• Title/Summary/Keyword: $Theta^*$

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Structural and Electrical Properties of Fluorine-doped Zinc Tin Oxide Thin Films Prepared by Radio-Frequency Magnetron Sputtering

  • Pandey, Rina;Cho, Se Hee;Hwang, Do Kyung;Choi, Won Kook
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.335-335
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    • 2014
  • Over the past several years, transparent conducting oxides have been extensively studied in order to replace indium tin oxide (ITO). Here we report on fluorine doped zinc tin oxide (FZTO) films deposited on glass substrates by radio-frequency (RF) magnetron sputtering using a 30 wt% ZnO with 70 wt% SnO2 ceramic targets. The F-doping was carried out by introducing a mixed gas of pure Ar, CF4, and O2 forming gas into the sputtering chamber while sputtering ZTO target. Annealing temperature affects the structural, electrical and optical properties of FZTO thin films. All the as-deposited FZTO films grown at room temperature are found to be amorphous because of the immiscibility of SnO2 and ZnO. Even after the as-deposited FZTO films were annealed from $300{\sim}500^{\circ}C$, there were no significant changes. However, when the sample is annealed temperature up to $600^{\circ}C$, two distinct diffraction peaks appear in XRD spectra at $2{\Theta}=34.0^{\circ}$ and $52.02^{\circ}$, respectively, which correspond to the (101) and (211) planes of rutile phase SnO2. FZTO thin film annealed at $600^{\circ}C$ resulted in decrease of resistivity $5.47{\times}10^{-3}{\Omega}cm$, carrier concentration ~1019 cm-3, mobility~20 cm2 V-1s-1 and increase of optical band gap from 3.41 to 3.60 eV with increasing the annealing temperatures and well explained by Burstein-Moss effect. Change of work function with the annealing temperature was obtained by ultraviolet photoemission spectroscopy. The increase of annealing temperature leads to increase of work function from ${\phi}=3.80eV$ (as-deposited FZTO) to ${\phi}=4.10eV$ ($600^{\circ}C$ annealed FZTO) which are quite smaller than 4.62 eV for Al-ZnO and 4.74 eV for SnO2. Through X-ray photoelectron spectroscopy, incorporation of F atoms was found at around the binding energy of 684.28 eV in the as-deposited and annealed FZTO up to 400oC, but can't be observed in the annealed FZTO at 500oC. This result indicates that F atoms in FZTO films are loosely bound or probably located in the interstitial sites instead of substitutional sites and thus easily diffused into the vacuum from the films by thermal annealing. The optical transmittance of FZTO films was higher than 80% in all specimens and 2-3% higher than ZTO films. FZTO is a possible potential transparent conducting oxide (TCO) alternative for application in optoelectronics.

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PECVD와 고상결정화 방법을 이용한 poly-SiGe 박막의 제조

