• 제목/요약/키워드: $CH_3CH_2CH_3$

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SnO2 나노 분말의 합성 및 가스 감응 특성 (Gas Sensing Characteristics and Preparation of SnO2 Nano Powders)

  • 이지영;유윤식;유일
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제24권7호
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    • pp.589-593
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    • 2011
  • [ $SnO_2$ ]nano powders were prepared by solution reduction method using tin chloride($SnCl_2{\cdot}2H_2O$), hydrazine($N_2H_4$) and NaOH. The $SnO_2$ thick films for gas sensors were fabricated by screen printing method on alumina substrates and annealed at $300^{\circ}C$ in air, respectively. XRD patterns of the $SnO_2$ nano powders showed the tetragonal structure with (110) dominant orientation. The particle size of $SnO_2$ nano powders at the ratio of $SnCl_2:N_2H_4$+NaOH= 1:6 was about 60 nm. The sensing characteristics were investigated by measuring the electrical resistance of each sensor in a test box. Sensitivity of $SnO_2$ gas sensor to 5 ppm $CH_4$gas and 5 ppm $CH_3CH_2CH_3$ gas was investigated for various $SnCl_2:N_2H_4$+NaOH proportion. The highest sensitivity to $CH_4$ gas and $CH_3CH_2CH_3$ gas of $SnO_2$ sensors was observed at the $SnCl_2:N_2H_4$+NaOH= 1:8 and $SnCl_2:N_2H_4$+NaOH= 1:6, respectively. Response and recovery times of $SnO_2$ gas sensors prepared by $SnCl_2:N_2H_4$+NaOH= 1:6 was about 40 s and 30 s, respectively.

$[FeH(NCCH_2CH_2CH_2Cl)(dppe)_2]^+[BF_4]^- $착물의 합성 및 구조 (Synthesis and Structure of trans$[FeH(NCCH_2CH_2CH_2Cl)(dppe)_2]^+[BF_4]^-$)

  • 이재경;이순원
    • 한국결정학회지
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    • 제9권2호
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    • pp.107-113
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    • 1998
  • Ar하에서 trans-FeHCl(dppe)2, 1을 4-chlorobutyronitrile에 녹이면, 착물 trans-[FeH(NCCH2CH2CH2Cl)(dppe)2]Cl, 2가 생성되고, 2는 NaBF4와 반응하여 착물 trans-[FeH(NCCH2CH2CH2Cl)(dppe)2][BF4], 3로 변환된다. 착물 3의 결정학 자료: 단사정계 공간군 P21/c, a=13.540(2) , b=17.058(3) , c=21.853(4) , β=90.15(1)o, Z=4, R(wR2)=0.0524(0.1239).

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ALD법으로 제조된 $AI_2O_3$막의 유전적 특성 (Improvement in $AI_2O_3$ dielectric behavior by using ozone as an oxidant for the atomic layer deposition technique)

  • 김재범;권덕렬;오기영;이종무
    • 한국진공학회지
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    • 제11권3호
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    • pp.183-188
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    • 2002
  • 지금까지 주로 사용해 오던 TMA(trimethylaluminum, AI$(CH_3)_3)$$H_2O$를 사용하여 ALD(Atomic Layer Deposition)법으로 증착시킨 AI$(CH_3)_3)$막내의 $OH^{-}$기는 AI$(CH_3)_3)$의 우수한 물성을 악화시키는 불순물 역할을 하므로, 이를 개선하기 위하여 본 연구에서는 TMA와 오존(ozone, $O_3$)을 이용하여 AI$(CH_3)_3)$막을 증착한 후, 산화제 소스로 $H_2O$$O_3$을 각각 사용했을 때 그것들이 AI$(CH_3)_3)$막의 유전적 특성에 끼치는 효과에 관하여 비교 조사하였다. XPS 분석결과 $O_3$를 사용한 AI$(CH_3)_3)$막은 $H_2O$를 사용할 때와는 다르게 $OH^{-}$기가 감소됨을 관찰할 수 있었다. 화학적 안정성(chemical inertness)의 척도가 되는 wet 에칭율 또한 $O_3$를 사용한 AI$(CH_3)_3)$막의 경우가 더욱 우수하게 나타났다. TiN을 상부전극으로 한 MIS (metal-insulator-silicon) capacitor 구조로 제작된 AI$(CH_3)_3)$막의 경우 $H_2O$를 사용한 경우 보다 $O_3$를 사용한 경우에 누설전류밀도가 더 낮았고, 절연특성이 더 우수하였으며, $H_2O$보다 $O_3$를 사용했을 때 C-V 전기적이력(hystersis) 곡선의 편차(deviation)가 감소하는 것으로 보아 전기적 특성이 더 향상되었음을 알 수 있었다.

