반응성 스퍼터링으로 제조한 ${Ta_2}{O_5}/{Al_2}{O_3}$ 다충박막의 유전특성
(Dielectric Characteristics of the ${Ta_2}{O_5}/{Al_2}{O_3}$ Multilayer Thin Films Processed by Reactive Sputtering)
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- 한국재료학회지
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- 제11권12호
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- pp.1080-1085
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- 2001