1 |
Y. Okuhara, T. Kato, H. Matsubara, N. Isu, M. Takata, Thin solid films, 519, 2280 (2011).
DOI
ScienceOn
|
2 |
E. Fortunato, D. Ginley, H. Hosono, D. C. Paine, MRS Bull, 32, 242 (2007).
DOI
|
3 |
W. F. Wu, W. S. Chiou, Thin solid films, 298, 221 (1998).
|
4 |
H. Kim, R.C.Y. Auyeung, A. Pique, Thin solid films, 516, 5052 (2008).
DOI
ScienceOn
|
5 |
B. Zhang, Y. Tian, J. Zhang, W. Cai, Optoelectronics and advanced materials-rapid communications, 4, 1158 (2011).
|
6 |
Z. M. Jarzebski, J. P. Marton, J. Electrochem. Soc, 123, 199C, (1976).
DOI
|
7 |
K. S. Ramaih, V. S. Raja, Appl. Sur. Sci., 253, 1451 (2006).
DOI
ScienceOn
|
8 |
B. H. Liao, C. C. Kuo, P. J. Chen, C. C. Lee, Appl. Opt., 50, C160 (2011).
|
9 |
J. Ederth, P. Johnsson, G. A. Niklasson, A. Hoel, A. Hultaker, P. Heszler, C. G. Granqvist, A. R. van Doorn, M. J. Jongerius, and D. Burgard, Phys. Rev. B, 68, 155410 (2003).
DOI
ScienceOn
|
10 |
H.C. Lee, J.Y. Seo, Y.W. Choi, D.W. Lee, Vacuum, 72, 269 (2004).
|
11 |
M. Quaas, H. Steffen, R. Hippler, H. Wulff, Surf. Sci., 540, 337 (2003).
DOI
ScienceOn
|
12 |
P. F. Carcia, R. S. McLean, M. H. Reilly, Z. G. Li, L. J. Pillione, R. F. Messier, Appl. Phys. Lett. 81, 1800 (2002).
DOI
ScienceOn
|
13 |
J. C. Hsu, U. S. Chiang, ISRN Materials science, 2013, 710798 (2013).
|
14 |
S. H. Huang, P.H. Cheng, Y. Y. Chen, Chin. Phys. B, 22, 027701 (2013).
DOI
ScienceOn
|
15 |
Y. C. Liang, Appl. Phys A, 97, 249 (2009).
|
16 |
H. N. Cui, V. Teixeira, L. J. Meng, R. Martins, E. Fortunato, Vacuum, 82, 1507 (2008).
DOI
ScienceOn
|
17 |
H. N. Cui, V. Teixeira, A. Monteiro, Vacuum, 67, 589 (2002).
DOI
ScienceOn
|
18 |
Q. H. Li, D. Zhu, W. Liu, Y. Liu, X. C. Ma, Appl. Surf. Sci., 254, 2922 (2008).
DOI
ScienceOn
|