The Effect of Blocking Layer Design Variable on the Characteristics of GaN-based Light-Emitting Diode

차단층 설계 변수가 GaN 기반 LED 특성에 미치는 영향

  • Lee, Jae-Hyun (Graduate School of Information & Communications, Hanbat National University) ;
  • Yeom, Keesoo (Department of Information & Communication Engineering, Hanbat National University)
  • 이재현 (한밭대학교 정보통신전문대학원) ;
  • 염기수 (한밭대학교 정보통신공학과)
  • Published : 2012.10.26

Abstract

In this paper, the output characteristics of GaN-based LED considering blocking layer design variables are analyzed. The basic structure of the LED consists of active region of GaN barrier and InGaN quantum well between AlGaN EBL(Electron Blocking Layer) and AlGaN HBL(Hole Blocking Layer) on GaN buffer layer. The output power, internal quantum efficiency characteristics of LED active region considering Al mole fraction of EBL, thickness of EBL, Al mole fraction of HBL and doping concentration of HBL are analyzed using ISE-TCAD.

본 논문에서는 차단층 설계 변수에 따른 GaN 기반 LED의 출력 특성을 분석하였다. 사용된 LED의 기본 구조는 GaN 버퍼층을 기반으로 GaN 장벽과 InGaN 양자 우물로 이루어진 활성 영역이 AlGaN EBL(Electron Blocking Layer)과 AlGaN HBL(Hole Blocking Layer) 사이에 구성되어 있다. ISE-TCAD를 이용하여 GaN 기반 LED에서 EBL의 Al 몰분율과 두께, HBL의 Al 몰분율과 도핑 농도에 따른 출력 전력과 내부 양자 효율 특성을 분석하였다.

Keywords