시켰다. 고온 장기사용 시 문제가 될 수 있는 고온에서의 조직변화, 미세구조와 상(phase)형성, 고온 부식 및 그에 따른 마모(wear resistance) 손상 등 이들 소재의 내열, 내식 및 내마모 물성을 개선하는 연구를 수행하였다. TiAlN 박막의 경우 공기분위기에서 N이 분해되나 치밀한 산화물($TiO_2/Al_2O_3$ layer)을 형성하여 내식성 있는 보호피막을 형성함으로 기판과의 열팽창 계수로 인한 박리가 발생하지 않아 보호피막으로 적합하였다. Pack cementation법에 의한 aluminiding(Al-Ni합금)도 He 및 공기분위기에서 고온물성의 저하를 가져오는 $Cr_2O_3$의 생성을 충분히 억제하고 있었으며 He 및 air 분위기에서 사용이 가능한 박막으로 여겨진다. 내열 및 내식성에 대한 실험을 종합한 결과, 공기분위기에서 사용할 수 없는 박막은 He-gas 및 FLINAK(LiF-NaF-KF) 용융염 분위기에서도 사용할 수 없었으며, He-gas, FLINAK 및 air 분위기에서 모두 사용이 가능한 박막으로는 Inconel 617에서는 $(TiO_2-)Al_2O_3$, TiAlN 및 Al-Ni이었고 Hastelloy에서는 Al-Ni 및 $Al_2O_3$가 가장 적당하였다.

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SULFIDATION PROCESSING AND Cr ADDITION TO IMPROVE OXIDATION RESISTANCE OF Ti-Al INTERMETALLIC COMPOUNDS AT ELEVATED TEMPERATURES

  • Narita, Toshio;Izumi, Takeshi;Yatagai, Mamoru;Yoshioka, Takayuki
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 1999년도 춘계학술발표회 초록집
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    • pp.5-5
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    • 1999
  • A novel process is proposed to improve oxidation resistance of Ti-Al intermetallic compounds at elevated temperatures by both Cr addition and pre-sulfidation, where TiAl alloys withlor without Cr addition were sulfidized at 1173K for 86.4ks at a 1.3 Pa sulfur partial pressure in a $H_2-H_2S$ gas mixture. The pre-sulfidation treatment formed a thin Cr-Al alloy layer as well as 7~10 micrometer $TiAl_3$ and $TiAl_2$ layer, due to selective sulfidation of Ti. Oxidation resistance of the pre-sulfidation processed TiAl 4Cr alloy was examined under isothermal and heat cycle conditions between room temperature and 1173K in air. Changes in $TiAl_3$ into $TiAl_2$ and then TiAl phases as well as their effect on oxidation behavior were investigated and compared with the oxidation behavior of the TiAl-4Cr alloy as TiAl and pre-sulfidation processed TiAl aHoys. After oxidation for up to 2.7Ms a protective $Al_2O_3$ scale was formed, and the pre-formed $TiAl_3$ changed into $TiAl_2$ and the $Al_2Cr$ phase changed into a CrAlTi phase between the $Al_2O_3$ scale and $TiAl_2$ layer. The pre-sulfidation processed TiAl-4Cr alloy had very good oxidation resistance for longer times, up to 2.7 Ms, in contrast to those observed for the pre-sulfidation processed TiAl alloy where localized oxidation occurred after 81 Oks and both the TiAl and TiAl-4Cr alloys themselves corroded rapidly from the initial stage of oxidation

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반투명 태양전지용 Al-Ti계 산화물 박막의 반사율 특성 개선에 관한 연구 (Study on Reflectance Improvement of Al-Ti Based Oxide Thin Films for Semitransparent Solar Cell Applications)

  • 이은규;정소운;방기수;이승윤
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제31권7호
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    • pp.437-442
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    • 2018
  • This work reports the preparation of Al-Ti based oxide thin films and their optical properties. Although the transmittance of a $TiO_2/Al2O_3$ bilayer structure was as high as 90% at wavelengths of 600 nm or larger, the reflectance of the bilayer reached its minimum at wavelengths of around 360 nm. The transmittance of an 89-nm-thick $TiO_2$ thin film rapidly increased and then decreased at a critical wavelength because of destructive interference. The wavelength corresponding to the reflectance minimum increased after an increase in $TiO_2$ film thickness. The smooth surface morphology of the AlTiO thin film was retained up to a film thickness of 65 nm, and the transmittance of the film was inversely proportional to film thickness, in accordance with the general tendency for optical films. The reflectance of the AlTiO film at visible light wavelengths was lower than that of the $TiO_2$ film, which implies that the AlTiO film is suitable for applications as an optical thin film layer in semitransparent solar cells.

