한국정보통신학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference)

한국정보통신학회 (The Korea Institute of Information and Commucation Engineering)
권호 표지

4가지 무접합 나노선 터널 트랜지스터의 기판 변화에 따른 특성 분석

Characteristic Analysis of 4-Types of Junctionless Nanowire Field-Effect Transistor

  • 오종혁 (한경대학교 전기전자제어공학과) ;
  • 이주찬 (한경대학교 전기전자제어공학과) ;
  • 유윤섭 (한경대학교 전기전자제어공학과)
  • Oh, Jong Hyuck (Dept. of Electrical, Electronic and Control Eng., Hankyong National University) ;
  • Lee, Ju Chan (Dept. of Electrical, Electronic and Control Eng., Hankyong National University) ;
  • Yu, Yun Seop (Dept. of Electrical, Electronic and Control Eng., Hankyong National University)
  • 발행 : 2018.10.18
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초록

무접합 나노선 터널 전계 효과 트렌지스터(junctionless nanowire tunnel field-effect transistor; JLNW-TFET)에서 소스(p+), 채널(i), 드레인(n) 물질으로 실리콘 및 게르마늄을 사용하여 이 구조에 대한 문턱전압 이하 기울기(subthreshold swings; SS)와 구동전류를 관찰했다. 소스-채널을 게르마늄-실리콘일 때 실리콘-실리콘, 실리콘-게르마늄, 게르마늄-게르마늄 구조보다 구동전류가 최대 1000배 증가하였고, 실리콘-실리콘 구조가 다른 구조에 비해 최소 SS가 최대 5배 이상 감소하였다.

Subthreshold swings (SSs) and on-currents of four types of junctionless nanowire tunnel field-effect transistor(JLNW-TFET) are observed. Ge-Si structure for the source-channel junction has the highest drive current among Si-Si, Si-Ge, and Ge-Ge junction, and the drive current increases up to 1000 times compared to others. Minimum SS of Si-Si junction is reduced by up to 5 times more than others.

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