  • 이정근;이재진
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 1998.02a
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    • pp.55.2-55
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    • 1998
  • 다견정 심리판-거l르마늄(JXlly-SiGe)은 TFT(thin-film transistor)와 갇븐 소자 응용에 있어서 중요한 불칠이다 .. LPCVD (low pressure chemical vapor deposition) 방법으로 비정칠 SiGc (a-SiGe) 박막올 증 착시키고 고상결정화(SPC: solid-phase crystallization)시켜 poly-SiGc옹 얻는 것은 잘 알려져 있다. 그러 나 그러나 PF'||'&'||'pound;VD-SPC 방법올 이용한 poly-SiGc의 제조에 대해서는 아직 두드러지게 연구된 바 없다. 우리단 PF'||'&'||'pound;VD 방법으로 a-SiGc 박막올 증착시키고 고상캘정화시켜 poly-SiGc올 얻었 R며, :~ 결정성, G Gc 농도, 결정핍의 평끌 크기 눔올 XRD (x-ray diffraction) 방법으호 조사하였다. 특히 pr'||'&'||'pound;VD 증착시 가판온도,Gc 함유량 등이 고상화에 미치는 영향에 대해서 조사하였다. P PECVD 장치는 터보펌프콸 사용하여 71저진공이 2xlOlongleftarrow5 Torr에 이르렀다. 가판윤 SiOOO) 웨이퍼륜 사용하고 기판 온도는 약 150- 35()"C 사이에서 변화되었다. 증착가스는 SiH4, GcH4, 112 등흘 썼다. 증착 압력과 r.f 전력용 각각 O.25ToIT와 3W로 일정하게 하였다 .. Gc 함유량(x)은 x x=O.O-O.5 사이에서 변화되었다 .. PECVD모 증착된 SiGc 박막들은 고상결정화를 위해 $\theta$X)"(:: Nz 분위기에서 24시간동안, 혹은 5OO'C에서 4열간 가열되었다. 고상결정화 후 poly-SiGc 박막은 SiGc(Ill), (220), (311) XRD 피크들올 보여주었으며, 각 피 크들은 poly-Si에 비하여 왼쪽으로 Bragg 각이 이동되었고, Vegard’slaw에 의해서 x의 값올 확 인할 수 있었다. 이것온 RBS 결과와 열치하였다. 약 150-350'C 사이에서 변화된 기판온도의 범위 에서 증착온도가 낮올수콕 견정립의 크기는 대체로 증가하는 것으로 나타났다 .. XHD로 추정된 형 균 결정립의 크기는 최대 약 3$\alpha$1m 정도였다. 또한 같끈 샘플뜰에 대해서 기판온도가 낮올수록 증착속도가 증가함옴 확인하였다 .. Gc 함유량이 x=O.1에서 x=O.5로 증가함에 따라서도 결정립의 크기와 SiGc 증착속도는 증가하는 것으로 나타났다 .. Hwang [1] , Kim[2] 둥의 연구자들은 Gc 함유 량이 증가함에 따라 결정 립 크기가 캄소하는 것올 보고하였으냐, Tsai [3] 둥은 반대의 결과플 보 고하고 Ge 힘유량의 증가시 결정립 크기의 증가에 대해 Gc의 Si보다 낮은 융점 (melting point) 올 강조한 바 있다. 결정립 크기의 증가는 대체로 SiGe 중착속도의 증가와도 관련이 있음올 볼 때, poly-SiGc의 경우에도 polv-Si의 고상화에서와 같이 증착속도가 빠를수록 최종적언 결정럽의 크기가 커지는 것으로 이해될 수도 있다 .. PECVD 증착시 증착속도의 증가는 증착된 박딱에서의 무켈서도를 증 가시킬 수 있음올 고려하면, 이라한 결파플온 p이y-SiGc의 고상결정화에서도 ploy-Si의 고상결정 화에서와 마찬가지로 초기 박막에서의 구조직 무절서도가 클수록, 고상결정화 후 결정 립의 크기 가 커칠 수 있음올 보여준다고 생각휠 수 있다,

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Crystalline Structure of the Extrudate of High Amylose Corn Starch (압출성형 고아밀로즈 옥수수전분의 결정 구조)

  • Kim, Ji-Yong;Lee, Cherl-Ho
    • Korean Journal of Food Science and Technology
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    • v.30 no.5
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    • pp.1024-1028
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    • 1998
  • Crystalline structure of the extrudate of high amylose corn starch was studied by X-ray diffractometer and $^{13}C\;NMR$. The X-ray diffraction crystal ratio of the extrudates (barrel temperature $100^{\circ}C$ )of high amylose corn starch slightly increased from 6.08% to 8.37% by increasing feed moisture content from 25% to 45%. But extrudates of high amylose corn starch showed similar crystal ratio on various extrusion conditions. Extrudates of high amylose corn starch (feed moisture content 20%, barrel temp $140^{\circ}C$) showed more enlarged crystal structure than that of non-extrudates. The perpendicular distance of crystal increased by extrusion. Crystal ratio was changed from $6.3{\sim}8.3%$ to $4.5{\sim}5.8%$ during storage at $4^{\circ}C$. Starch configuration was examined with $^{13}C\;NMR$. Double helical content was measured by $^{13}C\;NMR$ method. The highest double helical content (60%) was obtained from high amylose corn starch extrudate (barrel temp.: $100^{\circ}C$, feed moisture content 45%). Double helical contents and resistant starch (RS) yield (pancreatin) were positively correlated. However, double helical content of the extrudates was not changed by the storage at $4^{\circ}C$.