EFFECT OF ALUMINIDE-YTTRIUM COMPOSITE COATING ON THE OXIDATION RESISTANCE OF TiAl ALLOY

  • Jung, Hwan-Gyo;Kim, Jong-Phil;Kim, Kyoo-Young
    • 한국표면공학회지
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    • 제29권6호
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    • pp.607-614
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    • 1996
  • Yttrium(Y) coating was incorporated by ion-plating method either directly on the TiAl substrate or after pack aluminizing on TiAl to improve the oxidation resistance of TiAl alloy. After Y-coating, heat treatment at low oxygen partial pressure was carried out. Performance of various coating was evaluated by isothermal and cyclic oxidation tests. A simple Y-coating without pack aluminizing can give a detrimental effect on the. oxidation resistance of TiAl alloy, because it enhances formation of $TiO_2$. On the other hand, a composite coating of aluminide-yttrium has shown excellent oxidation resistance. A continuous protective $Al_2O_3$ scale is formed on the aluminized TiAl, and Y-coating improves $Al_2O_3$ scale adherence and substantially prevents depletion of Al in the aluminide-coating layer.

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플라즈마 원자증착기술과 원자증착기술 제작된 $TiO_2-Al_2O_3$(core-shell)입자의 염료감응태양전지 광전극 특성 비교

  • 강고루;차덕준;김진태;윤주영
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.117-117
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    • 2013
  • 염료감응태양전지의 효율을 높이기 위해서, 광전극으로 쓰이는 다공성 $TiO_2$ 후막에 플라즈마원자증착기술(PEALD)과 원자증착기술(ALD)을 이용하여 알루미나($Al_2O_3$)막을 3차원적으로 균일하고 매우 얇게 형성하였다. 이를 통해서 태양빛에 의해 여기된 염료의 전자가 알루미나를 통과(tunneling)하여 $TiO_2$ 전도대로 도입되게 함과 동시에 $TiO_2$ 전도대로 도입된 전자들이 전해질과 염료로 재결합하는 현상을 방지하였다. 결국 이러한 작용에 의해서 염료감응태양전지의 개방전압을 높이는 효과를 관측하였다. 나아가 PEALD와 ALD 두가지 방식으로 형성된 $Al_2O_3$ 껍질층의 특성 차이를 비교 관찰하고 이에 따른 염료감응태양전지의 소자 특성에 미치는 영향을 고찰하였다.

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금속 알콕사이드의 가수분해법으로 제조한 Al2O3-TiO2 복합옥사이드의 Co2+ 흡착 특성에 관한 연구 (Co2+ Adsorption Characteristics of Al2O3-TiO2 Composite Oxide Prepared by Hydrolysis of Metal Alkoxide)

  • 류재춘;양현수;김유환;성기웅;김용익
    • 공업화학
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    • 제7권6호
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    • pp.1192-1203
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    • 1996
  • 알루미늄 및 티타늄 알콕사이드의 가수분해방법을 인용하여 고온수중에 적용할 수 있는 $Al_2O_3-TiO_2$ 복합옥사이드형 흡착제를 제조하였다. 제조한 흡착제는 $600{\sim}1400^{\circ}C$의 온도로 하소되었으며, 결정전이, 열적 특성, 비표면적 등의 물성변화를 알아 보기 위하여 X선회절, 적외선분광분석, 열분석 전자현미경 관찰, BET 방법에 의한 측정 등을 수행하였다. 그리고 Autoclave를 이용한 회분식 흡착실험으로 이 흡착제들의 $TiO_2$ 함량 및 하소 온도 변화에 따르는 고온수중에서의 $Co^{2+}$ 흡착 특성을 알아 보았다. $150{\sim}250^{\circ}C$의 온도 범위에서 $Al_2O_3-TiO_2$ 흡착제의 $Co^{2+}$ 흡착반응에 대한 표준 엔탈피 변화값은 $TiO_2$ 함량이 26mol%, 43mol%, 80mol%에 대하여 $16.5{\sim}26.0kJ{\cdot}mol^{-1}$범위에 있었으며, 이 흡착반응이 비가역적인 흡열반응임을 알 수 있었다. $250^{\circ}C$의 고온수에서 하소 온도가 $600^{\circ}C$, $TiO_2$함량이 26mol%인 흡착제의 코발트 평형흡착용량은 $0.1674meq{\cdot}g^{-1}$이었다.

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고주파 유도 가열에 의한 나노구조 Mg4Al2Ti9O25 합성 및 소결과 기계적 성질 (Synthesis and Sintering of Nanostructured Mg4Al2Ti9O25 by High-Frequency Induction Heating and Its Mechanical Properties)

  • 강현수;도정만;윤진국;손인진
    • 한국재료학회지
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    • 제24권2호
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    • pp.67-72
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    • 2014
  • Nanocrystalline materials have received much attention as advanced engineering materials with improved physical and mechanical properties, including high strength, high hardness, excellent ductility and toughness. In this study, nanopowders of $Al_2O_3$, MgO and $TiO_2$ were prepared as starting materials by high energy ball milling for the simultaneous synthesis and sintering of the nanostructured compound $Mg_4Al_2Ti_9O_{25}$ by high-frequency induction heating process. The highly dense nanostructured $Mg_4Al_2Ti_9O_{25}$ compound was produced within one minute by the simultaneous application of 80MPa pressure and induced current. The sintering behavior, grain size and mechanical properties of the $Mg_4Al_2Ti_9O_{25}$ compound were evaluated.