CH4/N2O 및 CH3OH gas를 이용한 Magnetic Tunnel Junction 물질의 식각특성에 관한 연구 (Etch characteristics of MTJ materials using in CH4/N2O or CH3OH gas)

  • 양경채;전민환;염근영
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2014년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.14-14
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    • 2014
  • STT-MRAM의 구성물질인 magnetic tunnel junction의 효과적인 식각을 위하여 다양한 가스 조합을 연구하였다. 그 결과 $CH_4/N_2O$ gas 조합보다는 $CH_3OH$ gas 가 보다 향상된 식각 특성을 나타내었고 pulse duty ratio 변화와 기판온도 변화가 식각특성 향상에 영향을 주었음을 알 수 있었다.

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Volumetric Behaviour of Binary Liquid Mixtures at a Temperature of 303.15 K

  • Wahab, Mohammad A.;Ali, M. Azhar;Mottaleb, Mohammad A.
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제23권7호
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    • pp.953-956
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    • 2002
  • Excess molar volumes (Vm E ) of binary liquid mixtures: xC6H5CH3 + (1-x1)CH3CN or + (1-x1)C6H5NO2, or + (1-x1)C2H5NO2 have been determined as a function of mole fraction of C6H5CH3 (x) at a temperature of 303.15 K over a entire range of composition. The densities of the binary liquid mixtures were determined by pycnometrically. The VmE values of the mixtures have been found to be negative over the whole composition in order of C6H5CH3 + C6H5NO2, < C6H5CH3 + CH3CN, and < C6H5CH3 + C2H5NO2. The negative magnitude of VmE suggests the presence of intermolecular interaction in the three binary liquid mixtures.

A Gas Phaes Kinetic Study of the Energy Transfer by using the High Power CO$_2$ Laser. (II). Decomposition of $BrCH_2CH_2CH_2CH_2Cl$

  • Lee, Yong-Sik;Kim, Yang-Sik;Jeoung, Sae-Chae;Choo, Kwang-Yul
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제9권3호
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    • pp.161-164
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    • 1988
  • Infrared multiphoton decompositions (IRMPD) of $BrCH_2CH_2CH_2CH_2Cl$ were studied by using the pulsed $CO_2$laser. At 0.3 J laser energy the experimentally observed product ratios could be reasonably explained by the RRKM calculation with initial excitation energy of ca. 80 Kcal/mol. The pressure dependence of product yields led us to conclude that the collisional deactivation by the inert gas decreased the yield of low energy dissociation channel more significantly.

TeraScan시스템에서 NOAA/AVHRR 해수면온도 산출시 구름 영향에 따른 신뢰도 부여 기법: 5월 자료 적용 (Generation of Sea Surface Temperature Products Considering Cloud Effects Using NOAA/AVHRR Data in the TeraScan System: Case Study for May Data)

