Plasma Doping법과 RTP/ELA법을 사용한 Ultra-thin Strained-SOI의 도핑 활성화와 이 방법을 적용한 MOSFET 제작

• Maeng, Seong-Ryeol ;
• Gang, Tae-Ung ;
• Jo, Won-Ju ;
• Im, Gi-Ju ;
• Jang, Mun-Gyu ;
• Yang, Jong-Heon ;
• Lee, Seong-Jae ;
• Park, Gyeong-Wan

• 맹성렬 (한국전자통신연구원) ;
• 강태웅 (한국전자통신연구원) ;
• 조원주 (한국전자통신연구원) ;
• 임기주 (한국전자통신연구원) ;
• 장문규 (한국전자통신연구원) ;
• 양종헌 (한국전자통신연구원) ;
• 이성재 (한국전자통신연구원) ;
• 박경완 (서울시립대학교 나노전자과)

• Published : 2003.02.14

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