$RuO_2/Ti$를 양전극으로 사용한 무격막 전해셀(un-divided electrochemical cell) 시스템에서의 이산화염소수($ClO_2$) 제조 연구를 수행하였다. 이산화염소의 전구체로는 아염소산나트륨($NaClO_2$)이 사용되었으며, 무격막 전해셀에서 전구체 용액의 전해셀 주입유량, 전구체 용액 초기 pH, 아염소산나트륨과 전해질인 염화나트륨의 주입농도 그리고 전류밀도(current density)가 생성된 이산화염소수의 농도 및 pH에 미치는 영향을 조사하였다. 생성된 이산화염소수의 농도와 pH는 초기 전구체 용액의 pH와 전해셀 주입유량에 큰 영향을 받는 것으로 나타났으며, 전해질로 사용된 염화나트륨은 전해질로서의 역할 뿐만 아니라 이산화염소의 전구체로도 작용함을 알 수 있었다. 이산화염소수 제조를 위한 무격막 전해셀에서의 전구체용액의 최적 주입유량은 90 mL/min, 전구체 용액의 초기 pH는 2.3, 아염소산나트륨 주입농도는 4.7 mM, 염화나트륨 주입농도는 100 mM 그리고 전류밀도는 $5A/dm^2$로 나타났으며, 이때 발생된 이산화염소수의 pH는 약 3, 이산화염소 농도는 약 350 mg/L이었다.
In this technical information, the TSP measurement data at Gosan between 1992 and 1999 are presented and analyzed. The average ratio of N $O_3$$^{[-10]}$ /nss-S $O_4$$^{2-}$ is highest in March. The annual average ratio concentration of N $O_3$$^{[-10]}$ increased and it was found that the annual average ratio of N $O_3$$^{[-10]}$ /nss-S $O_4$$^{2-}$ increased during the period, probably due to the change of emission characteristics of China.
The samples of Bi2Sr2Ca1-xNaxCu2O8+y with various carrier concentration were synthesized by substituting Na for Ca ion. The superconducting properties hall coefficients and X-ray powder diffraction were measur-ed the sampled. Single phase samples were obtained for 0$\leq$x<0.3 of Bi2Sr2Ca1-xNaxCu2O8+y In the single phase the critical temperature. {{{{ { T}_{c } }} and carrier concentration increase with the increase of Na concentration pass through a maximum and then decreases. In the range of x$\geq$0.7 to the Na doped samples however we observed the metal-semiconductor transition. The c-axis seemed to decrease and a and b-axes increase with increasing Na concentration in the single phase. Decreasing of c-axis while increasing x is due to the smaller size of {{{{ {Na}^{+1 } }} ions to the {{{{ { Ca}^{+2 } }} ions. In the range of x>0.3 however the trend becomes ambiguous due to the inclusion of the 10K phase and impurity phase.
Zinc-oxide films were deposited by pulsed laser deposition (PLD) technique using doped ZnO target (mixed $In_2O_3$ 0.1, 0.3, 0.6 at. % - atomic percentage) on the p-type Si(111) substrate. A little Indium has added at the n-ZnO films for the electron concentration control and enhanced the electrical properties. Also, post thermal annealed ZnO films are shown an enhanced structural and controled electron concentration by the annealing condition for the hetero junction diode of a better emitting characteristics. The electrical and the diode characteristics of the ZnO films were investigated by using Hall effect measurement and current-voltage measurement.
미세하게 부유된 입자(alumina(Al$_2$O$_3$), quartz(SiO$_2$))의 침전 농도를 물리-화학적(초기농도, pH, NaCl)인 영향을 고려하면서 연구하였다. 침강실험은 입자사이의 끌어당기는 힘 때문에 Flocculation(플록 형성)이 일으키는 초기농도와 NaCl의 증가가 중요한 영향을 미치며, 더욱이 미립자(alumina(Al$_2$O$_3$))의 농도-시간 곡선에 pH의 영향이 매우 큼을 보였다. 또한 정지수면 조건하에서 미립자의 침전 거동예측을 위한 수치 모델은 부정류 1차원 이송방정식에 의해 분석되었으며 양해법, 음해법, Crank-Nicolson 기법 및 유한차분법을 이용하였다. 수치모델은 평형을 이룬 농도변화까지 예측하였으며, 실험치의 비교분석을 통해 중앙차분법을 통한 Implicit 모형의 계산이 대체로 일치하였다.
