References
- J. Wang, J. Lu, S. B. Hocevar and P. A. M. Farias:Anal. Chem., 72 (2000) 3218. https://doi.org/10.1021/ac000108x
- J. Wang, J. Lu, S. B. Hocevar and B. Ogorevc: Electroanal.,13 (2001) 13. https://doi.org/10.1002/1521-4109(200101)13:1<13::AID-ELAN13>3.0.CO;2-F
- J. Wang, J. Lu, Ü. A. Kirgöz, S. B. Hocevar and B. Ogorevc: Anal. Chim. Acta, 434 (2001) 29. https://doi.org/10.1016/S0003-2670(01)00818-2
- S. B. Hocevar, B. Ogorevc, J. Wang and B. Pihlar:Electroanal., 14 (2002) 1707. https://doi.org/10.1002/elan.200290014
- G. Kefala, A. Economou, A. Voulgaropoulos and M. Sofoniou: Talanta, 61 (2003) 603. https://doi.org/10.1016/S0039-9140(03)00350-3
- G. Kefala, A. Economou and A. Voulgaropoulos: Analyst, 129 (2004) 1082. https://doi.org/10.1039/b404978k
- J. Kruusma, C.E. Banks and R. G. Compton: Anal. Bioanal. Chem., 379 (2004) 700.
- C. E Banks, J. Kruusma, R. R. Moore, P. Tomèík, J. Peters, J. Davis, Š. Komorsky-Lovrie and R. G. Compton: Talanta, 65 (2005) 423. https://doi.org/10.1016/j.talanta.2004.06.038
- J. Wang: Electroanal., 17 (2005) 1341. https://doi.org/10.1002/elan.200403270
- R. Pauliukaitë and C. M. A. Brett: Electroanal., 17 (2005) 1354. https://doi.org/10.1002/elan.200403282
- I. Svancara, L. Baldrianova, E. Tesarova, S. B. Hocevar, S. A. A. Elsuccary, A. Economou, S. Sotiropoulos, B. Ogorevc and K. Vytras: Electroanal., 18 (2006)177. https://doi.org/10.1002/elan.200503391
- G.-J. Lee, H. M. Lee and C. K. Rhee: Electrochem. Commun., 9 (2007) 2514. https://doi.org/10.1016/j.elecom.2007.07.030
- G.-J. Lee, H. M. Lee, Y. R. Uhm, M. K. Lee and C. K. Rhee: Electrochem. Commun., 10 (2008) 1920. https://doi.org/10.1016/j.elecom.2008.10.015
- H. M. Lee, G.-J. Lee, H. J. Kim, Y. R. Uhm, H. J. Kim, M. K. Lee and C. K. Rhee: J. Nanosci. Nanotechnol., 10 (2010) 309. https://doi.org/10.1166/jnn.2010.1502
- A. Y. Yermakov, M. A. Uimin, A. A. Mysik, A. Y. Korobeinikov, A. V. Korolyov, N. V. Mushnikov, T. Goto, V. S. Gaviko, N. N. Schegoleva: Mater. Sci. Forum,386-388 (2002) 455. https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.386-388.455
- Y. R. Uhm, W. W. Kim, C. K. Rhee: Phys. Stat. Sol. A, 201 (2004) 1934. https://doi.org/10.1002/pssa.200304560
- B. S. Han, C. K. Rhee, M. K. Lee and Y. R. Uhm: IEEE Trans. Magnetics, 42 (2006) 3779. https://doi.org/10.1109/TMAG.2006.884515
- Y. R. Uhm, B. S. Han, M. K. Lee, S. J. Hong, C. K. Rhee: Mater. Sci. and Eng. A, 449-451 (2007) 813. https://doi.org/10.1016/j.msea.2006.02.427
- G. H. Lee, J. H. Park, C. K. Rhee, W. W. Kim: J. Ind. Eng. Chem., 9 (2003) 71.