1 |
J. K. Kim and E. F. Schubert, Opt. Express 16, 21835 (2008).
DOI
|
2 |
J. H. Son, Y. H. Song, H. K. Yu, and J.-L. Lee, Appl. Phys. Lett. 95, 062108 (2009).
DOI
|
3 |
T. Y. Nam, D. H. Kim, W. H. Lee, S. J. Kim, B. G. Lee, T. G. Kim, Y. C. Jo, and Y. S. Choi, J. Korean Vacuum Soc. 19, 10 (2010).
DOI
|
4 |
C. H. Chou, C. L. Lin, Y. C. Chung, H. Y. Bor, and C. Y. Liu, Appl. Phys. Lett. 90, 022103 (2007).
DOI
|
5 |
L. -B. Chang, C. -C. Shiue, and M. -J. Jeng, Appl. Phys. Lett. 90, 163515 (2007).
DOI
|
6 |
G. H. Jung, J. H. Son, Y. H. Song, and J. -L. Lee, Appl. Phys. Lett. 96, 201904 (2010).
DOI
|
7 |
S. Kim, J. -H. Jang, and J. -S. Lee, J. Electrochem. Soc. 154, H973-H976 (2007).
DOI
|
8 |
K. -H. Kim, I. -S. Kim, H. -B. Park, I. -H. Bae, J. -I. Yu, and Y. -S. Jang, J. Korean Vacuum Soc. 18, 37 (2009)
DOI
|
9 |
J. -L. Lee, M. H. Weber, J. K. Kim, and K. G. Lynn, Appl. Phys. Lett. 78, 4142 (2001).
DOI
|
10 |
H. W. Jang, J. H. Son, and J. -L. Lee, J. Electrochem. Soc. 155, H563 (2008).
DOI
|
11 |
JCPDS Card No. 04-0783.
|
12 |
H. C. Kim, N. D. Theodore, and T. L. Alford, J. Appl. Phys. 95, 5180 (2004).
DOI
|
13 |
D. J. Srolovitz, Acta Metall. 37, 621 (1989).
DOI
|
14 |
G. F. Malgas, D. Adams, P. Nguyen, Y. Wang, T. L. Alford, and J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 90, 5591 (2001).
DOI
|