반도체디스플레이기술학회지 (Journal of the Semiconductor & Display Technology)
- 제4권2호
- /
- Pages.7-10
- /
- 2005
- /
- 1738-2270(pISSN)
니켈 실리사이드의 열안정성에 대한 실리카 상부막과 코발트 중간막의 영향
Effect of silica top layer and Co interlayer on the thermal stability of nickel silicide
- 한길진 (한국기술교육대학교 신소재공학과) ;
- 조유정 (한국기술교육대학교 신소재공학과) ;
- 김영철 (한국기술교육대학교 신소재공학과) ;
- 오순영 (충남대학교 전자공학과) ;
- 김용진 (충남대학교 전자공학과) ;
- 이원재 (충남대학교 전자공학과) ;
- 이희덕 (충남대학교 전자공학과)
- Han Kil Jin (Dept. Materials Engineering, Korea University of Technology and Education) ;
- Cho Yu Jung (Dept. Materials Engineering, Korea University of Technology and Education) ;
- Kim Yeong Cheol (Dept. Materials Engineering, Korea University of Technology and Education) ;
- Oh Soon Young (Dept. of Electronics Engineering, Chungnam National University) ;
- Kim Yong Jin (Dept. of Electronics Engineering, Chungnam National University) ;
- Lee Won Jae (Dept. of Electronics Engineering, Chungnam National University) ;
- Lee Hi Deok (Dept. of Electronics Engineering, Chungnam National University)
- 발행 : 2005.06.01
초록
[