  • 양성수;양찬수;박광순
    • 한국해양환경ㆍ에너지학회지
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    • 제13권3호
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    • pp.165-173
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    • 2010
  • 본 연구에서는 TeraScan시스템에서 산출되는 NOAA/AVHRR 해수면온도(SST) 자료의 신뢰도를 부여하기 위한 방법으로 구름 영향 정도를 단계별로 나누는 방법을 소개한다. TeraScan시스템에서 구름탐지는 주간과 야간에 따라 다른 파라미터와 경계값을 사용한다. 주간 구름탐지에서는 채널 2번(가시채널)과 4번(적외채널)을 이용하며, 채널 4번 휘도온도의 공간일관성(ch4_delta)과 채널 2번 알베도의 공간일관성(ch2_delta) 및 알베도 경계값(ch2_max) 검사를 수행한다. 야간의 경우, 가시채널을 사용할 수 없기 때문에 채널 3번(단파적외채널)과 4번(적외채널)을 사용하여 각 화소에 대한 차이값(ch3_minus_ch4)을 비교하고, 채널 4번 휘도온도 공간일관성(ch4_delta) 및 경계값(min_ch4_temp) 평가가 이루어진다. 여기서는 주야에 따른 변화를 보기 위해 2009년 5월 13일 00시 48분(UTC)과 21시 00분(UTC) 에 수신된 자료를 사용했다. TeraScan시스템을 통해 총 6가지 경계치를 검토했고, ch4_delta는 우리나라 주변 수온 전선에서 발생하는 구름 탐지 오류가 발생하지 않는 값으로 주야간 각각 5와 3.5로 결정되었다. 주간 파라미터로 사용되는 ch2_delta는 여러 값에 대한 적용 결과 2로, ch2_max는 3부터 8까지의 범위가 적절한 것으로 나타났다. 야간에 사용되는 ch3_minus_ch4는 -2부터 2까지의 범위, min_ch4_temp는 0으로 결정되었다. 즉, 구름의 영향 정도는 주간 ch2_max와 야간 ch3_minus_ch4의 경계값을 4 단계로 나눠 해수면온도자료를 산출하였다. 본 연구에서 사용한 경계값은 5월 자료에 대해 설정된 값이며, 향후 한반도 주변 해역의 특성과 시간별, 공간별, 계절별로 적절한 경계값을 설정하는 연구가 장기적으로 필요하며, 위의 특성들을 감안한 자료동화용 SST 생산프로세스 정립 및 결과분석 연구가 필요하다.

A Gas Phase Kinetic Study on the Thermal Decomposition of $ClCH_2CH_2CH_2Br$

  • Kim, Sung-Hoon;Choo, Kwang-Yul;Jung, Kyung-Hoon
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제10권3호
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    • pp.262-269
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    • 1989
  • The gas phase thermal decomposition of 1-bromo-3-chloropropane in the presence of radical inhibitor was studied by using the conventional static system. The mechanism of unimolecular elimination channel is shown below. [...] In this scheme, the total molecular dissociation rate constant, ($k_1\;+\;k_2$), for the decomposition of $BrCH_2CH_2CH_2Cl$ was determined by pyrolyzing the $BrCH_2CH_2CH_2Cl$ in the temperature range of $380-420^{\circ}C$ and in the pressure range of 10∼100 torr. To obtain $k_3\;and\;k_4,\;and\;to\;obtain\;k_1\;and\;k_2$ independently, the thermal decompositions of allyl chloride and allyl bromide were also studied. The Arrhenius parameters for each step are as follows; $log\;A_{\infty}\;=\;14.20(sec^{-1}),\;E_a$ = 56.10(kcal/mol) for reaction path 1; $log\;A_{\infty}\;=\;12.54(sec^{-1}),\;E_a$ = 49.75(kcal/mol) for reaction path 2; $log\;A_{\infty}\;=\;13.41(sec^{-1}),\;E_a$ = 50.04(kcal/mol) for reaction path 3; $log\;A_{\infty}\;=\;12.43(sec^{-1}),\;E_a$ = 52.78(kcal/mol) for reaction path 4; Finally, the experimentally observed pressure dependence of the rate constants in each step is compared with the theoretically predicted values that are obtained by the RRKM calculations.