Catalytic Effects of Ar addition for High-rate Dry etching of Ga-based compound semiconductors in High-Density Planar Inductively Coupled BCl3/Ar Plasmas

• Lee, Je-Won ;
• Im, Wan-Tae ;
• Baek, In-Gyu ;
• Jeong, Pil-Gu ;
• Jo, Gwan-Sik ;
• Lee, Ju-In ;
• Jo, Guk-San ;
• Pearton, S.J. (Department of Materials Sci. and Eng., University of Florida)

• 이제원 (인제대학교 나노공학부/나노기술응용연구소) ;
• 임완태 (인제대학교 광대역정보통신학과) ;
• 백인규 (인제대학교 광대역정보통신학과) ;
• 정필구 (인제대학교 광대역정보통신학과) ;
• 조관식 (인제대학교 나노공학부/나노기술응용연구소) ;
• 이주인 (한국표준과학 연구원 나노표면그룹) ;
• 조국산 ((주)클라이오텍) ;

• Published : 2003.02.14

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