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Growth and Electrical Properties of ZnAl2Se4 Single Crystal Thin Film by Hot Wall Epitaxy (Hot Wall Epitaxy(HWE)법에 의한 ZnAl2Se4 단결정 박막 성장과 가전자대 갈라짐에 대한 광전류 연구)

  • Park, Hyangsook;Bang, Jinju;Lee, Kijung;Kang, Jongwuk;Hong, Kwangjoon
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.23 no.12
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    • pp.714-721
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    • 2013
  • A stoichiometric mixture of evaporating materials for $ZnAl_2Se_4$ single-crystal thin films was prepared in a horizontal electric furnace. These $ZnAl_2Se_4$ polycrystals had a defect chalcopyrite structure, and its lattice constants were $a_0=5.5563{\AA}$ and $c_0=10.8897{\AA}$.To obtain a single-crystal thin film, mixed $ZnAl_2Se_4$ crystal was deposited on the thoroughly etched semi-insulating GaAs(100) substrate by a hot wall epitaxy (HWE) system. The source and the substrate temperatures were $620^{\circ}C$ and $400^{\circ}C$, respectively. The crystalline structure of the single-crystal thin film was investigated by using a double crystal X-ray rocking curve and X-ray diffraction ${\omega}-2{\theta}$ scans. The carrier density and mobility of the $ZnAl_2Se_4$ single-crystal thin film were $8.23{\times}10^{16}cm^{-3}$ and $287m^2/vs$ at 293 K, respectively. To identify the band gap energy, the optical absorption spectra of the $ZnAl_2Se_4$ single-crystal thin film was investigated in the temperature region of 10-293 K. The temperature dependence of the direct optical energy gap is well presented by Varshni's relation: $E_g(T)=E_g(0)-({\alpha}T^2/T+{\beta})$. The constants of Varshni's equation had the values of $E_g(0)=3.5269eV$, ${\alpha}=2.03{\times}10^{-3}eV/K$ and ${\beta}=501.9K$ for the $ZnAl_2Se_4$ single-crystal thin film. The crystal field and the spin-orbit splitting energies for the valence band of the $ZnAl_2Se_4$ were estimated to be 109.5 meV and 124.6 meV, respectively, by means of the photocurrent spectra and the Hopfield quasicubic model. These results indicate that splitting of the ${\Delta}so$ definitely exists in the ${\Gamma}_5$ states of the valence band of the $ZnAl_2Se_4/GaAs$ epilayer. The three photocurrent peaks observed at 10 K are ascribed to the $A_1$-, $B_1$-exciton for n = 1 and $C_{21}$-exciton peaks for n = 21.

Correlation between Strain and Dielectric properties in Paraelectic $ZrTiO_4$ Thin Films ($ZrTiO_4$상유전 박막의 Strain과 유전 특성 상관성 고찰)

  • 김태석;오정민;김용조;박병우;홍국선
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2000.02a
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    • pp.108-108
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    • 2000
  • 급증하는 무선통신 정보수요는 특히, 고주파대역 (300NHz-300GHz)에서 사용되는 공진기, 필터, 발진기 등과 같은 소자의 품질향상을 요구하고 있다. 고주파용 유전체 중 ZrTiO4 는 $\alpha$-PbO2 계열의 사방정구조를 갖고 있는 유전체로서 높은 유전율 ($\varepsilon$=40)과 높은 품질계수 (Q=1/tan$\delta$=4700 at 7GHz)를 갖고 있고, Sn 첨가시 0ppm/$^{\circ}C$의 공진주파수 온도계수를 얻을 수 있다고 보고되어 있다. 본 연구에서는 약 110$0^{\circ}C$ 이상에서 안정한 상으로 존재하는 ZrTiO4를 저온에서 증착하여 준안정한 상태로 결정화되게 한후, 유전손실 (tan$\delta$)과 유전율($\varepsilon$)을 측정하였다. 또한 증착온도와 열처리과정에 따른 박막의 us형 (Strain) 정도의 변화를 X-선 회절결과로부터 분석하였으며 이를 측정된 유전특성 값과 비교하였다. ZrTiO4 박막은 DC magnetron reactive sputter로 Zr과 Ti 타겟으로부터 high phosphorous doped Si (100) 기판위에 증착하였다. 압력은 4mTorr로 유지하고 박막의 화학양론적 조성비를 맞추기 위해 각 타겟에 가해지는 power는 Zr/Ti=500W/650W로 고정하고, 반응가스의 비율을 Ar/O2=17sccm/3.5sccm으로 유지하여 박막내에 인입되는 산소량을 제어하였다. 증착 직후와 열처리 후의 박막특성을 비교하기 위해 증착온도를 상온에서부터 $600^{\circ}C$까지 변호시키고 증착후 각각의 시편을 80$0^{\circ}C$ 산소분위기에서 2시간동안 열처리하여 시편을 준비하였다. 박막의 상형성 여부와 결정성변화는 $ heta$-2$\theta$X-선 회절법을 사용하여 조사하였고, EPMA를 이용하여 박막의 조성을 확인하였다. 유전특성의 측정을 위해 백금 상부전극을 증착한 후, impedance analyzer를 이용하여 100kHz 영역에서의 유전손실을 측정하고, 측정된 정전용량과 박막의 두께로부터 유전율을 계산하였다. ZrTiO4 박막은 증착온도 20$0^{\circ}C$ 이상에서 결정성을 보이기 시작했으며, 열처리 이후에는 상온에서 비정질이었던 시편이 $650^{\circ}C$ 이상의 온도에서 결정화되기 시작하였다. 증착온도에 따라 유전손실은 0.038에서 0.017 정도로 감소하는 경향을 나타냈으며, 각각 열처리에 의해서 0.034, 0.005 정도로 다시 감소하였다. 박막의 유전율은 약 35 정도의 값을 나타내었으며 X-선 회절 data로부터 분석한 박막의 변형은 증온도에 따라 7.2%에서 0.04%로 감소하였고 이 이경향은 유전손실은 감소경향과 일치하였다.

