More than ten kinds of oxide thin films and their heterostructure have been successfully fabricated on SrTiO$_3$(001) substrates by laser molecular beam epitaxy (laser MBE). Measurements of atomic force microscopy (AFM), high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) and X-ray small-angle reflectivity reveal that the surfaces and interfaces are atom-level-smooth. The unit cell layers and the lattice structure are perfect. The electrical and optical properties of BaTiO$_3$-x thin films and BaTiO$_3$/SrTiO$_3$ (BTO/STO) superlattices were examined. The all-perovskite oxide P-N junctions have been successfully fabricated and the better I-V curves were observed.
An alkoxide-based sol-gel method was used to fabricate $(Pb_{x},Sr_{1-x})$TiO3 (PST) thin films on a Pt/Ti/SiO2/Si substrate, and the dielectric properties of the PST thin films were investigated as a function of the Pb/Sr composition for use in tunable microwave device applications. The dielectric properties of the PST films were strongly dependent on the Pb/Sr ratio. The dielectric constant and dielectric loss of the PST films increased with increasing Pb content, and the figure of merit (FOM) reached a maximum value of 27.5 at a Pb/Sr ratio of 4:6. The tunability increased with increasing Pb content. The dielectric constant, loss factor, and tunability of PST (50/50) thin films were 404, 0.023, and 51.73%, respectively. From the result, the PST films with good dielectric properties are useful candidates for tunable microwave device.
The applicability of models based on fractal morphology to characterize $(Ba\;Sr)TiO_{3}$ thin film surfaces was investigated. The fractal morphology of coated barium strontium titan oxide thin film surfaces was described using fractal dimension from scanning electro microscopy image. The $(Ba\;Sr)TiO_{3}$ coating were deposited on silicon wafers using $(Ba\;Sr)TiO_{3}$ solution and spin coater. BST solution was composited by mol ratio, and then spin-coated from 3 times to 5 times coating on $Pt/SiO_{2}/Si$ substrate. Qualitative thin film analysis was performed with scanning electro microscopy (SEM), and surfaces parameters such as average grain diameter, roughness exponent and fractal dimension were determined.
$YBa_2Cu_3O_{7-x}$ 초전도 필름을 초음파에 의한 aerosol spray 법을 이용하여 YSZ (yttria stabilized zirconia) 및 SrTi$O_3$의 (100) 결정면 위에 만들었다. 초전도상은 세 단계의 과정을 거쳐서 형성되었다 : (가) 이트륨, 바륨, 구리의 질산염을 화학 양론비로 섞어 만든 용액을 250$^{\circ}C$로 가열된 기질에 분무하여, (나) 형성된 필름을 공기 중에서 550$^{\circ}C$로 예열하고, (다) 흐르는 산소 분위기에서 950$^{\circ}C$로 소결한 뒤 노냉하였다. 필름의 저하을 dc four-point probe 법으로 측정하여 액체질소 온도 이상에서 초전도성을 확인하였다.
The objective of this study is to deposited the preparation of SrTiO$_3$dielectric thin films on Ag/barrier-mater/Si(N-type 100) bottom electrode using a conventional rf-magnetron sputtering technique with a ceramic target under various conditions. It is demonstrated that the leakage current of films are strongly dependent on the substrate temperature. The current-voltage characteristics are influenced by the Schottky effict. The resistivity properties of films deposited on silicon substrates were very high resistivity. Conduction mechanisms in the films was dependent on the substrate temperature range.
Ba0.5Sr0.5TiO3박막을 RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 Pt/Ti/SiO2/Si(100) 기판에 증착하였다 .누설전류에 영향을 주는 것으로 알려진 열처리 조건, dopant 효과 등을 평가하고자 이온반경이Ti와 유사하고 대부분이 Ti 자리를 치환하는 것으로 알려진 Nb와 Al을 각각 danor와 acceptor로 선택하여 BST 박막에 첨가한 후 누설전류를 측정하였다. 고온에서 in-situ 증착된 BST 박막은 거친 표면 형상을 보이며 낮은 전압에서 파괴가 발생하고, Nb 첨가로 누설전류가 증가하였다. 삼온 증착후 후열처리된 박막은 표면 형상도 평할도가 증가하였으며 in-situ로 제조된 박막에 비해 높은 파괴전압과 낮은 누설전류를 나타내었다. 특히 Al이 첨가된 BST 박막의 누설전류밀도는 ~10A/cm2로 도핑을 하지 않은 박막이나 Nb가 첨가된 박막에 비해 매우 낮은 누설전류밀도를 나타내었으며, 이는 산화로 인한 산소공공의 감소, 이동 가능한 hole의 감소와 후열처리과정중 계면 및 입계의 산화로 Schottky 장벽에 높아진 결과로 판단된다.
