Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2003.07a
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- Pages.31-36
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- 2003
Dry Etching of GaAs and AlgaAs Semiconductor Materials in High Density BCl$_3$ , BCl$_3$ /Ar Inductively Coupled Plasmas
BCl$_3$ , BCl$_3$ /Ar 고밀도 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs 와 AlGaAs 반도체 소자의 건식식각
- Lim, Wan-Tae (In-je University) ;
-
Baek, In-Kyoo
(In-je University) ;
-
Lee, Je-Won
(In-je University) ;
- Cho, Guan-Sik (In-je University) ;
-
Jeon, Min-Hyun
(In-je University)
- 임완태 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
-
백인규
(인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
-
이제원
(인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
- 조관식 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
-
전민현
(인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소)
- Published : 2003.07.10
Abstract
We investigated dry etching of GaAs and AlGaAs in a high density planar inductively coupled plasma system with