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Investigation on the Variation of Discharge Coefficients Following Bifurcation Angle Changes (방수로 분류부 분류각 변화에 따른 유량계수 변화 검토)

  • Rhee, Dong-Sop;Kim, Chang-Wan
    • Proceedings of the Korea Water Resources Association Conference
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    • 2007.05a
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    • pp.926-929
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    • 2007
  • 방수로는 홍수 피해 경감을 사용되는 구조적 대책으로 최근 국내에서 널리 계획되고 있다. 이러한 방수로는 보통 횡월류위어 등으로 대표되는 유입부 구조물을 통하여 하천 본류와 연결되지만, 평상시에도 본류의 유량을 일부 분담하는 형태로 설계되는 젖은 하도(wet channel) 형태의 방수로는 별도의 유입부 구조물을 설치하지 않고 바로 본류에 연결되는 것이 일반적이다. 유입부 구조물을 통해 연결되는 방수로의 특성은 유입부 구조물의 수리학적인 특성에 의해서 많이 좌우된다. 이에 반해 젖은 하도 형태로 본류에서 바로 분기되는 방수로는 그 특성이 방수로의 폭(W), 방수로 분류각$(\theta)$등에 의해서 많이 좌우되며, 만약 설계된 방수로의 횡단면 형상이 사다리꼴 또는 직사각형 단면을 따른다면 이러한 흐름은 "제한 영마루고 횡월류위어 흐름(restricted zero-height side weir flow)"으로 분류할 수 있다. 이러한 조건에서의 흐름은 일반적인 횡월류위어 흐름과 많이 다른 것으로 알려져 있다. 본 연구에서는 이러한 방수로 폭 및 분류각을 변화시켜 방수로 분류 조건을 다양하게 구현하여 실험을 수행하였으며, 특히 분류각 변화에 따른 유량계수의 변화를 분석, 검토하였다. 또한 측정된 방류량을 기준으로 산정된 유량계수를 기존 연구자들이 제시한 영마루고(zero-height) 횡월류위어 유량계수 산정식에 의해 산정된 결과와 비교하여 분석하였다. 분석결과 분류각이 90도인 경우 본류 프루드수의 증가에 따라 유량계수가 점차 감소하였으나, 분류각이 90도 보다 작은 경우에는 본류 프루드수가 증가함에 따라 유량계수가 점차 증가하는 것으로 나타났다. 이러한 한계를 만족시킬 입체 영상) 입체영상은 영화에서 시작되었으나, 20c후반기에 들어서면서 애니메이션 분야와 모바일, 광고 패널, 텔레비전등의 매체를 이용한 입체 영상의 개발로 인하여 특정 분야에 한정 시킬 수 없으므로 영상으로 칭한다. 입체 영상은 21c에 들어서면서 영상매체의 한 분야로 급부상하고 있다. 1900년 무렵부터 연구된 입체영화(3-Dimensional motion Picture)는 In여 년이 지난 지금 대중화를 눈앞에 두고 있다. 국내에서는 놀이 동산이나 박물관등에서 흔히 볼 수 있다. 하지만 앞으로는 HDW등의 대중화로 화질의 발전을 이룬 텔레비전 분야 등에서 실용화 될 전망이다. 국제적인 흐름과 함께 국내에서도 입체 영화에 대한 연구가 활성화 되어 영상산업의 한 주류로서 대두되고 있다. 이러한 상황에서 입체영상에 대한 이해와 콘텐츠(Contents)의 개발은 기술적인 진보에 발맞추어 준비되어야 한다. 본 논문은 이러한 기술적인 계보에 발맞춘 영상 콘텐츠 개발에 박차를 가하고자 앞으로의 발전분야에 대한 기술적인 면과 기법적인 면을 제시하여 기술만 앞서고 내용은 수입하는 수입국이기 보다는 미리 준비하여 비전문가나 타국의 기술에 선점 당하지 않는 분야로 성장할 수 있는 진보적인 영상 인들의 관심과 지속적인 연구를 독려하고자 한다.시민의 휴식 및 여가선용 공간으로 활용하기 위한 사업의 기초자료로 활용되며 이미 설계검토가 시작되었다. 본 연구결과는 유수지 및 저수지의 환경개선 사업의 선두적인 성공사례로 국내 타 지역의 유사한 사업에 있어 벤치마킹을 할 수 있는 훌륭한 사례가 될 것이다.요 생산이 증가하자 군신의 변별(辨別)과 사치를 이유로 강력하게 규제하여 백

