Abstract
$SiO_2/TiO_2/ZrO_2$ broadband anti-reflective multi-layer thin films were prepared at room temperature by RF sputtering system. Optical constants and structural properties on each layer of films were analyzed by spectroscopic ellipsometer and transmittance spectra of the films were measured by $UV-V_{is}$ spectrophotometer in the range of 300$\sim$900 nm. To evaluate the films, we compared the measured and analyzed spectra with designed spectra. We investigated influence of discrepancy of thickness and refractive indices of each layer on changes of the transmittance spectra. It was found that refractive indices and shape of dispersion of deposition materials are more contributed to changes of the transmittance spectra than thickness of layer.
RF 스퍼터링 시스템을 이용하여 $SiO_2/TiO_2/ZrO_2$ 광대역 반사방지막을 단계별로 제작하였고, 분광타원계와 $UV-V_{is}$ 분광광도계를 이용하여 박막의 두께, 굴절률 및 투과율 스펙트럼을 300$\sim$900nm의 파장 영역에 걸쳐 측정 및 분석하였다. 측정 및 분석된 박막의 두께, 굴절률 및 투과율 스펙트럼을 설계값과 비교 평가한 결과 각층의 두께, 굴절률의 차이에 따른 투과율의 변화를 분석할 수 있었고, 박막의 두께보다는 굴절률과 굴절률의 분산형태가 투과율의 변화에 더 크게 기여함을 알 수 있었다.
