한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)

한국전기전자재료학회 (The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers)
권호 표지

RF Magnetron Sputtering법에 의해 증착된 ATO박막의 열처리에 따른 구조적, 전기적, 광학적 특성 변화

Effect of annealing temperature on the Structural, Electrical, Optical Properties of ATO Thin Films by RF Magnetron Sputtering

  • 문인규 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 이성욱 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 박미주 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 김영렬 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 최원석 (한밭대학교) ;
  • 홍병유 (플라즈마응용 표면기술 연구센터)
  • Moon, In-Gyu (School of Information and Communication Engineering, Sungkyunkwan University) ;
  • Lee, Sung-Uk (School of Information and Communication Engineering, Sungkyunkwan University) ;
  • Park, Mi-Ju (School of Information and Communication Engineering, Sungkyunkwan University) ;
  • Kim, Young-Ryeol (School of Information and Communication Engineering, Sungkyunkwan University) ;
  • Choi, Won-Seok (Department of Electrical Engineering, Hanbat National University) ;
  • Hong, Byung-You (Center for Advanced Plasma Surface Technology(CAPST), Sungkyunkwan University)
  • 발행 : 2007.11.01
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초록

본 연구에서는 RF Magnetron Sputtering 법으로 94:6 wt%의 비율로 Sb가 첨가된 $SnO_2$ 타겟을 사용하여 실온에서 ATO(Antimony doped Tin Oxide) 박막을 증착하고, 열처리가 ATO 박막의 구조적, 전기적, 광학적 특성에 미치는 효과를 연구하고자 하였다. ATO 박막의 두께는 약 200 nm로 증착하였으며, 실험 조건으로는 Ar 유량을 100 seem, 진공도는 1, 5, 10 mTorr로 변화시켰으며 스퍼터링 파워는 100, 150, 200, 250 W로 조절하였다. 증착되어진 박막은 vacuum 상태에서 300, $600^{\circ}C$의 온도에서 열처리를 수행하였으며 결과적으로 스퍼터링 파워가 증가함에 따라 비저항이 감소하였고, 250 W의 파워와 10 mTorr의 공정압력 조건에서 $600^{\circ}C$로 열처리한 ATO 박막은 $5{\times}10^{-3}{\Omega}-cm$의 저항률과 85.3%의 높은 투과도를 가지는 우수한 투명 전도막을 얻을 수 있었다.

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