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The Adsorption and Desorption of $NH_3$ on Rutile $TiO_2(110)-1{\times}1$ Surfaces

  • Kim, Bo-Seong;Li, Zhenjun;Kay, Bruce D.;Dohnalek, Zdenek;Kim, Yu-Gwon
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.02a
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    • pp.265-265
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    • 2012
  • The adsorption of molecular $NH_3$ on rutile $TiO_2(110)-1{\times}1$ surfaces was investigated using a temperature-programmed desorption (TPD) technique combined with a molecular beam apparatus. A quantitative investigation into the TPD spectra of $NH_3$ was made for $NH_3$ adsorbed on two kinds of rutile $TiO_2(110)-1{\times}1$ surfaces with the oxygen vacancy ($V_O$) concentration of ~0% (p-$TiO_2(110)$) and ~5% (r-$TiO_2(110)$), respectively. On both surfaces, non-dissociative adsorption of $NH_3$ was inferred from a quantitative analysis on the amount of adsorbed $NH_3$ and those desorbed. With increasing coverage, the monolayer desorption feature shifted from 400 K toward lower temperatures until it saturates at 160 K, suggesting a repulsive nature in the interaction between $NH_3$ molecules. At the very low coverage regime, the desorption features were found to extend up to 430 K and 400 K on p-$TiO_2(110)$ and p-TiO(110), respectively. As a result, the saturation coverage of monolayer of $NH_3$ was higher on the p-$TiO_2(110)$ surface than on the p-TiO(110) by about 10%. The desorption energy ($E_d$) of $NH_3$ obtained by inversion of the Polanyi-Wigner equation indicated that the difference between the $E_d$'s of $NH_3$ (that is, $E_d(on\;p-TiO_2(110)$) - $E_d$(on p-TiO(110)) was 14 kJ/mol at ${\theta}(NH_3)=0$ and decreased to 0 as the coverage approached to a monolayer. The observed adsorption behavior of $NH_3$ was interpreted using an interaction model between $NH_3$ and surface defects on $TiO_2$ such as VO's and $Ti^{3+}$ interstitials.

