In this paper, investigations on a three stage processing technique involving the co-evaporation of In-Se, Cu-Se and In-Se in this order at different deposition condition was undertaken. At first stage, we obtained good $In_{2}Se_{3}$ films by In-Se coevaporation. $In_{2}Se_{3}$ films show smooth and dense structure. And ration of In:Se was 2:3 $CulnSe_2$ thin films deposited by three stage process have shown strong adhesion on Mo coated glass substrates and good morphological properties suitable device fabrication. XWD spectra show single phase chalcopyrite $CulnSe_2$ films with strong orientation in the 112 plane. Resistivity of $CulnSe_2$ thin films was about $5{\times}10^{5}\;{\Omega}{\cdot}cm$. Surface morphology of CdS/$CulnSe_2$/Mo films was very good because of no pin holes.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.7
no.1
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pp.7-11
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2006
The changes of the electrical conductivity in chalcogenide amorphous semiconductors, $Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$, have been studied. A phase change random access memory (PRAM) device without an access transistor is successfully fabricated with the $Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$-phase-change resistor, which has much higher electrical resistivity than $Ge_{2}Sb_{2}Te_{5}$ and its electric resistivity can be varied by the factor of $10^5$ times, relating with the degree of crystallization. 100 nm thick $Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$ thin film was formed by vacuum deposition at $1.5{\times}10^{-5}$ Torr. The static mode switching (DC test) is tested for the $100\;{\mu}m-sized$$Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$ PRAM device. In the first sweep, the amorphous $Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$ thin film showed a high resistance state at low voltage region. However, when it reached to the threshold voltage, $V_{th}$, the electrical resistance of device was drastically reduced through the formation of an electrically conducting path. The pulsed mode switching of the $20{\mu}m-sized$$Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$ PRAM device showed that the reset of device was done with a 80 ns-8.6 V pulse and the set of device was done with a 200 ns-4.3 V pulse.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.48
no.4
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pp.169-173
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2015
$CuInSe_2$ thin films which have been widely used for thin solar cells as a light absorber were prepared by hydrazine solution processing, and their microstructural properties were investigated. Hydrazine $CuInSe_2$ precursor solutions were prepared by dissolving $Cu_2S$, S, $In_2Se_3$ and Se powder in hydrazine solvent. Multilayer $CuInSe_2$ chalcopyrite phase thin films were prepared by repeating spin-coating process using the precursor solution. Unfortunately, the presence of the interfaces between each $CuInSe_2$ layer formed by multi-layer coating impeded grain growth across the interface. Here, by doing simple interface engineering to solve the limited grain growth issue, the large grained (${\sim}1{\mu}m$) $CuInSe_2$ thin films were obtained.
Diisopropylselenide (DIPSe) is employed for the metalorganic vapor phase epitaxy (MOVPE) of ZnSe in order to eliminate premature gas phase reaction while maintaining negligible carbon incorporation and preserving relatively low growth temperature. In combination with dimethylzinc, single crystalline ZnSe layers were grown on GaAs at temperature around 450$^{\circ}C$. Secondary ion mass spectrometry showed a negligible carbon incorporation in ZnSe films grown from DIPSe even at high [Ⅵ]/[II] ratios, in contrast of a carbon concentration of 1021 cm-3 in ZnSe films grown from diallyselenide (DASe). Crystalline and interface quality are demonstrated by secondary electron microscopy, secondary ion mass spectroscopy and double crystal X-ray diffraction.
The selenization process has been a promising method for low-cost and large-scale production of high quality CIGS film. However, there is the problem that most Ga in the CIGS film segregates near the Mo back contact. So the solar cell behaves like a $CuInSe_2$ and lacks the increased open-circuit voltage. In this study we investigated the Ga distribution in CIGS films by using the $Ga_2Se_3$ layer. The $Ga_2Se_3$ layer was applied on the Cu-In-Ga metal layer to increase Ga content at the surface of CIGS films and to restrict Ga diffusion to the CIGS/Mo interface with Ga and Se bonding. The layer made by thermal evaporation was showed to an amorphous $Ga_2Se_3$ layer in the result of AES depth profile, XPS and XRD measurement. As the thickness of $Ga_2Se_3$ layer increased, a small-grained CIGS film was developed and phase seperation was showed using SEM and XRD respectively. Ga distributions in CIGS films were investigated by means of AES depth profile. As a result, the [Ga]/[In+Ga] ratio was 0.2 at the surface and 0.5 near the CIGS/Mo interface when the $Ga_2Se_3$ thickness was 220 nm, suggesting that the $Ga_2Se_3$ layer on the top of metal layer is one of the possible methods for Ga redistribution and open circuit voltage increase.
