Abstract
A PMOSFET photodetector for highly-sensitive active pixel sensor(APS) is presented. This sensor uses 5V power supply and has been designed and fabricated using I-poly and 2-metal $1.5{\mu}m$ CMOS technology. The feature of a PMOSFET photodetector is that the polysilicon gate of the PMOSFET was connected to n-well, in order to increase the photo sensitivity. The designed MOS photodetector has similar $I_{DS}-V_{DS}$ characteristics with a standard MOSFET. One dimensional image sensor with 16 pixels based on the PMOSFET photodetector has also been designed and fabricated. Unit pixel of the designed sensor consists of a PMOSFET photodetector and 4 NMOSFETs. Unit pixel area is $86{\mu}m{\times}90.5{\mu}m$ and its fill factor is about 12%.
고감도 능동픽셀센서(active pixel sensor, APS)를 위한 PMOSFET 광검출기를 설계 및 제작하였다. 이 센서는 5V의 전원 전압을 사용하며, 1-poly 2-metal $1.5{\mu}m$ CMOS공정으로 제작하였다. 사용된 광검출기는 빛에 대한 감도를 높이기 위해서 n-well과 게이트를 연결한 PHOSFET을 사용하였다. 제작된 광검출기는 일반 MOSFET이 $I_{DS}-V_{DS}$ 곡선과 유사한 특성을 가진다. PMOSFET 광검출기를 기본으로 하여 설계된 1차원 이미지 센서는 16개의 픽셀로 구성되어 있으며, 단위 픽셀은 하나의 PMOSFET 광검출기와 4개의 NMOSFET으로 구성되어있다. 단위 픽셀의 크기는 $86{\mu}m{\times}90.5{\mu}m$이며, 개구율은 약 12%이다.