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The effect of aroma foot spa on stress (아로마풋스파가 스트레스에 미치는 영향)

  • Lee, Yeon-Hee;Jong, Seo-Woo
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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    • v.13 no.5
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    • pp.2206-2211
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    • 2012
  • To identify the effect of the aroma foot spa on the stress, 12 university students with stress were divided into control group (6 subjects) and aroma foot spa group (6 subjects). Control group was not subjected to any kind of intervention while aroma foot spa group was subjected to 10 minutes of foot bath using 5% Juniper, lavender and lemon essential oil and 10 minutes of foot massage using massage cream during four weeks, two times per week. As for the evaluation method, brain wave was studied to measure the amount of change in stress. After measuring the change in the brain wave before and after the experiment, it was proven that the aroma foot spa group s Alpha wave (Z=-2.364, p<.05) and SMR wave (Z=-1.981, p<.05) were higher than those of the control group. Moreover, when the pre and post experiment results of the aroma foot spa group were measured, it was proven that the Theta wave (Z=-2.366, p<.05) decreased while Alpha wave (Z=-2.371, p<.05) increased. In other words, aroma foot spa that included foot bath using essential oil and foot massage increased Alpha wave which in turn influenced the brain wave due to increased blood circulation resulting from muscle relaxation. Moreover, SMR wave increase was closely related to the change in Alpha wave, which demonstrates that SMR wave increased due to stress alleviation. Accordingly, it may be possible to assume that aroma foot spa is effective in relieving stress.

Numerical Analysis of Three-Dimensional Magnetic Resonance Current Density Imaging (MRCDI) (3차원 자기공명 전류밀도 영상법의 수치적 해석)

  • B.I. Lee;S.H. Oh;E.J. Woo;G. Khang;S.Y. Lee;M.H. Cho;O. Kwon;J.R. Yoon;J.K. Seo
    • Journal of Biomedical Engineering Research
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    • v.23 no.4
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    • pp.269-279
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    • 2002
  • When we inject a current into an electrically conducting subject such as a human body, voltage and current density distributions are formed inside the subject. The current density within the subject and injection current in the lead wires generate a magnetic field. This magnetic flux density within the subject distorts phase of spin-echo magnetic resonance images. In Magnetic Resonance Current Density Imaging (MRCDI) technique, we obtain internal magnetic flux density images and produce current density images from $\bigtriangledown{\times}B/\mu_\theta$. This internal information is used in Magnetic Resonance Electrical Impedance Tomography (MREIT) where we try to reconstruct a cross-sectional resistivity image of a subject. This paper describes numerical techniques of computing voltage. current density, and magnetic flux density within a subject due to an injection current. We use the Finite Element Method (FEM) and Biot-Savart law to calculate these variables from three-dimensional models with different internal resistivity distributions. The numerical analysis techniques described in this paper are used in the design of MRCDI experiments and also image reconstruction a1gorithms for MREIT.

Corrosion Monitoring of Reinforcing Bars in Cement Mortar Exposed to Seawater Immersion-and-dry Cycles (해수침지-건조 환경에 노출된 모르타르속 철근의 부식속도 평가)

  • Kim, Je-kyoung;Kee, Seong-Hoon;Yee, Jurng-Jae
    • Journal of the Korea institute for structural maintenance and inspection
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    • v.22 no.4
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    • pp.10-18
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    • 2018
  • The primary purposes of this study are to understand a fundamental aspect of current uniformity around a reinforcing bar (rebar) in cement mortar, and to develop an accurate monitoring method in a wet-dry cycling process with the alternative current (AC) impedance method. Three cement mortar specimens with two embedded rebars were prepared in the laboratory. As a main variable, the distance between two rebars was designed to be 10, 20 and 30 mm with the same thickness of 20 mm. To simulate the corrosion of rebars in concrete structures in a marine environment, three cement mortar specimens were exposed to 15 wet-drying cycles (24-hour-immersion in seawater and 48-hour-drying in a room temperature) in the laboratory. It was observed that the potential level shifted to a noble value during corrosion potential monitoring, which is attributed to acceleration of dissolved oxygen diffusion at the drying process. AC impedance was measured in a frequency range from 100 kHz to 1 mHz on a wet-drying process. A theoretical model was proposed to explain the interface condition between the rebars and cement mortar by using the equivalent circuit consisting of a solution resistance, a charge transfer resistance and a CPE (constant phase element). It was observed that the diffusion impedance appeared in a low frequency range as corrosion of rebars progresses. At the drying stage of the wet-drying cycles, the currents line for monitoring tended to be non-uniform at the interface of rebar/mortar, being phase shift, ${\theta}$, close to $-45^{\circ}$.