$Hf[N(CH_3)_2]_4$ precursor를 이용한 $HfO_2$ 박막의 성장 기구와 전기적 성질에 관한 고찰
(Growth Mechanism and Electrical Properties of ALD-$HfO_2$ thin films deposited with $Hf[N(CH_3)_2]_4$ precursor)
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 2002년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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- pp.103-103
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- 2002