Kim, Tae-Hyeon;Park, Han-Beom;Jeong, Gwang-Sik;Chae, Jae-Min;Hwang, Su-Bin;Jo, Man-Ho
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.272.1-272.1
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2016
In a three-dimensional topological insulator Bi2Se3, a stress control for band gap manipulation was predicted but no systematic investigation has been performed yet due to the requirement of large external stress. We report herein on the strain-dependent results for Bi2Se3 films of various thicknesses that are grown via a self-organized ordering process. Using small angle X-ray scattering and Raman spectroscopy, the changes of d-spacings in the crystal structure and phonon vibration shifts resulted from stress are clearly observed when the film thickness is below ten quintuple layers. From the UV photoemission/inverse photoemission spectroscopy (UPS/IPES) results and ab initio calculations, significant changes of the Fermi level and band gap were observed. The deformed band structure also exhibits a Van Hove singularity at specific energies in the UV absorption experiment and ab initio calculations. Our results, including the synthesis of a strained ultrathin topological insulator, suggest a new direction for electronic and spintronic applications for the future.
태양전지는 태양광에너지를 바로 전기에너지로 전환시키는 소자이다. 과거에 많이 연구되던 고품질의 단결정 소자는 높은 에너지 변환효율을 가지고 있으나 가격 경쟁력이 크게 뒤져 일반화되지 못하였다. 최근에는 다결정 태양전지의 응웅 가능성에 대한 연구가 활발히 진행되어 오고 있다. 이중 $CuInSe_2$는 여러 가지 좋은 물성을 가지고 있어서, 저가의 고효율 태양전지를 위한 광흡수층 재료로 가장 주목받고 있다. $CuInSe_2$ 화합물 박막을 제조하기 위해 단위원소를 spttering법 과 Evaporeation법을 사용하여 증착하고 전기로에서 열처리 공정을 사용하여 single-phase 화합물 $CuInSe_2$ 박막을 얻고자 하였다.
A new ternary transition-metal selenide, Ta2Ni3Se8 has been synthesized from a eutectic halide flux. The structure of this phase has been characterized by single crystal X-ray diffraction techniques. The compound crystallizes in the orthorhombic system (D2h9-Pbam, a= 14.788(4) Å, b= 10.467(3) Å, c=3.4563(8) Å) with two formula units in the unit cell. This compound adopts the Nb2Pd3Se8 structure type. Hence, there are two chains of edge-sharing selenium trigonal prisms centered by tantalum atoms and these chains are interconnected through two kinds of nickel atoms. Nickel occupies both square planar and square pyramidal sites as does palladium in Nb2Pd3Se8. Electrical conductivity measurements indicate that this material is semiconducting.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2014.11a
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pp.97-97
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2014
The properties of thin film solar cells based on electrodeposited $CuIn(Se,S)_2$ were investigated. The proposed solar cell fabrication method involves a single-step $CuInSe_2$ thin film electrodeposition followed by sulfurization in a tube furnace to form a $CuIn(Se,S)_2$ quaternary phase. A sulfurization temperature of $450-550^{\circ}C$ significantly affected the performance of the $CuIn(Se,S)_2$ thin film solar cell in addition to its composition, grain size and bandgap. Sulfur(S) substituted for selenium(Se) at increasing rates with higher sulfurization temperature, which resulted in an increase in overall band gap of the $CuIn(Se,S)_2$ thin film. The highest conversion efficiency of 3.12% under airmass(AM) 1.5 illumination was obtained from the $500^{\circ}C$-sulfurized solar cell. The highest External Quantum Efficiency(EQE) was also observed at the sulfurization temperature of $500^{\circ}C$.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.15
no.12
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pp.1070-1074
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2002
We have carried out two-beam interference experiments to form holographic gratings on As$_{40}$ Se$_{15}$ S$_{35}$Ge$_{10}$ single layer, Ag/As$_{40}$ Se$_{15}$ S$_{35}$Ge$_{10}$ multi-layer. In this study, holographic gratings have been formed using He-Ne laser(632.8nm) under different polarization combinations(intensity polarization holography, phase polarization holography). The diffraction efficiency was obtained by the +lst order intensity. The maximum diffraction efficiency of As$_{40}$ Se$_{15}$ S$_{35}$Ge$_{10}$ single layer, As$_{40}$ Se$_{15}$ S$_{35}$Ge$_{10}$ and MgF$_2$/As$_{40}$ Se$_{15}$ S$_{35}$Ge$_{10}$ multi-layer were 0.8%, 1.4% and 3.1% under intensity polarization holography, respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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