본 연구는 $LiGd_9(SiO_4)_6O_2:Ce^{3+}$ 형광체를 고상법으로 합성하여 X선 회절 실험으로 결정화 정도와 인회석 구조를 확인하였다. $LiGd_9(SiO_4)_6O_2:Ce^{3+}$ 형광체의 $Ce^{3+}$이온의 농도 변화에 따른 여기 및 방출 스펙트럼과 수명시간을 측정하였다. 여기 스펙트럼에서 $Ce^{3+}$ 이온의 농도 증가에 따라 276 nm ($Gd^{3+}$$^8S_{7/2}{\rightarrow}^6I{_J}$ 전이) 형광 세기가 감소하는 에너지 전달을 확인하였다. 방출 스펙트럼에서 $Ce^{3+}$ 이온의 농도 증가에 따라 결정장의 변화에 의해 410 nm($Ce^{3+}$$^2F_{5/2}$ and $^2F_{7/2}$) 방출 밴드의 파장이 장파장 쪽으로 이동하는 특성을 확인하였으며 314 nm에서 $Gd^{3+}$에서 $Ce^{3+}$로의 에너지 전달로 인해 $Gd^{3+}$ 형광 방출 세기가 감소하는 것을 확인하였다. $LiGd_9(SiO_4)_6O_2:Ce^{3+}$ 형광체의 $Ce^{3+}$의 수명시간은 약 20 ns로 짧은 특성을 나타내었고 $Ce^{3+}$의 농도가 증가하면 수명시간이 수 ns 감소하였다.
생활 폐기물 소각재 충 바닥재를 입도별로 분급하여 그 구성물질, 화학성분과 중금속 함유량 및 용출량, 다이옥신 함유량 등의 특성을 파악하여 바닥재의 재활용 가능성을 알아보았다. 바닥재의 주요구성물질은 유리질류, 자기질류, 철질류이었으며, 입자가 커질수록 이들의 함유량이 많아져 4mesh~25mm에서는 약 70%이상을 차지하였다. 바닥재의 주요성분은 CaO, $SiO_2$, $Fe_2$O$_3$, $A1_2$$O_3$등이었으며 바닥재의 입자가 커질 수록 CaO의 함유량은 감소되고 $SiO_2$의 함유량은 증가되었다. 중금속의 함유량은 바닥재의 입자가 커짐에 따라 감소되나 중금속 용출량은 거의 변화가 없었다 바닥재의 숙성기간이 길어짐에 따라 바닥재 침출액의 pH는 낮아지고, Cu 및 Pb의 용출량은 감소되었다.
The photocatalytic removal of Ag(I) in water by $TiO_2$ at a various conditions, which are initial Ag(I) concentration, circulation flow rate, $TiO_2$ dosage and methanol concentration, was studied. A continuous flow system with a circular type reactor of the TiO2 suspensions with UV light through an photoreactor column was applied. The major results of this study were as follows; 1. First order kinetics was observed from the result at different initial concentration of Ag(I). As the initial Ag(I) concentration was incereased, the reaction rate was decreased. 2. The removal efficiency of Ag(I) increased with increasing the circulation flow rate and $TiO_2$ dosage. However, over $4{\ell}/min$ of circulation flow rate and $1.5g/{\ell}$ of $TiO_2$ dosage, increasing of the efficiency reached a plateau. 3. The addition of methanol as hole scavenger enhanced the removal efficiency of Ag(I) but the removal efficiency reached a plateau over some level of methanol. 4. It was found that $TiO_2$ photocatalysis was effective method to remove of Ag(I) from aqueous solution.
The electrical energy consumption (EEC) in removal of NO by a $UV/H_2O_2$ oxidation process was introduced and related to removal efficiency of this gas. The absorption-reaction of NO was conducted in a bubble column reactor in the presence of $SO_2$. The variation in NO removal efficiency was investigated for various process parameters including NO and $SO_2$ inlet concentrations, initial concentration of $H_2O_2$ solution and gas flow rate. EEC values were obtained in these different conditions. The removal efficiency was increased from about 22% to 54.7% when $H_2O_2$ concentration increased from 0.1 to 1.5 M, while EEC decreased by about 70%. However, further increase in $H_2O_2$ concentration, from 1.5 to 2, had no significant effect on NO absorption and EEC. An increase in NO inlet concentration, from 200 to 500 ppm, decreased its removal efficiency by about 10%. However, EEC increased from $2.9{\times}10^{-2}$ to $3.9{\times}10^{-2}kWh/m^3$. Results also revealed that the presence of $SO_2$ had negative effect on NO removal percentage and EEC values. Some experiments were conducted to investigate the effect of $H_2O_2$ solution pH. The changing of pH of oxidation-absorption medium in the ranges between 3 to 10, had positive and negative effects on removal efficiency depending on pH value.
The effect of the $O_2$ concentration in the sputtering gas mixture, substate temperature and Ar pressure on the structural and optical properties of 3 mol% YSZ and 8 mol% YSZ thin films deposited by RF magnetron sputtering were investigated . The films were observed to have various crystal structures with different compositions in accordance with the type of the target materials. The size of fine grain-like particles decreased wiht increasing the $O_2$ concentration in the sputtering gas in the case of 3mol% YSZ, while it increased in the case of 8 mol% YSZ . However, the average opticla transmission of 8mol% YSZ, despite of thicker thickness. was higher than that of 3 mol% YSZ. Furthermore, the values of refractive index of 3mol% YSZ increased with increasing the $O_2$ concentration in the sputtering gas on the contrary to those of the 8 mol% YSZ. However, the transmission spectra of 8 mol% YSZ films were not strongly influenced by the substrate temperature and Ar pressure, whereas the refractive index of the YSZ films were strongly affected by the sputtering parameters.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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