(Via Filling for SIP by Using ionized Metal Plasma PVD and Electroplating)

IMP PVD 및 전기도금을 이용한 SIP용 Via Filling에 대한 연구

  • 조병훈 (한국과학기술원 신소재공학과) ;
  • 이원종 (한국과학기술원 신소재공학과)
  • Published : 2004.11.01