High critical current density. $J_c$ over $1MA/cm^2$ at 77 K in a self field was successfully achieved from the YBCO film prepared on (100) $SrTiO_3$ single-crystal substrates by the TFA-MOD process. Unlike a normal TFA-MOD process, we prepared the TFA precursor solution by dissolving YBCO powder into the trifluoroacetic acid. A significant amount of the second phases, including $BaF_2$, was observed in the films fired at $700-725^{\circ}C$ for 2 h under $P(O_2)=10^{-3}$ atm and $P(H_2O)=4.2%$, most probably due to an insufficient reaction time, and hence $T_c$ was greatly degraded. However the films fired at $750-800^{\circ}C$ for 2 h were composed of strongly c-axis oriented YBCO grams without any second phases. and exhibited the $T_c$ values of 89.5 ~ 91 K with a sharp transition. With increasing the firing temperature from 750 to $800^{\circ}C$ average grain size of YBCO was increased and grain connectivity was enhanced. The highest $J_c$ value of $1.1MA/cm^2$ was obtained from the YBCO film fired at $800^{\circ}C$.
Park, Da-Hee;Kwon, Kyoung-Woo;Park, Chan-Rok;Choi, Yoo-Jin;Bae, Seung-Muk;Baek, Senug-Hyub;Kim, Jin-Sang;Hwang, Jin-Ha
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2015년도 제49회 하계 정기학술대회 초록집
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pp.188.2-188.2
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2015
The presence of the conduction interface in epitaxial $LaAlO_3/SrTiO_3$ thin films has opened up challenging applications which can be expanded to next-generation nano-electronics. The metallic conduction path is associated with two adjacent insulating materials. Such device structure is applicable to frequency-dependent impedance spectroscopy. Impedance spectroscopy allows for simultaneous measurement of resistivity and dielectric constants, systematic identification of the underlying electrical origins, and the estimation of the electrical homogeneity in the corresponding electrical origins. Such unique capability is combined with the intentional control on the interface composition composed of $SrTiO_3$ and $CaTiO_3$, which can be denoted by $SrxCa1-_xTiO_3$. The underlying $Sr_xCa1-_xTiO_3$ interface was deposited using pulsed-laser deposition, followed by the epitaxial $LaAlO_3$ thin films. The platinum electrodes were constructed using metal shadow masks, in order to accommodate 2-point electrode configuration. Impedance spectroscopy was performed as the function of the relative ratio of Sr to Ca. The respective impedance spectra were analyzed in terms of the equivalent circuit models. Furthermore, the impedance spectra were monitored as a function of temperature. The ac-based characterization in the 2-dimensional conduction path supplements the dc-based electrical analysis. The artificial manipulation of the interface composition will be discussed towards the electrical application of 2-dimensional materials to the semiconductor devices in replacement for the current Si-based devices.
The $Sr_{0.7}Bi_{2.3}Nb_2O_9$(SBN) thin films are deposited on Pt-coated electrode(Pt/Ti/SiO2/Si) using RF sputtering method at various substrate temperature. The optimum conditions of RF power and Ar/O2 ratio were 60[W] and 70/30, respectively. The rougness showed about 4.33[nm]. Deposition rate of SBN thin films was about 4.17[nm/min]. The capacitance of SBN thin films were increased with the increase of substrate temperature.
C-축으로 배향된 고품질 $YBa_{2}Cu_{3}O_{7}$ 박막을 펄스레이저 증착법으로 $SrTiO_{3}$(100) 기판위에 제작하였다. STO 기판을 고온 산소열처리로 원시세포 높이의 테라스가 발달한 atomic-flat한 표면상태로 가공하였으며, 이 기판위에 최적의 조건에서 증착된 $YBa_{2}Cu_{3}O_{7}$ 박막은 원시세포단위로 층상으로 적층 성장됨을 알 수 있었다. 이러한 박막은 임계온도${\ge}90$ K, 전이폭${\le}0.6$ K, 상온비저항${\sim}300{\mu}{\Omega}cm$, 잔류저항${\sim}0$ 및 임계전류밀도${\sim}4.6{\times}10^{6}A/cm^{2} $의 초전도 특성을 나타내었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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