광 MEMS소자 용 결정질 실리콘의 측면 거칠기 개선

The improvement of the sidewall roughness of the crystalline silicon for optical MEMS devices

  • 윤성식 (광주과학기술원 기전공학과) ;
  • 권호남 (광주과학기술원 기전공학과) ;
  • 양성 (광주과학기술원 기전공학과) ;
  • 김원효 (광주과학기술원 기전공학과) ;
  • 김영윤 (광주과학기술원 기전공학과) ;
  • 전병희 (인덕대 컴퓨터 응용 설계 전공) ;
  • 이종현 (광주과학기술원 기전공학과)
  • 발행 : 2002.07.01

초록

최근 광 스위치, 광학 가변 필터와 같은 광통신용 수동 소자를 구현하기 위해 실리콘 마이크로머시닝 기술을 바탕으로 한 광 MEMS(micro electro mechanical system) 기술이 각광을 받고 있다[1,2]. 특히, 실리콘 기판을 수직 식각하여 제작한 측면 저울은 2$\times$2광 스위치나 광 필터 등에서 반사 평면이나 투과평면으로 많이 이용되고 있다. 광학 평면의 거칠기 특성은 빛의 산란에 의한 광학 손실이나 평행 광 특성 유지 등과 밀접한 관계가 있다. (중략)

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