In the last several centuries, humankind have been experienced the material abundance with a development of technical civilization and being industrialized quickly. During the process of this, environmental pollutant have occurred naturally so that humankind have more interests for environment pollutant. Air pollution caused by exhaust from a car is very harmful for human. Most of exhaust from a gasoline engine are $CO_x(CO+CO_2),\;NO_x(NO+NO_2)$, and THC(Total Hydrocarbon). The method to remove these kinds of noxious gases are so many thing such as the three catalysts, $NO_x$ catalysts, Filter and so on. However, although air pollution caused by exhaust from motorcycle have also occurred very much, there is no regulation for motorcycle. In this paper, we studied to remove $CO_x(CO+CO_2),\;NO_x(NO+NO_2)$, THC exhaust from a motorcycle using non-thermal plasma In the result, $NO_x(NO+NO_2)$ concentration was decreased approximately 70% and THC(Total Hydrocarbon) was removed about 40%.
유전체장벽방전에 의해 발생된 오존을 배기가스에 주입하면 질소산화물의 주성분인 NO가 빠르게 $NO_2$로 산화된다. 일단 NO가 $NO_2$로 산화되면 다음 단계에서 황화나트륨이나 아황산나트륨과 같은 환원제에 의해 쉽게 $N_2$로 환원될 수 있다. 본 연구에 사용된 환원제들은 $SO_2$도 효과적으로 제거시킬 수 있으므로 $NO_x$와 $SO_2$를 동시에 처리하는 것이 가능하다. 오존처리실과 흡수환원반응기로 구성된 본 연구의 2단계 공정은 모사 배기가스에 포함된 $NO_x$를 95%, $SO_2$를 100% 제거시킬 수 있었다. 환원제인 황화나트륨으로부터 발생되는 황화수소는 강염기인 수산화나트륨을 환원제와 함께 사용함으로써 방지할 수 있었다. $NO_x$와 $SO_2$를 동시에 처리하기 위한 환원제로 $Na_2SO_3$보다 $Na_2S$가 더 우수한 성능을 보여주었다.
The synthesis and characterization of intercalated compound of dodecanesulfornate into hydrated metal, [M($H_2$O)\ulcorner](C\ulcornerH\ulcorner$SO_3$)$_2$.$xH_2$O (M=Co, Cu) was presented. The compounds shows a layered structure which was determined by powder X-ray diffraction. Thermal behavior of the layered structure was investigated using thermal analysis, and FT-IR spectroscopy by varying the temperature. The increase in layer spacing of the products by increasing the temperature is also checked by X-ray diffraction. We can suggest three kinds of layered structure by varying the temperature, which is accompanied by changing the intercalated dodecanesulfonate from the monolayer to the bilayer structure or changing the tilt angle.
고온고압의 연소 분위기를 생성시키는 석탄이용 발전 시스템 및 소각로, 유리공장 등에서 발생되는 먼지 및 유해가스 제거 기술은 세계적으로 문제시되고 있는 환경오염 차원에서 필수적으로 요구되어지는 기술이라 할 수 있다. 이러한 고온고압의 시스템에서 사용될 수 있는 필터로 현재 세라믹이 가장 적절한 재질로 평가되고 있는데 이는 세라믹 자체가 지닌 열적 안정성 때문이라고 할 수 있다.(중략)
본 연구에서는 펄스 코로나 방전 공정에 의해 $SO_2$와 $SO_2/NO$의 제거효율을 분석하였으며, 여러 공정변수가 제거효율에 끼치는 영향을 체계적으로 조사하였다. 공정변수로서 인가전압, 펄스 주파수, 체류시간, 반응물의 초기 농도(NO, $SO_2$, $NH_3$, $H_2O$, and $O_2$)의 영향을 분석하였다. 인가되는 전압, 펄스 주파수 또는 체류시간이 증가함에 따라 또는 $O_2$와 $H_2O$가 첨가됨에 따라 $SO_2$의 제거효율과 $SO_2/NO$의 동시 제거효율은 증가하였다. 또한, $NH_3$의 초기 농도가 증가할수록 $SO_2/NO$의 제거효율은 증가하였다. 이 실험적인 결과들은 $NO_x$와 $SO_x$를 제거하기 위한 펄스 코로나 방전 공정 장치 설계의 기초 자료로 사용될 수 있다.
순산소 연소기술은 화력발전에 적용 가능한 유망한 온실가스 감축 기술로 평가되고 있다. 본 연구는 환경적 관점에서 순환유동층을 활용한 순산소 연소조건에 로 내 탈황 및 탈질법을 적용하여 NO 및 $SO_2$의 거동을 살펴보는 한편, $SO_3$, $NH_3$, 그리고 $N_2O$의 발생 경향도 관측하였다. 이를 위해, 연소로 내 석회석 및 요소수를 투입하였다. 로 내 탈황법은 연소가스 내 $SO_2$ 농도를 ~403에서 ~41 ppm까지 저감하였다. 또한 $SO_3$ 형성의 주원료인 $SO_2$가 저감되면서 연소가스 내 $SO_3$ 농도도 ~3.9에서 ~1.4 ppm까지 감소되었다. 그러나 석회석 내 $CaCO_3$가 NO의 발생을 촉진하는 현상도 관측되었다. 연소가스 내 NO 농도는로 내 탈질법을 적용하여 ~26 - 34 ppm까지 저감되었다. 요소수 투입량 증가에 따라 연소가스 내 $NH_3$ 농도가 증가하여 최대 ~1.8 ppm으로 나타났으며, $N_2O$의 농도도 ~61에서 ~156 ppm까지 증가하였다. $N_2O$ 발생량 증가 현상은 요소수의 열분해 과정에서 생성된 HNCO가 $N_2O$로 전환되어 나타난다. 본 연구의 결과를 통해 로 내 연소가스 세정법을 적용할 경우 $NO_x$ 및 $SO_x$의 저감뿐만 아니라, 다른 오염물질의 발생에 대한 주의가 필요할 것으로 보인다.
