대한전자공학회논문지SD (Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD)

대한전자공학회 (The Institute of Electronics and Information Engineers)
권호 표지

반도체 공정용 기능수의 용해오존 분해장치에 관한 연구

A Study on Dissolved Ozone Decomposer in Ozonated Water for Semiconductor Process

  • 문세호 (호서대학교 전자공학과) ;
  • 채상훈 (호서대학교 전자공학과) ;
  • 손영수 (한국기계연구원 나노융합시스템연구본부)
  • Moon, Se-Ho (Dept. of Electronics Engineering, Hoseo University) ;
  • Chai, Sang-Hoon (Dept. of Electronics Engineering, Hoseo University) ;
  • Son, Young-Su (Nano Convergence System Research Dept., KIMM)
  • 투고 : 2010.10.27
  • 심사 : 2011.04.12
  • 발행 : 2011.05.25
PDF 다운로드
⟨ 이전 논문 다음 논문 ⟩

초록

반도체 및 LCD 세정공정에 사용된 오존수 속의 용해오존을 분해할 수 있는 시스템을 개발함으로써 향후 고성능-저가격의 반도체, LCD PR 박리 및 세정 공정에 적용할 수 있는 핵심 공정기술을 확보하였다. 이 기술을 적용하면 반도체 웨이퍼 및 LCD 평판의 PR 박리 세정 공정을 보다 빠르고 저렴한 비용으로 수행할 수 있으므로 반도체 및 LCD 공정 생산성의 향상을 꾀할 수 있다.

We have developed dissolved ozone decompose system in the used ozonated water for the semiconductor and LCD fabrication processes, which will be base of obtaining core process technology in the high performance, low price semiconductor and LCD fabrications. Using this technology, it is possible for the semiconductor wafer and LCD planer to process more rapid and chip, and productivity will be improved.

키워드

참고문헌

  1. 김한성, 차안정, 배재흠, 이호열, 이명진, 박병덕, "수계/준수계 세정제의 개발 및 전자부품세정공정 적용연구", Clean Technolgy, 제10권 제2호, 61-72쪽, 2004년 10월.
  2. 채상훈, 손영수, "오존수를 이용한 감광막 제거 공정에 관한 연구", 전기전자재료학회 논문지, 제17권 제11호, 1143-1148쪽, 2004년 11월.
  3. 손영수, 채상훈, "PR 제거공정 적용을 위한 오존수 생성기술 연구", 전자공학회 논문지, 제41권 SD편 제12호, 13-19쪽, 2004년 12월.
  4. 문세호, 채상훈, "반도체/LCD PR 제거용 EC의 재이용 기술에 관한 연구", 전자공학회 논문지, 제46권 SD편 제10호, 25-30쪽, 2009년 10월.