중국의 급속한 경제성장은 환경에 커다란 부하를 초래하였고, 이를 통해 대기오염 문제도 심각해졌다. 본 연구는 중국의 대기오염 원인을 경험적으로 분석하였다. 표준오차 패널수정 추정기법(PCSE)을 이용하여 중국의 30개 성을 대상으로 아황산가스 및 질소산화물의 배출요인을 분석하였다. 아황산가스의 경우 일인당 실질소득이 증가할수록 배출 수준이 감소하고, 질소산화물은 일인당 실질소득과 역N자형의 관계에 있는 것으로 분석되었다. 소득 이외의 배출 요인으로 우선 전기소비량은 아황산가스나 질소산화물을 증가시키는 요인이었고, 석탄소비량은 아황산가스 배출을 증가시키는 반면에 천연가스 소비량은 아황산가스 배출을 감소시키는 요인으로 나타났다. 한편 에너지 산업에 대한 투자와 폐가스 처리에 대한 투자는 아황산가스 배출을 감소시키는 결정요인이지만 질소산화물 배출에 영향을 미치지 않는 것으로 나타났다. 한편 디젤 소비량, 트럭 비율 및 차량 수는 질소산화물 배출을 증가시키는 것으로 나타났다. 강수량의 증가도 아황산가스와 질소산화물의 배출을 감소시킨 요인이었다. 끝으로 본 연구의 정책적 시사점과 향후 연구방향을 제시하였다.
The Sulfur-Iodine (SI) thermochemical hydrogen production process is one of the most promising thermochemical water splitting technologies. In the integrated operation of the SI process, the $O_2$ produced from a $H_2SO_4$ decomposition section could be supplied directly to the Bunsen reaction section without preliminary separation. A $HI_x$ ($I_2+HI+H_2O$) solution could be also provided as the reactants in a Bunsen reaction section, since the sole separation of $I_2$ in a $HI_x$ solution recycled from a HI decomposition section was very difficult. Therefore, the Bunsen reaction using $SO_2-O_2$ mixture gases in the presence of the $HI_x$ solution was carried out to identify the effect of $O_2$. The amount of $I_2$ unreacted under the feed of $SO_2-O_2$ mixture gases was little higher than that under the feed of $SO_2$ gas only, and the amount of HI produced was relatively decreased. The $O_2$ in $SO_2-O_2$ mixture gases also played a role to decrease the amount of a impurity in $HI_x$ phase by only striping effect, while that in $H_2SO_4$ phase was hardly affected.
Let X be a topological space. We consider a groupoid G over X and the quotient groupoid G/N for any normal subgroupoid N of G. The concept of groupoid (topological groupoid) is a natural generalization of the group(topological group). An useful example of a groupoid over X is the foundamental groupoid .pi.X whose object group at x.mem.X is the fundamental group .pi.(X, x). It is known [5] that if X is locally simply connected, then the topology of X determines a topology on .pi.X so that is becomes a topological groupoid over X, and a covering space of the product space X*X. In this paper the concept of the locally simple connectivity of a topological space X is applied to the groupoid G over X. That concept is defined as a term '1-connected local subgroupoid' of G. Using this concept we topologize the groupoid G so that it becomes a topological groupoid over X. With this topology the connected groupoid G is a covering space of the product space X*X. Further-more, if ob(.overbar.G)=.overbar.X is a covering space of X, then the groupoid .overbar.G is also a covering space of the groupoid G. Since the fundamental groupoid .pi.X of X satisfying a certain condition has an 1-connected local subgroupoid, .pi.X can always be topologized. In this case the topology on .pi.X is the same as that of [5]. In section 4 the results on the groupoid G are generalized to the quotient groupoid G/N. For any topological groupoid G over X and normal subgroupoid N of G, the abstract quotient groupoid G/N can be given the identification topology, but with this topology G/N need not be a topological groupoid over X [4]. However the induced topology (H) on G makes G/N (with the identification topology) a topological groupoid over X. A final section is related to the covering morphism. Let G$_{1}$ and G$_{2}$ be groupoids over the sets X$_{1}$ and X$_{2}$, respectively, and .phi.:G$_{1}$.rarw.G$_{2}$ be a covering spimorphism. If X$_{2}$ is a topological space and G$_{2}$ has an 1-connected local subgroupoid, then we can topologize X$_{1}$ so that ob(.phi.):X$_{1}$.rarw.X$_{2}$ is a covering map and .phi.: G$_{1}$.rarw.G$_{2}$ is a topological covering morphism.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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